设备与工具要求不同 无铅锡片焊接操作 有铅锡片焊接操作 焊接设备 需适配高温的设备:- 回流焊炉:需更高温区(如峰值温度255℃~265℃)- 波峰焊:需耐铅-free焊料的钛合金焊...
凭借多年研发积累,公司形成了覆盖光刻胶、焊接材料、电子胶等领域的丰富产品线。在焊接材料方面,不仅提供常规锡膏、助焊膏,还针对特殊场景开发了 BGA 助焊膏、针筒锡膏等定制化产品,满足精密电子组装的...
锡片生产的主要原材料是 锡(Sn),通常以金属锡为基础,根据不同用途可能添加其他合金元素。以下是具体说明: 主要原材料:金属锡 • 来源: ◦ 原...
吉田半导体纳米压印光刻胶 JT-2000:国产技术突破耐高温极限 自主研发 JT-2000 纳米压印光刻胶耐受 250℃高温,为国产纳米器件制造提供关键材料。吉田半导体 JT-2000 纳...
“设备-材料-工艺”闭环验证 吉田半导体与中芯国际、华虹半导体等晶圆厂建立了联合研发机制,针对28nm及以上成熟制程开发专门使用光刻胶,例如其KrF光刻胶已通过中芯国际北京厂的产线验证,良率...
锡片因具有低熔点、良好的导电性、耐腐蚀性及延展性等特性,在多个领域有广泛应用。以下是其常见用途分类及具体说明: 一、电子与电气行业 电子焊接(主要用途) ...
技术优势:23年研发沉淀与细分领域突破 全流程自主化能力 吉田在光刻胶研发中实现了从树脂合成、光引发剂制备到配方优化的全流程自主化。例如,其纳米压印光刻胶通过自主开发...
关键工艺流程 涂布与前烘: ◦ 旋涂或喷涂负性胶,厚度可达1-100μm(远厚于正性胶),前烘温度60-90℃,去除溶剂并增强附着力。 曝光: ...
公司遵循国际质量管理标准,通过 ISO9001:2008 认证,并在生产过程中执行 8S 现场管理,从原料入库到成品出库实现全流程监控。以锡膏产品为例,其无卤无铅配方符合环保要求,同时具备低飞溅、...
光刻胶(如液晶平板显示器光刻胶) 液晶平板显示器制造:在液晶平板显示器(LCD)的生产过程中,光刻胶用于制作液晶盒内的各种精细图案,包括像素电极、公共电极、取向层图案等。这些图案的精...
广东吉田半导体材料有限公司,坐落于松山湖经济技术开发区,是半导体材料领域的一颗璀璨明珠。公司注册资本 2000 万元,专注于半导体材料的研发、生产与销售,是国家高新技术企业、广东省专精特新企业以及...
广东吉田半导体材料有限公司以全球化视野布局市场,通过严格的质量管控与完善的服务体系赢得客户信赖。公司产品不仅通过 ISO9001 认证,更以进口原材料和精细化生产流程保障品质,例如锡膏产品采用无卤...
技术研发:从配方到工艺的经验壁垒 配方设计的“黑箱效应” 光刻胶配方涉及成百上千种成分的排列组合,需通过数万次实验优化。例如,ArF光刻胶需在193nm波长下实现0....
广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品,各有特性与优势,适用于不同领域。 LCD 正性光刻胶 YK - 200:具有较大曝光、高分辨率、良好涂布和附着力的特点,重量 100g。适用于液晶显...
国际标准与客户认证 公司通过ISO9001、ISO14001等认证,并严格执行8S现场管理,生产环境洁净度达Class 10级。其光刻胶产品已通过京东方、TCL华星的供应商认证,在显示面板领...
半导体封装领域 • 芯片与基板焊接: ◦ 采用SAC305焊片焊接QFP、BGA等封装的芯片与引线框架/陶瓷基板,确保电连接与机械强度。 ...
以无卤无铅配方与低 VOC 工艺为,吉田半导体打造环保光刻胶,助力电子产业低碳转型。面对全球环保趋势,吉田半导体推出无卤无铅锡膏与焊片,通过欧盟 RoHS 认证,焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光...
吉田半导体突破 ArF 光刻胶技术壁垒,国产替代再迎新进展 自主研发 ArF 光刻胶通过中芯国际验证,吉田半导体填补国内光刻胶空白。 吉田半导体成功研发出 AT-450 ArF 光刻胶,分...
关键应用领域 半导体制造: ◦ 在晶圆表面涂覆光刻胶,通过掩膜曝光、显影,刻蚀出晶体管、电路等纳米级结构(如EUV光刻胶用于7nm以下制程)。 印...
广东吉田半导体材料有限公司凭借技术创新与质量优势,在半导体材料行业占据重要地位。公司聚焦光刻胶、电子胶、锡膏等产品,其中纳米压印光刻胶可耐受 250℃高温及强酸强碱环境,适用于高精度纳米结构制造;...
吉田半导体 JT-3001 厚板光刻胶:欧盟 RoHS 认证,PCB 电路板制造 凭借抗深蚀刻性能与环保特性,吉田 JT-3001 厚板光刻胶成为 PCB 行业材料。 吉田半导体推出的 J...
广东吉田半导体材料有限公司凭借技术创新与质量优势,在半导体材料行业占据重要地位。公司聚焦光刻胶、电子胶、锡膏等产品,其中纳米压印光刻胶可耐受 250℃高温及强酸强碱环境,适用于高精度纳米结构制造;...
光刻胶(Photoresist)是一种对光敏感的高分子材料,主要用于光刻工艺中,通过光化学反应实现图案的转移,是半导体、集成电路(IC)、印刷电路板(PCB)、液晶显示(LCD)等制造领域的材料之...
公司遵循国际质量管理标准,通过 ISO9001:2008 认证,并在生产过程中执行 8S 现场管理,从原料入库到成品出库实现全流程监控。以锡膏产品为例,其无卤无铅配方符合环保要求,同时具备低飞溅、...
公司严格执行 ISO9001:2008 质量管理体系与 8S 现场管理标准,通过工艺革新与设备升级实现生产过程的低污染、低能耗。注塑废气、喷涂废气经多级净化处理后达标排放,生活污水经预处理后纳入市...
研发投入的“高门槛” 一款KrF光刻胶的研发费用约2亿元,而国际巨头年研发投入超10亿美元。国内企业如彤程新材2024年半导体光刻胶业务营收只5.4亿元,研发投入占比不足15%,难以支撑长...
不同光刻胶类型的适用场景对比 类型 波长范围 分辨率 典型应用产品 G线/i线光刻胶 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩阵 吉田半导体JT-100系列 ...
广东吉田半导体材料有限公司以光刻胶为中心,逐步拓展至半导体全材料领域,形成了 “技术驱动、全产业链覆盖” 的发展格局。公司产品不仅包括芯片与 LCD 光刻胶,还延伸至锡膏、焊片、靶材等配套材...
国家大基金三期:注册资本3440亿元,明确将光刻胶列为重点投资领域,计划投入超500亿元支持树脂、光引发剂等原料研发,相当于前两期投入总和的3倍。 地方专项政策:湖北省对通过验证...
先进制程瓶颈突破 KrF/ArF光刻胶的量产能力提升直接推动7nm及以下制程的国产化进程。例如,恒坤新材的KrF光刻胶已批量供应12英寸产线,覆盖7nm工艺,其工艺宽容度较日本同类型产品提...