针对 3D 封装中的多层薄膜结构（如光刻胶 + 氧化层 + 外延层），非接触式红外干涉测厚方案较电容式测厚仪展现出优势。电容式测厚仪基于 “电容值与厚度成反比” 的原理，能测量整体厚度，无法区分层间界...

针对方形、多边形等异形晶圆（如 MEMS 器件、OLED 基板），非接触式自适应扫描翘曲方案较接触式翘曲仪更具灵活性。接触式翘曲仪的扫描路径固定，无法适配异形轮廓，测量误差＞±10μm；而非接触式检测...

依托白光干涉探头的非接触式晶圆检测机，是半导体行业粗糙度测量的方案，其优势源于低相干白光干涉原理与三维重构技术。测量时，宽光谱白光经分光镜分为参考光与物光，参考光经可调节参考镜反射，物光照射晶圆表面后...

光源系统是影像仪精细成像的保障，其技术优化直接决定了测量精度与稳定性。现代影像仪普遍采用多波段 LED 复合光源，包含环形光、同轴光、斜射光、轮廓光等多种光源模式，可根据工件材质与特征灵活切换。针对反...

半导体校企联合研发的新型表面处理工艺，会以水滴角作为长期观测项，记录工艺在不同环境下的稳定性。新工艺需要经过多轮环境测试，模拟高温、高湿、酸碱接触等场景，验证实际应用价值。在每一轮环境试验结束后，研发...

工业红外显微镜以近红外 / 短波红外（900–1700 nm） 为照明源，依托硅材料在波长＞1100 nm 时透过率急剧提升的物理特性，实现对硅基器件的无损穿透成像，是半导体制造与失效分析的装备。与可...

工业工具显微镜是集光学成像、精密机械、电子传感、计算机测量于一体的高精度二维检测仪器，凭借微米级甚至亚微米级测量精度、稳定可靠、操作便捷、适用范围广等优势，成为精密制造、机械加工、电子元器件、模具、汽...

半导体行业的无尘擦拭布用于清洁晶圆表面，布料纤维、残留清洁剂会转移到晶圆上，水滴角可核验擦拭后的效果。擦拭布是日常清洁晶圆、工装的常用耗材，劣质布料或是清洁不到位，会留下纤维与清洁剂残留。擦拭作业完成...

晶圆干燥工序的效果，能够通过水滴角的变化进行判断，这也是半导体湿法制程收尾阶段的常规检查手段。经过多道水洗流程的晶圆，表面缝隙与微观纹路中容易锁住水分，残留水汽会干扰后续高温工艺与薄膜沉积。当晶圆完全...

多传感器融合技术（视频 + 接触式探针 + 激光 + 旋转台）是现代影像仪的重要发展方向，突破传统二维影像仪的测量限制，实现从二维平面测量到三维轮廓、深度、形位公差的多维度综合测量，完美适配半导体工件...

光源系统是影像仪精细成像的保障，其技术优化直接决定了测量精度与稳定性。现代影像仪普遍采用多波段 LED 复合光源，包含环形光、同轴光、斜射光、轮廓光等多种光源模式，可根据工件材质与特征灵活切换。针对反...

半导体晶圆与芯片表面极其脆弱，布满纳米级电路、超薄介质层、金属布线、焊盘与光刻胶图形，传统接触式测量（如探针、卡尺）极易造成表面划伤、压痕、崩边、电路损伤、镀金层脱落，直接导致晶圆报废或芯片功能失效，...