高精度锁相红外热成像系统成像仪

锁相热成像系统的电激励检测方式，在多层电路板质量检测中展现出优势。多层电路板由多个导电层与绝缘层交替叠加组成，层间通过过孔实现电气连接，结构复杂，极易在生产过程中出现层间短路、盲孔堵塞、绝缘层破损等缺陷，进而影响电气性能，甚至引发故障。通过电激励方式，可在不同层级的线路中施加电流，使其在多层结构中流动，缺陷区域因电流分布异常而产生局部温升。锁相热成像系统则可高灵敏度地捕捉这种细微温度差异，实现对缺陷位置与类型的定位。例如，在检测层间短路时，短路点处的温度会高于周围区域；盲孔堵塞则表现为局部温度分布异常。相比传统X射线检测技术，锁相热成像系统检测速度更快、成本更低，且能直观呈现缺陷位置，助力企业提升多层电路板的质量控制效率与良率。电激励模块是通过源表向被测物体施加周期性方波电信号，通过焦耳效应使物体产生周期性的温度波动。高精度锁相红外热成像系统成像仪

在半导体、微电子和功率器件领域，产品的性能与寿命往往取决于对热效应的精细控制。然而，传统的热成像手段受限于灵敏度和分辨率，难以满足现代高密度芯片和复杂封装工艺的需求。锁相红外热成像技术（Lock-in Thermography，简称LIT）凭借调制信号与热响应的相位差分析，能够有效放大微弱热源信号，实现纳瓦级的热异常定位。这一突破性手段为失效分析提供了前所未有的精细性。致晟光电在该领域深耕多年，结合自身研发的热红外显微镜与InGaAs微光显微镜，为行业客户提供了一套完整的高灵敏度检测解决方案，广泛应用于芯片短路点定位、功率器件散热优化以及复合材料缺陷检测，为半导体产业链的可靠性提升注入新动能。实时瞬态锁相分析系统锁相红外热成像系统成像仪锁相热成像系统让电激励检测数据更可靠。

Thermal和EMMI是半导体失效分析中常用的两种定位技术，主要区别在于信号来源和应用场景不同。Thermal（热红外显微镜）通过红外成像捕捉芯片局部发热区域，适用于分析短路、功耗异常等因电流集中引发温升的失效现象，响应快、直观性强。而EMMI（微光显微镜）则依赖芯片在失效状态下产生的微弱自发光信号进行定位，尤其适用于分析ESD击穿、漏电等低功耗器件中的电性缺陷。相较之下，Thermal更适合热量明显的故障场景，而EMMI则在热信号不明显但存在异常电性行为时更具优势。实际分析中，两者常被集成使用，相辅相成，以实现失效点定位和问题判断。

锁相红外技术凭借其高信噪比、深度分辨与微弱信号检测能力，在工业检测、科研领域、生物医学三大场景中展现出不可替代的价值。在工业检测领域，它成为生产质控的 “火眼金睛”：针对 PCB 电路板，能精细识别焊点虚焊、脱焊等微小缺陷，避免因焊点问题导致的电路故障；对于航空航天、汽车制造中常用的复合材料，可穿透表层检测内部分层、气泡等隐患，保障材料结构强度；在太阳能电池生产中，更是能快速定位隐裂、断栅等不易察觉的问题，减少低效或失效电池对组件整体性能的影响，为光伏产业提质增效提供技术支撑。红外热像仪捕获这些温度变化，通过锁相技术提取微弱的有用信号，提高检测灵敏度。

致晟光电依托南京理工大学光电技术学院的科研背景，在锁相红外应用方面建立了深厚的学术与技术优势。目前，公司不仅面向产业客户提供设备与解决方案，还积极与科研院所开展联合实验室合作，共同推动热学检测与失效分析的前沿研究。随着半导体工艺的不断演进，先进封装与高功率器件的可靠性问题愈发凸显，锁相红外技术的应用需求将持续扩大。致晟光电将持续优化自身产品性能，从提升分辨率、增强灵敏度，到实现自动化与智能化分析，逐步打造国产化gao duan检测设备的biao gan。未来，公司希望通过技术创新与产业赋能，让锁相红外走出实验室，真正成为产业可靠性检测的标配工具。 锁相热红外电激励成像技术在各个领域具有广泛应用前景，为产品质量控制和可靠性保障提供了重要手段。非制冷锁相红外热成像系统emmi

电激励为锁相热成像系统提供稳定热信号源。高精度锁相红外热成像系统成像仪

锁相红外热成像系统是一种高精度热分析工具，通过检测被测对象在红外波段的微弱热辐射，并利用锁相放大技术提取信号，实现高灵敏度和高分辨率的热成像。与传统红外热成像相比，锁相技术能够抑制环境噪声和干扰信号，使微小温度变化也能够被可靠捕捉，从而在半导体器件、微电子系统和材料研究中发挥重要作用。该系统可以非接触式测量芯片或器件的局部温度分布，精确定位热点和热异常区域，帮助工程师识别电路设计缺陷、材料劣化或工艺问题。高精度锁相红外热成像系统成像仪