在半导体失效分析(Failure Analysis, FA)流程中,Thermal EMMI 是承上启下的关键环节。此前,工程师需要依靠大量电性参数测试、扫描声学显微镜或X射线等方法逐步缩小可疑范围,...
RTTLITP20热红外显微镜通过多元化的光学物镜配置,构建起从宏观到纳米级的全尺度热分析能力,灵活适配多样化的检测需求。Micro广角镜头可快速覆盖整块电路板、大型模组等大尺寸样品,直观呈现整体热分...
随后,通过去层处理逐步去除芯片中的金属布线层和介质层,配合扫描电子显微镜(SEM)的高分辨率成像以及光学显微镜的细节观察,进一步确认缺陷的具体形貌。这些缺陷可能表现为金属线路的腐蚀、氧化层的剥落或晶体...
热红外显微镜在半导体IC裸芯片的热检测中具有不可替代的作用。裸芯片内部结构高度精密、集成度极高,即便是微小的热异常,也可能影响性能甚至引发失效,因此精确的热检测至关重要。 依托非接触式成像原...
作为国内半导体失效分析设备领域的原厂,苏州致晟光电科技有限公司(简称“致晟光电”)专注于ThermalEMMI系统的研发与制造。与传统热红外显微镜相比,ThermalEMMI的主要差异在于其功能定位:...
在微电子、半导体以及材料研究等高精度领域,温度始终是影响器件性能与寿命的重要因素。随着芯片工艺向高密度和高功率方向发展,器件内部的热行为愈发复杂。传统的热测试方法由于依赖接触探测,往往在空间分辨率、灵...
Thermal EMMI的制冷技术不断升级,提升了探测器的灵敏度。探测器的噪声水平与其工作温度密切相关,温度越低,噪声越小,检测灵敏度越高。早期的 thermal emmi 多采用液氮制冷,虽能降低温...
热红外显微镜在半导体IC裸芯片的热检测中具有不可替代的作用。裸芯片内部结构高度精密、集成度极高,即便是微小的热异常,也可能影响性能甚至引发失效,因此精确的热检测至关重要。 依托非接触式成像原...
微光显微镜 EMMI(Emission Microscopy)是一种利用半导体器件在通电运行时产生的极微弱光辐射进行成像的失效分析技术。这些光辐射并非可见光,而是源于载流子在高电场或缺陷区复合时释放的...
与传统的半导体失效检测技术,如 X 射线成像和电子显微镜相比,EMMI 展现出独特优势。X 射线成像虽能洞察芯片内部结构,但对因电学异常引发的微小缺陷敏感度不足;电子显微镜虽可提供超高分辨率微观图像,...
对于半导体研发工程师而言,排查失效问题往往是一场步步受阻的过程。在逐一排除外围电路异常、生产工艺缺陷等潜在因素后,若仍无法定位问题根源,往往需要依赖芯片原厂介入,借助剖片分析手段深入探查芯片内核。然而...
在电子器件和半导体元件的检测环节中,如何在不损坏样品的情况下获得可靠信息,是保证研发效率和产品质量的关键。传统分析手段,如剖片、电镜扫描等,虽然能够提供一定的内部信息,但往往具有破坏性,导致样品无法重...
EMMI的本质只是一台光谱范围广,光子灵敏度高的显微镜。 但是为什么EMMI能够应用于IC的失效分析呢? 原因就在于集成电路在通电后会出现三种情况: 1.载流子复合;2.热载流子...
在利用显微镜发光技术对栅氧化层缺陷进行定位的失效分析中,薄氧化层的击穿现象尤为关键。然而,当多晶硅与阱区的掺杂类型一致时,击穿过程未必伴随空间电荷区的形成,这使其发光机制更具复杂性。具体而言,当局部电...
随后,通过去层处理逐步去除芯片中的金属布线层和介质层,配合扫描电子显微镜(SEM)的高分辨率成像以及光学显微镜的细节观察,进一步确认缺陷的具体形貌。这些缺陷可能表现为金属线路的腐蚀、氧化层的剥落或晶体...
