广东省科学院半导体研究所
热场发射电子束曝光加工服务是指利用热场发射电子枪产生的电子束进行高精度图形加工的专业服务。热场发射电子枪能够产生高亮度且束斑尺寸极...
广东省科学院半导体研究所在磁控溅射技术的极性调控领域取得 突破,其开发的双向脉冲双靶闭合式非平衡磁控溅射系统独具特色。该系统将两个...
科研人员将机器学习算法引入电子束曝光的参数优化过程中,有效提高了工艺开发效率。通过采集大量曝光参数与图形质量的关联数据,训练出参数...
磁控溅射工艺通过入射粒子与靶材之间的碰撞实现材料的转移和沉积。具体来说,入射粒子在靶材内部经历复杂的散射过程,与靶原子碰撞后,将部...
低温磁控溅射技术支持涵盖工艺开发、设备调试、参数优化及问题诊断等多个方面。低温条件下,溅射过程对基板温度和电源功率的控制尤为关键,...