应用场景 半导体集成电路(IC)制造: ◦ 逻辑芯片(CPU/GPU):在28nm以下制程中,正性DUV/EUV胶用于晶体管、互连布线的精细图案化(如10...
技术验证周期长 半导体光刻胶的客户验证周期通常为2-3年,需经历PRS(性能测试)、STR(小试)、MSTR(批量验证)等阶段。南大光电的ArF光刻胶自2021年启动验证,预计2025年才...
焊点缺陷控制不同 无铅锡片焊接操作 有铅锡片焊接操作 常见缺陷 易出现 焊点空洞、裂纹、不润湿(因冷却收缩率大,约2.1%),尤其在BGA等大面积焊点中风险高。 主要缺陷为 虚焊...
焊接工艺差异 无铅锡片 有铅锡片 焊接温度 需更高温度(240℃以上),可能导致PCB板材(如FR-4)受热变形、元件引脚氧化加剧,需优化设备温控精度(±5℃以内)。 焊接温度低...
LCD显示 • 彩色滤光片(CF): ◦ 黑色矩阵(BM)光刻胶:隔离像素,线宽精度±2μm,透光率<0.1%。 ◦ RGB色阻光刻胶:形成红/绿/...
国家大基金三期:注册资本3440亿元,明确将光刻胶列为重点投资领域,计划投入超500亿元支持树脂、光引发剂等原料研发,相当于前两期投入总和的3倍。 地方专项政策:湖北省对通过验证...
物理与机械性能 无铅锡片 有铅锡片 熔点 较高,通常在217℃~260℃之间(取决于合金成分,如SAC305熔点217℃,Sn-Cu合金熔点227℃),焊接需更高温度(240℃~...
不同光刻胶类型的适用场景对比 类型 波长范围 分辨率 典型应用产品 G线/i线光刻胶 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩阵 吉田半导体JT-100系列 ...
聚焦先进封装需求,吉田半导体提供从光刻胶到配套材料的一站式服务,助力高性能芯片制造。 在 5G 芯片与 AI 处理器封装领域,吉田半导体研发的 SU-3 负性光刻胶支持 3μm 厚膜加工,抗深蚀刻速率...
技术研发:从配方到工艺的经验壁垒 配方设计的“黑箱效应” 光刻胶配方涉及成百上千种成分的排列组合,需通过数万次实验优化。例如,ArF光刻胶需在193nm波长下实现0....
半导体封装领域 • 芯片与基板焊接: ◦ 采用SAC305焊片焊接QFP、BGA等封装的芯片与引线框架/陶瓷基板,确保电连接与机械强度。 ...
关键应用领域 半导体制造: ◦ 在晶圆表面涂覆光刻胶,通过掩膜曝光、显影,刻蚀出晶体管、电路等纳米级结构(如EUV光刻胶用于7nm以下制程)。 印...
广东吉田半导体材料有限公司凭借技术创新与质量优势,在半导体材料行业占据重要地位。公司聚焦光刻胶、电子胶、锡膏等产品,其中纳米压印光刻胶可耐受 250℃高温及强酸强碱环境,适用于高精度纳米结构制造;...
吉田半导体 JT-3001 厚板光刻胶:欧盟 RoHS 认证,PCB 电路板制造 凭借抗深蚀刻性能与环保特性,吉田 JT-3001 厚板光刻胶成为 PCB 行业材料。 吉田半导体推出的 J...
广东吉田半导体材料有限公司凭借技术创新与质量优势,在半导体材料行业占据重要地位。公司聚焦光刻胶、电子胶、锡膏等产品,其中纳米压印光刻胶可耐受 250℃高温及强酸强碱环境,适用于高精度纳米结构制造;...
光刻胶(Photoresist)是一种对光敏感的高分子材料,主要用于光刻工艺中,通过光化学反应实现图案的转移,是半导体、集成电路(IC)、印刷电路板(PCB)、液晶显示(LCD)等制造领域的材料之...
公司遵循国际质量管理标准,通过 ISO9001:2008 认证,并在生产过程中执行 8S 现场管理,从原料入库到成品出库实现全流程监控。以锡膏产品为例,其无卤无铅配方符合环保要求,同时具备低飞溅、...
公司严格执行 ISO9001:2008 质量管理体系与 8S 现场管理标准,通过工艺革新与设备升级实现生产过程的低污染、低能耗。注塑废气、喷涂废气经多级净化处理后达标排放,生活污水经预处理后纳入市...
研发投入的“高门槛” 一款KrF光刻胶的研发费用约2亿元,而国际巨头年研发投入超10亿美元。国内企业如彤程新材2024年半导体光刻胶业务营收只5.4亿元,研发投入占比不足15%,难以支撑长...
不同光刻胶类型的适用场景对比 类型 波长范围 分辨率 典型应用产品 G线/i线光刻胶 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩阵 吉田半导体JT-100系列 ...
广东吉田半导体材料有限公司以光刻胶为中心,逐步拓展至半导体全材料领域,形成了 “技术驱动、全产业链覆盖” 的发展格局。公司产品不仅包括芯片与 LCD 光刻胶,还延伸至锡膏、焊片、靶材等配套材...
国家大基金三期:注册资本3440亿元,明确将光刻胶列为重点投资领域,计划投入超500亿元支持树脂、光引发剂等原料研发,相当于前两期投入总和的3倍。 地方专项政策:湖北省对通过验证...
先进制程瓶颈突破 KrF/ArF光刻胶的量产能力提升直接推动7nm及以下制程的国产化进程。例如,恒坤新材的KrF光刻胶已批量供应12英寸产线,覆盖7nm工艺,其工艺宽容度较日本同类型产品提...
关键工艺流程 涂布与前烘: ◦ 旋涂或喷涂负性胶,厚度可达1-100μm(远厚于正性胶),前烘温度60-90℃,去除溶剂并增强附着力。 曝光: ...
先进制程瓶颈突破 KrF/ArF光刻胶的量产能力提升直接推动7nm及以下制程的国产化进程。例如,恒坤新材的KrF光刻胶已批量供应12英寸产线,覆盖7nm工艺,其工艺宽容度较日本同类型产品提...
上游原材料: ◦ 树脂:彤程新材、鼎龙股份实现KrF/ArF光刻胶树脂自主合成,金属杂质含量<5ppb(国际标准<10ppb)。 ◦ 光引发剂:久日新材攻克...
工艺流程 • 目的:去除基板表面油污、颗粒,增强感光胶附着力。 • 方法: ◦ 化学清洗(硫酸/双氧水、去离子水); ◦...
定义与特性 正性光刻胶是一种在曝光后,曝光区域会溶解于显影液的光敏材料,形成与掩膜版(Mask)图案一致的图形。与负性光刻胶(未曝光区域溶解)相比,其优势是分辨率高、图案边缘清...
国家大基金三期:注册资本3440亿元,明确将光刻胶列为重点投资领域,计划投入超500亿元支持树脂、光引发剂等原料研发,相当于前两期投入总和的3倍。 地方专项政策:湖北省对通过验证...
产品特点:耐溶剂型优良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能优良;经特殊乳化聚合技术处理,网版平滑、无白点、无沙眼、亮度高;剥膜性好,网版可再生使用;解像性、高架桥性好,易做...