• 化学反应： ◦ 正性胶：曝光后光敏剂（如重氮醌DQN）分解，生成羧酸，在碱性显影液中溶解； ...

晶圆制造（前道工艺） • 功能：在硅片表面形成高精度电路图形，是光刻工艺的主要材料。 ...

定义与特性 正性光刻胶是一种在曝光后，曝光区域会溶解于显影液的光敏材料，形成与掩膜版（Mask）图案一致的...

作为深耕半导体材料领域二十余年的综合性企业，广东吉田半导体材料有限公司始终将技术创新与产品质量视为重要发展动力。公司位...

行业地位与竞争格局 1. 国际对比 ◦ 技术定位：聚焦细分市场（如纳米压印、LCD），...