直销锁相红外热成像系统性价比

光束诱导电阻变化（OBIRCH）功能与微光显微镜（EMMI）技术常被集成于同一检测系统，合称为光发射显微镜（PEM，PhotoEmissionMicroscope）。二者在原理与应用上形成巧妙互补，能够协同应对集成电路中绝大多数失效模式，大幅提升失效分析的全面性与效率。OBIRCH技术的独特优势在于，即便失效点被金属层覆盖形成“热点”，其仍能通过光束照射引发的电阻变化特性实现精细检测——这恰好弥补了EMMI在金属遮挡区域光信号捕捉受限的不足。检测速度快，但锁相热红外电激励成像所得的位相图不受物体表面情况影响，对深层缺陷检测效果更好。直销锁相红外热成像系统性价比

锁相频率越高，得到的空间分辨率则越高。然而，对于锁相红外热成像系统来说，较高的频率往往会降低待检测的热发射。这是许多 LIT系统的限制。RTTLIT系统通过提供一个独特的系统架构克服了这一限制，在该架构中，可以在"无限"的时间内累积更高频率的 LIT 数据。数据采集持续延长，数据分辨率提高。系统采集数据的时间越长，灵敏度越高。当试图以极低的功率级采集数据或必须从弱故障模式中采集数据时，锁相红外热成像RTTLIT系统的这一特点尤其有价值。直销锁相红外热成像系统性价比快速定位相比其他检测技术，锁相热成像技术能够在短时间内快速定位热点，缩短失效分析时间。

锁相热成像系统与电激励结合，为电子产业的芯片失效分析提供了一种全新的方法，帮助企业快速定位失效原因，改进生产工艺。芯片失效的原因复杂多样，可能是设计缺陷、材料问题、制造过程中的污染，也可能是使用过程中的静电损伤、热疲劳等。传统的失效分析方法如切片分析、探针测试等，不仅操作复杂、耗时较长，而且可能会破坏失效芯片的原始状态，难以准确找到失效根源。通过对失效芯片施加特定的电激励，模拟其失效前的工作状态，锁相热成像系统能够记录芯片表面的温度变化过程，并将其与正常芯片的温度数据进行对比分析，从而找出失效位置和失效原因。例如，当芯片因静电损伤而失效时，系统会检测到芯片的输入端存在异常的高温区域；当芯片因热疲劳失效时，会在芯片的焊接点处发现温度分布不均的现象。基于这些分析结果，企业可以有针对性地改进生产工艺，减少类似失效问题的发生。

锁相热成像系统的电激励方式在电子产业的多层电路板检测中优势明显，为多层电路板的生产质量控制提供了高效解决方案。多层电路板由多个导电层和绝缘层交替叠加而成，层间通过过孔实现电气连接，结构复杂，在生产过程中容易出现层间短路、盲孔堵塞、绝缘层破损等缺陷。这些缺陷会导致电路板的电气性能下降，甚至引发短路故障。电激励能够通过不同层的线路施加电流，使电流在各层之间流动，缺陷处会因电流分布异常而产生温度变化。锁相热成像系统可以通过检测层间的温度变化，精细定位缺陷的位置和类型。例如，检测层间短路时，系统会发现短路点处的温度明显高于周围区域；检测盲孔堵塞时，会发现对应位置的温度分布异常。与传统的 X 射线检测相比，该系统的检测速度更快，成本更低，而且能够直观地显示缺陷的位置，助力多层电路板生产企业提高质量控制水平。电激励与锁相热成像系统，推动无损检测发展。

在半导体行业飞速发展的现在，芯片集成度不断提升，器件结构日益复杂，失效分析的难度也随之大幅增加。传统检测设备往往难以兼顾微观观测与微弱信号捕捉，导致许多隐性缺陷成为 “漏网之鱼”。苏州致晟光电科技有限公司凭借自主研发实力，将热红外显微镜与锁相红外热成像系统创造性地集成一体，推出 Thermal EMMI P 热红外显微镜系列检测设备（搭载自主研发的 RTTLIT （实时瞬态锁相红外系统），为半导体的失效分析提供了全新的技术范式。

电激励配合锁相热成像系统，检测精密电子元件缺陷。直销锁相红外热成像系统性价比

在无损检测领域，电激励与锁相热成像系统的结合，为金属构件疲劳裂纹的早期发现提供了有效手段。直销锁相红外热成像系统性价比

电激励的锁相热成像系统在电子产业的电子浆料检测中有用武之地，为电子浆料的质量控制提供了重要手段，确保印刷线路的性能。电子浆料是用于印刷电子线路、电极等的关键材料，其导电性、均匀性和附着力直接影响印刷线路的性能和可靠性。电子浆料若存在颗粒团聚、成分不均、气泡等缺陷，会导致印刷线路的电阻增大、导电性能下降，甚至出现线路断路。通过对印刷有电子浆料的基板施加电激励，电流会沿着浆料线路流动，缺陷处由于电阻异常，会产生局部温度升高。锁相热成像系统能够检测到这些温度差异，并通过分析温度场的分布，评估电子浆料的质量。例如，在检测太阳能电池板的银浆电极时，系统可以发现因银浆成分不均导致的电阻异常区域，这些区域会影响电池板的发电效率。检测结果为电子浆料生产企业提供了质量反馈，帮助企业优化浆料配方和生产工艺，提升电子产业相关产品的生产质量。直销锁相红外热成像系统性价比