企业定位与资质 ◦ 成立背景:深耕半导体材料行业23年,位于松山湖经济技术开发区,注册资本2000万元,是国家高新技术企业、广东省专精特新企业及广东省创新型中小企业。 ...
行业地位与竞争格局 1. 国际对比 ◦ 技术定位:聚焦细分市场(如纳米压印、LCD),而国际巨头(如JSR、东京应化)主导半导体光刻胶(ArF、EUV)。 ...
光伏组件的「阳光桥梁」:每块太阳能电池板需焊接60-120片焊带(镀锡铜带),锡层厚度只有5μm却至关重要——它既能抵御户外酸雨(pH≤5.6)的侵蚀(年腐蚀量<0.1μm),又能降低电池片与焊带...
研发投入的“高门槛” 一款KrF光刻胶的研发费用约2亿元,而国际巨头年研发投入超10亿美元。国内企业如彤程新材2024年半导体光刻胶业务营收只5.4亿元,研发投入占比不足15%,难以支撑长...
光伏电池(半导体级延伸) • HJT/TOPCon电池:在硅片表面图形化金属电极,使用高灵敏度光刻胶(曝光能量≤50mJ/cm²),线宽≤20μm,降低遮光损失。 ...
研发投入 ◦ 拥有自己实验室和研发团队,研发费用占比超15%,聚焦EUV光刻胶前驱体、低缺陷纳米压印胶等前沿领域,与中山大学、华南理工大学建立产学研合作。 ...
广东吉田半导体材料有限公司成立于松山湖经济技术开发区,是一家专注于半导体材料研发、生产与销售的技术企业。公司注册资本 2000 万元,拥有 23 年行业经验,产品涵盖芯片光刻胶、纳米压印光刻胶、L...
吉田半导体突破 ArF 光刻胶技术壁垒,国产替代再迎新进展 自主研发 ArF 光刻胶通过中芯国际验证,吉田半导体填补国内光刻胶空白。 吉田半导体成功研发出 AT-450 ArF 光刻胶,分...
吉田半导体 YK-300 正性光刻胶:半导体芯片制造的材料 YK-300 正性光刻胶以高分辨率与耐蚀刻性,成为 45nm 及以上制程的理想选择。 YK-300 正性光刻胶分辨率达 0.35...
广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品,主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别,以满足不同领域的需求。 厚板光刻胶:JT-3001 型号,具有优异的分辨率和感光度,抗...
工艺流程 • 目的:去除基板表面油污、颗粒,增强感光胶附着力。 • 方法: ◦ 化学清洗(硫酸/双氧水、去离子水); ◦...
吉田半导体突破光刻胶共性难题,提升行业生产效率,通过优化材料配方与工艺,吉田半导体解决光刻胶留膜率低、蚀刻损伤等共性问题,助力客户降本增效。 针对传统光刻胶留膜率低、蚀刻损伤严重等问题,吉田半导体研发...
正性光刻胶 半导体分立器件制造:对于二极管、三极管等半导体分立器件,正性光刻胶可实现精细的图形化加工,满足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件时,正性光刻胶凭借其高分辨率和良...
公司严格执行 ISO9001:2008 质量管理体系与 8S 现场管理标准,通过工艺革新与设备升级实现生产过程的低污染、低能耗。注塑废气、喷涂废气经多级净化处理后达标排放,生活污水经预处理后纳入市...
研发投入 ◦ 拥有自己实验室和研发团队,研发费用占比超15%,聚焦EUV光刻胶前驱体、低缺陷纳米压印胶等前沿领域,与中山大学、华南理工大学建立产学研合作。 ...
纳米制造与表面工程 • 纳米结构模板:作为纳米压印光刻(NIL)的母版制备材料,通过电子束光刻胶写出高精度纳米图案(如50nm以下的柱阵列、孔阵列),用于批量复制微流控芯片或柔性显...
吉田半导体助力区域经济,构建半导体材料生态圈,发挥企业作用,吉田半导体联合上下游资源,推动东莞松山湖半导体产业协同创新。 作为松山湖产业集群重要成员,吉田半导体联合光刻机制造商、光电子企业共建材料生态...
光刻胶(Photoresist)是一种对光敏感的高分子材料,主要用于光刻工艺中,通过光化学反应实现图案的转移,是半导体、集成电路(IC)、印刷电路板(PCB)、液晶显示(LCD)等制造领域的材料之...
广东吉田半导体材料有限公司以光刻胶为中心,逐步拓展至半导体全材料领域,形成了 “技术驱动、全产业链覆盖” 的发展格局。公司产品不仅包括芯片与 LCD 光刻胶,还延伸至锡膏、焊片、靶材等配套材...
吉田半导体突破 ArF 光刻胶技术壁垒,国产替代再迎新进展 自主研发 ArF 光刻胶通过中芯国际验证,吉田半导体填补国内光刻胶空白。 吉田半导体成功研发出 AT-450 ArF 光刻胶,分...
吉田半导体厚板光刻胶 JT-3001:国产技术助力 PCB 行业升级 JT-3001 厚板光刻胶支持 500nm/min 深蚀刻,成为国产 PCB 电路板制造推荐材料。 吉田半导体自主研发...
吉田半导体的光刻胶产品覆盖芯片制造、显示面板、PCB 及微纳加工等领域,通过差异化技术(如纳米压印、厚膜工艺)和环保特性(水性配方),满足从传统电子到新兴领域(如第三代半导体、Mini LED)的多样...
技术趋势与挑战 半导体先进制程: ◦ EUV光刻胶需降低缺陷率(目前每平方厘米缺陷数<10个),开发低粗糙度(≤5nm)材料; ◦ 极...
行业地位与竞争格局 1. 国际对比 ◦ 技术定位:聚焦细分市场(如纳米压印、LCD),而国际巨头(如JSR、东京应化)主导半导体光刻胶(ArF、EUV)。 ...
光刻胶的工作原理: 1. 涂覆与曝光:在基底(如硅片、玻璃、聚合物)表面均匀涂覆光刻胶,通过掩膜(或直接电子束扫描)对特定区域曝光。 2. 化学变化:曝光区域的光刻...
广东吉田半导体材料有限公司成立于 2023 年,总部位于东莞松山湖经济技术开发区,注册资本 2000 万元。作为高新企业和广东省专精特新企业,公司专注于半导体材料的研发、生产与销售,产品线覆盖芯片...
广东吉田半导体材料有限公司以全球化视野布局市场,通过严格的质量管控与完善的服务体系赢得客户信赖。公司产品不仅通过 ISO9001 认证,更以进口原材料和精细化生产流程保障品质,例如锡膏产品采用无卤...
吉田半导体助力区域经济,构建半导体材料生态圈,发挥企业作用,吉田半导体联合上下游资源,推动东莞松山湖半导体产业协同创新。 作为松山湖产业集群重要成员,吉田半导体联合光刻机制造商、光电子企业共建材料生态...
技术验证周期长 半导体光刻胶的客户验证周期通常为2-3年,需经历PRS(性能测试)、STR(小试)、MSTR(批量验证)等阶段。南大光电的ArF光刻胶自2021年启动验证,预计2025年才...
广东吉田半导体材料有限公司成立于 2023 年,总部位于东莞松山湖经济技术开发区,注册资本 2000 万元。作为高新企业和广东省专精特新企业,公司专注于半导体材料的研发、生产与销售,产品线覆盖芯片...