半导体行业的无尘擦拭布用于清洁晶圆表面，布料纤维、残留清洁剂会转移到晶圆上，水滴角可核验擦拭后的效果。擦拭布是日常清洁晶圆、工装的常用耗材，劣质布料或是清洁不到位，会留下纤维与清洁剂残留。擦拭作业完成...

在半导体行业，影像仪的应用不*是质量管控的必要手段，更能为企业带来的成本效益，通过减少工件报废、降低人工成本、提升生产效率、缩短研发周期，实现 “降本增效” 的目标，是半导体企业提升盈利能力的重要投资...

非接触式测厚仪相较于接触式设备，更适配自动化智能产线融合。传统接触式测厚设备自动化程度偏低，多依赖人工上下料、对位、校准，难以适配机械臂联动作业，无法融入现代化智能生产线。人工介入环节较多，不*拖慢自...

工业体式显微镜采用双通道光路设计，左右光路形成微小夹角，终在人脑中合成正立、立体、可感知深度的三维图像，这一原理使其特别适合观察芯片、键合线、凸块、框架等具有高度差的结构。光学系统采用复消色差、抗反射...

设备操作界面简洁，支持多语言适配不同作业人员。半导体生产车间人员结构多元，包含不同从业经验、不同操作习惯的作业人员，部分涉外生产车间还存在多语种操作需求，设备操作系统需要具备良好的兼容性与易用性。非接...

非接触式测厚仪适配半导体薄膜沉积制程的厚度管控。半导体生产中的氧化层、氮化层、金属薄膜等沉积层，是保障元器件绝缘、导电、防护性能的关键结构，薄膜厚度的一致性直接影响产品性能稳定性。薄膜沉积工艺的参数波...

在多孔硅（low-k 材料）表面粗糙度检测中，非接触式白光干涉方案较接触式探针仪更能保护多孔结构。接触式探针仪的接触压力会导致多孔硅的孔洞塌陷，破坏表面结构，测量误差＞±30%；电容式测厚仪因多孔硅的...

非接触式测厚仪具备优异的透光检测特性，能够很好适配半导体各类透明薄膜的工业化检测需求。半导体生产制程中，光刻胶薄膜、表层钝化膜、绝缘防护薄膜等功能性材料均为透光材质，这类薄膜质地轻薄柔软，表层结构极易...

设备适配多种半导体材料的厚度检测，材质兼容范围较为。半导体生产涉及的检测材料品类繁杂，包含硅晶圆、碳化硅基材、氮化镓薄膜、光刻胶层、金属镀膜、封装环氧树脂层等，不同材料的透光性、折射率、物理硬度存在明...

近年来，国产影像仪技术快速崛起，打破海外品牌（如尼康、OGP、三丰）在半导体检测领域的垄断，凭借 “高性价比、定制化适配、快速售后响应” 优势，在半导体中低端制程、封装测试、分立器件等领域实现规模化应...

随着新能源汽车行业的快速发展，电池制造的精度要求日益严苛，影像仪成为电池部件检测的关键装备。在锂电池极片生产中，极片的厚度均匀度、涂层宽度、留白尺寸等参数直接影响电池的能量密度与安全性，影像仪通过高速...

随着半导体制程持续向 2nm、1nm 更先进节点演进，芯片关键尺寸将进一步缩小至 5μm 以下，对影像仪精度、分辨率的要求将持续提升，更高精度将成为影像仪在半导体行业的发展趋势，支撑先进制程半导体检测...