离子束刻蚀带领磁性存储器制造，其连续变角刻蚀策略解决界面磁特性退化难题。在STT-MRAM量产中，该技术创造性地实现0-90°动态...

这种方法的优点是刻蚀均匀性好，刻蚀侧壁垂直，适合高分辨率和高深宽比的结构。缺点是刻蚀速率慢，选择性低，设备复杂，成本高。混合法刻蚀...

深硅刻蚀设备的主要性能指标有以下几个：刻蚀速率：刻蚀速率是指单位时间内硅片上被刻蚀掉的厚度，它反映了深硅刻蚀设备的生产效率和成本。...

在光学薄膜制备领域，广东省科学院半导体研究所的射频磁控溅射技术展现出独特优势。针对非导电光学功能材料的沉积难题，团队优化了射频电源...

磁控溅射制备薄膜应用于哪些领域？在光学镜片和镜头领域，磁控溅射技术同样发挥着重要作用。通过磁控溅射技术可以在光学镜片和镜头表面镀制...