比如在半导体失效分析、航空航天复合材料深层缺陷检测、生物医学无创监测等领域,锁相红外技术能完成传统技术无法实现的精细诊断,为关键领域的质量控制与科研突破提供支撑。随着技术的发展,目前已有研究通过优化激励方案、提升数据处理算法速度来改善检测效率,未来锁相红外技术的局限性将进一步被削弱,其应用场景也将持续拓展。
回归**赛道,致晟光电始终以半导体行业需求为导向,专注打造适配半导体器件研发、生产全流程的失效分析解决方案,成为国产半导体检测设备领域的中坚力量 检测速度快,但锁相热红外电激励成像所得的位相图不受物体表面情况影响,对深层缺陷检测效果更好。RTTLIT锁相红外热成像系统P10

锁相红外热成像(Lock-in Thermography,简称LIT)是一种先进的红外热成像技术,苏州致晟光电科技有限公司通过结合周期性热激励和信号处理技术,显著提高检测灵敏度和信噪比,特别适用于微弱热信号或高噪声环境下的检测。
1. 基本原理
周期性热激励:对被测物体施加周期性热源(如激光、闪光灯或电流),使其表面产生规律的温度波动。锁相检测:红外相机同步采集热信号,并通过锁相放大器提取与激励频率相同的响应信号,抑制无关噪声。
半导体失效分析锁相红外热成像系统测试电激励模式灵活,适配锁相热成像系统多行业应用。

锁相热成像系统的电激励检测方式,在多层电路板质量检测中展现出优势。多层电路板由多个导电层与绝缘层交替叠加组成,层间通过过孔实现电气连接,结构复杂,极易在生产过程中出现层间短路、盲孔堵塞、绝缘层破损等缺陷,进而影响电气性能,甚至引发故障。通过电激励方式,可在不同层级的线路中施加电流,使其在多层结构中流动,缺陷区域因电流分布异常而产生局部温升。锁相热成像系统则可高灵敏度地捕捉这种细微温度差异,实现对缺陷位置与类型的定位。例如,在检测层间短路时,短路点处的温度会高于周围区域;盲孔堵塞则表现为局部温度分布异常。相比传统X射线检测技术,锁相热成像系统检测速度更快、成本更低,且能直观呈现缺陷位置,助力企业提升多层电路板的质量控制效率与良率。
锁相红外技术凭借其高信噪比、深度分辨与微弱信号检测能力,在工业检测、科研领域、生物医学三大场景中展现出不可替代的价值。在工业检测领域,它成为生产质控的 “火眼金睛”:针对 PCB 电路板,能精细识别焊点虚焊、脱焊等微小缺陷,避免因焊点问题导致的电路故障;对于航空航天、汽车制造中常用的复合材料,可穿透表层检测内部分层、气泡等隐患,保障材料结构强度;在太阳能电池生产中,更是能快速定位隐裂、断栅等不易察觉的问题,减少低效或失效电池对组件整体性能的影响,为光伏产业提质增效提供技术支撑。电激励激发缺陷热特征,锁相热成像系统识别。

Thermal和EMMI是半导体失效分析中常用的两种定位技术,主要区别在于信号来源和应用场景不同。Thermal(热红外显微镜)通过红外成像捕捉芯片局部发热区域,适用于分析短路、功耗异常等因电流集中引发温升的失效现象,响应快、直观性强。而EMMI(微光显微镜)则依赖芯片在失效状态下产生的微弱自发光信号进行定位,尤其适用于分析ESD击穿、漏电等低功耗器件中的电性缺陷。相较之下,Thermal更适合热量明显的故障场景,而EMMI则在热信号不明显但存在异常电性行为时更具优势。实际分析中,两者常被集成使用,相辅相成,以实现失效点定位和问题判断。电激励为锁相热成像系统提供稳定的热激励源。RTTLIT锁相红外热成像系统P10
红外热成像模块功能是实时采集被测物体表面的红外辐射信号,转化为随时间变化的温度分布图像序列。RTTLIT锁相红外热成像系统P10
在电子产业中,锁相热成像系统的检测精度在很大程度上依赖于电激励参数的稳定性,因此实时监控电激励参数成为保障检测结果可靠性的关键环节。在电子元件检测过程中,电激励的电流大小、频率稳定性等参数可能会受到电网波动、环境温度变化等因素影响而产生微小波动。虽然这些波动看似微不足道,但对于高精度电子元件而言,哪怕极小的变化也可能导致温度分布偏差,从而干扰对实际缺陷的判断。
为此,RTTLIT统能够持续采集电激励参数,并将监测数据即时反馈给控制系统,实现对激励源输出的动态调整,使电流、频率等参数始终维持在预设范围内。 RTTLIT锁相红外热成像系统P10