半导体集成电路 • 应用场景: ◦ 晶圆制造:正性胶为主(如ArF/EUV胶),实现20nm以下线宽,用于晶体管栅极、接触孔等精细结构; ◦ 封装...
主要原材料“卡脖子”:从树脂到光酸的依赖 树脂与光酸的技术断层 光刻胶成本中50%-60%来自树脂,而国内KrF/ArF光刻胶树脂的单体国产化率不足10%。例如,日本...
纳米制造与表面工程 • 纳米结构模板:作为纳米压印光刻(NIL)的母版制备材料,通过电子束光刻胶写出高精度纳米图案(如50nm以下的柱阵列、孔阵列),用于批量复制微流控芯片或柔性显...
按厚度划分的通用规格 超薄锡片 ◦ 0.03~0.1mm: 典型应用于电子焊接(如BGA锡球、精密芯片封装)、科研材料或特殊电子元件,要求高纯度(...
广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品,主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别,以满足不同领域的需求。 厚板光刻胶:JT-3001 型号,具有优异的分辨率和感光度,抗...
吉田半导体突破光刻胶共性难题,提升行业生产效率,通过优化材料配方与工艺,吉田半导体解决光刻胶留膜率低、蚀刻损伤等共性问题,助力客户降本增效。 针对传统光刻胶留膜率低、蚀刻损伤严重等问题,吉田半导体研发...
吉田半导体助力区域经济,构建半导体材料生态圈,发挥企业作用,吉田半导体联合上下游资源,推动东莞松山湖半导体产业协同创新。 作为松山湖产业集群重要成员,吉田半导体联合光刻机制造商、光电子企业共建材料生态...
在半导体材料领域,广东吉田半导体材料有限公司凭借 23 年技术沉淀,已成为国内光刻胶行业的企业。公司产品线覆盖正性、负性、厚膜、纳米压印等多类型光刻胶,广泛应用于芯片制造、LCD 显示、PCB 电...
作为东莞松山湖的企业,吉田半导体深耕光刻胶领域 23 年,成功研发出 YK-300 半导体正性光刻胶与 JT-2000 纳米压印光刻胶。YK-300 适用于 45nm 及以上制程,线宽粗糙度(LWR)...
关键应用领域 半导体制造: ◦ 在晶圆表面涂覆光刻胶,通过掩膜曝光、显影,刻蚀出晶体管、电路等纳米级结构(如EUV光刻胶用于7nm以下制程)。 印...
主要应用场景 消费电子 ◦ 手机、笔记本电脑主板:焊接微型芯片(如BGA、QFP),保障信号传输稳定与长期使用可靠性。 ◦ 可穿戴设备...
公司严格执行 ISO9001:2008 质量管理体系与 8S 现场管理标准,通过工艺革新与设备升级实现生产过程的低污染、低能耗。注塑废气、喷涂废气经多级净化处理后达标排放,生活污水经预处理后纳入市...
技术挑战与应对 熔点较高 ◦ 传统含铅焊料熔点约183℃,无铅锡片(如SAC305)熔点提升至217℃,需调整焊接设备温度,避免元器件过热损坏。 ...
焊片(锡基焊片)主要特性 材料与性能 ◦ 高纯度合金:采用进口原材料,锡基合金纯度高(如Sn96.5/Ag3.0/Cu0.5等配比),杂质含量低,确保焊接...
选型建议 按应用场景: ◦ 半导体封装:优先选择吉田半导体、Alpha、Heraeus,适配高精度与耐高温需求。 ◦ 消费电子:同方电子、KOKI...
光伏电池(半导体级延伸) • HJT/TOPCon电池:在硅片表面图形化金属电极,使用高灵敏度光刻胶(曝光能量≤50mJ/cm²),线宽≤20μm,降低遮光损失。 ...
对比国际巨头的差异化竞争力 维度 吉田光刻胶 国际巨头(如JSR、东京应化) 技术定位 聚焦细分市场(如纳米压印、LCD) 主导高级半导体光刻胶(ArF、EUV) 成本...
合金化添加材料(根据用途) • 焊锡片(电子焊接用): 常添加 铅(Pb)(传统含铅焊锡)、银(Ag)、铜(Cu)、铋(Bi)、锑(Sb) 等,形成锡基合金(如Sn-P...
耐腐蚀性的化学机制 表面氧化膜的保护作用 ◦ 锡(Sn)在常温下与空气中的氧气反应,生成一层致密的二氧化锡(SnO₂)薄膜,该膜附着性强,能有效阻止氧气和...
锡片因具有低熔点、良好的导电性、耐腐蚀性及延展性等特性,在多个领域有广泛应用。以下是其常见用途分类及具体说明: 一、电子与电气行业 电子焊接(主要用途) ...
技术验证周期长 半导体光刻胶的客户验证周期通常为2-3年,需经历PRS(性能测试)、STR(小试)、MSTR(批量验证)等阶段。南大光电的ArF光刻胶自2021年启动验证,预计2025年才...
吉田半导体 YK-300 正性光刻胶:半导体芯片制造的材料 YK-300 正性光刻胶以高分辨率与耐蚀刻性,成为 45nm 及以上制程的理想选择。 YK-300 正性光刻胶分辨率达 0.35...
先进制程瓶颈突破 KrF/ArF光刻胶的量产能力提升直接推动7nm及以下制程的国产化进程。例如,恒坤新材的KrF光刻胶已批量供应12英寸产线,覆盖7nm工艺,其工艺宽容度较日本同类型产品提...
工艺流程 • 目的:去除基板表面油污、颗粒,增强感光胶附着力。 • 方法: ◦ 化学清洗(硫酸/双氧水、去离子水); ◦...
广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品,主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别,以满足不同领域的需求。 UV 纳米压印光刻胶:JT-2000 型号,耐强酸强碱,耐高温达 25...
选型建议 按应用场景: ◦ 半导体封装:优先选择吉田半导体、Alpha、Heraeus,适配高精度与耐高温需求。 ◦ 消费电子:同方电子、KOKI...
助焊剂与润湿性处理不同 无铅锡片焊接操作 有铅锡片焊接操作 润湿性问题 纯锡表面张力大(约500 mN/m),润湿性差,焊点易出现不规则边缘或漏焊。 锡铅合金表面张力小(约450 m...
定义与特性 负性光刻胶是一种在曝光后,未曝光区域会溶解于显影液的光敏材料,形成与掩膜版(Mask)图案相反的图形。与正性光刻胶相比,其主要特点是耐蚀刻性强、工艺简单、成本低,但...
工业制造与材料加工 衬垫与密封材料 ◦ 锡片因延展性强、耐低温,可作为高温或高压环境下的密封垫片(如管道连接、机械部件密封),尤其适合需要无火花、低摩擦的场景(如...
国产替代进程加速 日本信越化学因地震导致KrF光刻胶产能受限后,国内企业加速验证本土产品。鼎龙股份潜江工厂的KrF/ArF产线2024年12月获两家大厂百万大单,二期300吨生产线在建。武...