致晟光电的EMMI微光显微镜已广泛应用于集成电路制造、封测、芯片设计验证等环节。在失效分析中,它可以快速锁定ESD损伤点、漏电通道、局部短路以及工艺缺陷,从而帮助客户在短时间内完成问题定位并制定改进方...
随着电子器件结构的日益复杂化,检测需求也呈现出多样化趋势。科研实验室往往需要对材料、器件进行深度探索,而工业生产线则更注重检测效率与稳定性。微光显微镜在设计上充分考虑了这两方面需求,通过模块化配置实现...
与市场上同类产品相比,致晟光电的EMMI微光显微镜在灵敏度、稳定性和性价比方面具备优势。得益于公司自主研发的实时图像处理算法与暗噪声抑制技术,设备在捕捉低功耗器件缺陷时依然能保持高清成像。同时,系统采...
在致晟光电的微光显微镜系统中,光发射显微技术凭借优化设计的光学系统与制冷型 InGaAs 探测器,能够捕捉低至皮瓦(pW)级别的微弱光子信号。这一能力使其在检测栅极漏电、PN 结微短路等低强度发光失效...
EMMI 的技术基于半导体物理原理,当半导体器件内部存在缺陷导致异常电学行为时,会引发电子 - 空穴对的复合,进而产生光子发射。设备中的高灵敏度探测器如同敏锐的 “光子猎手”,能将这些微弱的光信号捕获...
EMMI的全称是Electro-OpticalEmissionMicroscopy,也叫做光电发射显微镜。这是一种在半导体器件失效分析中常用的技术,通过检测半导体器件中因漏电、击穿等缺陷产生的微弱...
借助EMMI对芯片进行全区域扫描,技术人员在短时间内便在特定功能模块检测到光发射信号。结合电路设计图和芯片版图信息,进一步分析显示,该故障点位于两条相邻铝金属布线之间,由于绝缘层局部损伤而形成短路。这...
EMMI的本质只是一台光谱范围广,光子灵敏度高的显微镜。 但是为什么EMMI能够应用于IC的失效分析呢? 原因就在于集成电路在通电后会出现三种情况: 1.载流子复合;2.热载流子...
在半导体器件失效分析过程中,如何在极低光照条件下准确捕捉到缺陷信息,一直是工程师面临的难题。传统光学检测设备在低照度环境下往往会出现噪声高、成像模糊等问题,导致缺陷难以被有效识别。微光显微镜正是针对这...
例如,当某批芯片在测试中出现漏电失效时,微光显微镜能够准确定位具体的失效位置,为后续分析提供坚实基础。通过该定位信息,工程师可结合聚焦离子束(FIB)切割技术,对芯片截面进行精细观察,从而追溯至栅...
例如,当某批芯片在测试中出现漏电失效时,微光显微镜能够准确定位具体的失效位置,为后续分析提供坚实基础。通过该定位信息,工程师可结合聚焦离子束(FIB)切割技术,对芯片截面进行精细观察,从而追溯至栅...
半导体行业持续向更小尺寸、更高集成度方向迈进,这对检测技术提出了更高要求。EMMI 顺应这一趋势,不断创新发展。一方面,研发团队致力于进一步提升探测器灵敏度,使其能够探测到更微弱、更罕见的光信号,以应...
失效分析是一种系统性技术流程,通过多种检测手段、实验验证以及深入分析,探究产品或器件在设计、制造和使用各阶段出现故障、性能异常或失效的根本原因。与单纯发现问题不同,失效分析更强调精确定位失效源头,追踪...
Thermal(热分析/热成像)指的是通过红外热成像(如ThermalEMMI或热红外显微镜)等方式,检测芯片发热异常的位置。通常利用的是芯片在工作时因电流泄漏或短路而产生的局部温升。常用于分析如:漏...
EMMI的本质只是一台光谱范围广,光子灵敏度高的显微镜。 但是为什么EMMI能够应用于IC的失效分析呢? 原因就在于集成电路在通电后会出现三种情况: 1.载流子复合;2.热载流子...