实时锁相热红外显微镜

作为国内少数掌握 Thermal EMMI 技术并实现量产的企业之一，致晟光电在设备国产化和产业落地方面取得了双重突破。设备在光路设计、探测器匹配、样品平台稳定性等关键环节均采用自主方案，确保整机性能稳定且易于维护。更重要的是，致晟光电深度参与国内封测厂、晶圆厂及科研机构的失效分析项目，将 Thermal EMMI 不仅用于研发验证，还延伸至生产线质量监控和来料检测。这种从实验室走向产线的转变，意味着 Thermal EMMI 不再只是少数工程师的“显微镜”，而是成为支撑国产半导体产业质量提升的重要装备。通过持续优化算法、提升检测效率，致晟光电正推动 Thermal EMMI 技术在国内形成成熟的应用生态，为本土芯片制造保驾护航。热红外显微镜应用于材料科学，可研究新型材料在不同温度下的微观热稳定性，指导材料研发。实时锁相热红外显微镜

随着国内半导体产业的快速发展，Thermal EMMI 技术正逐步从依赖进口转向自主研发。国产 Thermal EMMI 设备不仅在探测灵敏度和分辨率上追平甚至超越部分国际产品，还在适配本土芯片工艺、降低采购和维护成本方面展现出独特优势。例如，一些国产厂商针对国内封测企业的需求，对探测器响应波段、样品台尺寸、自动化控制系统等进行定制化设计，更好地适应大批量失效分析任务。同时，本土研发团队能够快速迭代软件算法，如引入 AI 图像识别进行热点自动标注，减少人工判断误差。这不仅提升了检测效率，也让 Thermal EMMI 从传统的“精密实验室设备”走向生产线质量控制工具，为国产芯片在全球竞争中提供可靠的技术支撑。低温热热红外显微镜平台漏电、静态损耗、断线、接触不良、封装缺陷等产生的微小热信号检测。

在半导体IC裸芯片的研发与检测过程中，热红外显微镜是一种不可或缺的分析工具。裸芯片内部结构高度紧凑、集成度极高，即便出现微小的热异常，也可能对性能产生不良影响，甚至引发失效。因此，建立精确可靠的热检测手段显得尤为重要。热红外显微镜能够以非接触方式实现芯片热分布的成像与分析，直观展示芯片在运行状态下的温度变化。通过识别局部热点，工程师可以发现潜在问题，这些问题可能来源于电路设计缺陷、局部电流过大或器件老化等因素，从而在早期阶段采取调整设计或改进工艺的措施。

在物联网、可穿戴设备等领域，低功耗芯片的失效分析是一个挑战，因为其功耗可能低至纳瓦级，发热信号极为微弱。为应对这一难题，新一代 Thermal EMMI 系统在光学收集效率、探测器灵敏度以及信号处理算法方面进行了***优化。通过增加光学通光量、降低系统噪声，并采用锁相放大技术，可以在极低信号条件下实现稳定成像。这使得 Thermal EMMI 不再局限于高功耗器件，而是可以广泛应用于**功耗的传感器、BLE 芯片和能量采集模块等领域，***扩展了其使用场景。热红外显微镜成像仪通过将热红外信号转化为可视化图像，直观呈现样品的温度分布差异。

在芯片研发与生产过程中，失效分析（FailureAnalysis,FA）是一项必不可少的环节。从实验室样品验证到客户现场应用，每一次失效背后，都隐藏着值得警惕的机理与经验。致晟光电在长期的失效分析工作中，积累了大量案例与经验，大家可以关注我们官方社交媒体账号（小红书、知乎、b站、公众号、抖音）进行了解。在致晟光电，我们始终认为——真正的可靠性，不是避免失效，而是理解失效、解决失效、再防止复发。正是这种持续复盘与优化的过程，让我们的失效分析能力不断进化，也让更多芯片产品在极端工况下依然稳定运行。热红外显微镜原理主要是通过光学系统聚焦红外辐射，再经探测器将光信号转化为可分析的温度数据。低温热热红外显微镜分析

热红外显微镜成像：支持三维热成像重构，通过分层扫描样品不同深度，生成立体热分布模型。实时锁相热红外显微镜

热红外显微镜（ThermalEMMI）的另一大优势在于其非接触式检测能力，相较于传统接触式方法具有优势。传统接触式检测通常需要使用探针直接接触被测设备，这不仅可能因机械压力导致芯片焊点形变或线路微损伤，还可能因静电放电（ESD）对敏感半导体器件造成破坏，从而引入额外风险和测量误差。对于精密电子元件和高精度设备而言，这种潜在损伤可能严重影响检测结果的可靠性。

热红外显微镜通过捕捉设备在运行过程中释放的热辐射信号，实现完全非侵入式的检测。这不仅能够在设备正常工作状态下获取实时热分布数据，还有效避免了接触带来的干扰或损伤，提高了整个检测流程的安全性和稳定性。工程师可以依靠这些高保真数据进行精确故障诊断、性能评估以及早期异常识别，从而优化研发与生产流程。非接触式的技术优势，使热红外显微镜成为半导体芯片、微电子系统及精密印制电路板等电子组件检测的理想选择，为现代电子产业提供了更安全、高效和可靠的分析手段。 实时锁相热红外显微镜