国产微光显微镜成像

微光显微镜技术特性差异

探测灵敏度方向：EMMI 追求对微弱光子的高灵敏度（可检测单光子级别信号），需配合暗场环境减少干扰；热红外显微镜则强调温度分辨率（部分设备可达 0.01℃），需抑制环境热噪声。

空间分辨率：EMMI 的分辨率受光学系统和光子波长限制，通常在微米级；热红外显微镜的分辨率与红外波长、镜头数值孔径相关，一般略低于 EMMI，但更注重大面积热分布的快速成像。

样品处理要求：EMMI 对部分遮蔽性失效（如金属下方漏电）需采用背面观测模式，可能需要减薄、抛光样品；

处理要求：热红外显微镜可透过封装材料（如陶瓷、塑料）探测，对样品破坏性较小，更适合非侵入式初步筛查。 支持离线数据分析，可将检测图像导出后进行深入处理，不占用设备的实时检测时间。国产微光显微镜成像

半导体材料分为直接带隙半导体和间接带隙半导体，而Si是典型的直接带隙半导体，其禁带宽度为1.12eV。所以当电子与空穴复合时，电子会弹射出一个光子，该光子的能量为1.12eV，根据波粒二象性原理，该光子的波长为1100nm，属于红外光区。通俗的讲就是当载流子进行复合的时候就会产生1100nm的红外光。这也就是产生亮点的原因之一：载流子复合。所以正偏二极管的PN结处能看到亮点。如果MOS管产生latch-up现象，（体寄生三极管导通）也会观察到在衬底处产生荧光亮点。半导体微光显微镜校准方法通过调节探测灵敏度，它能适配不同漏电流大小的检测需求，灵活应对多样的检测场景。

微光显微镜（EMMI）无法探测到亮点的情况:

一、不会产生亮点的故障有欧姆接触（OhmicContact）金属互联短路（MetalInterconnectShort）表面反型层（SurfaceInversionLayer）硅导电通路（SiliconConductingPath）等。

二、亮点被遮蔽的情况有掩埋结（BuriedJunctions）及金属下方的漏电点（LeakageSitesunderMetal）。此类情况可采用背面观测模式（backsidemode），但该模式*能探测近红外波段的发光，且需对样品进行减薄及抛光处理等。

致晟光电 RTTLIT E20 微光显微分析系统（EMMI）是一款专为半导体器件漏电缺陷检测量身打造的高精度检测设备。该系统搭载先进的 - 80℃制冷型 InGaAs 探测器与高分辨率显微物镜，凭借超高检测灵敏度，可捕捉器件在微弱漏电流信号下产生的极微弱微光。通过超高灵敏度成像技术，设备能快速定位漏电缺陷并开展深度分析，为工程师优化生产工艺、提升产品可靠性提供关键支持，进而为半导体器件的质量控制与失效分析环节提供安全可靠的解决方案。晶体管和二极管短路或漏电时，微光显微镜依其光子信号判断故障类型与位置，利于排查电路故障。

OBIRCH与EMMI技术在集成电路失效分析领域中扮演着互补的角色，其主要差异体现在检测原理及应用领域。具体而言，EMMI技术通过光子检测手段来精确定位漏电或发光故障点，而OBIRCH技术则依赖于激光诱导电阻变化来识别短路或阻值异常区域。这两种技术通常被整合于同一检测系统（即PEM系统）中，其中EMMI技术在探测光子发射类缺陷，如漏电流方面表现出色，而OBIRCH技术则对金属层遮蔽下的短路现象具有更高的敏感度。例如，EMMI技术能够有效检测未开封芯片中的失效点，而OBIRCH技术则能有效解决低阻抗（<10 ohm）短路问题。其内置的图像分析软件，可测量亮点尺寸与亮度，为量化评估缺陷严重程度提供数据。半导体失效分析微光显微镜批量定制

支持自定义检测参数，测试人员可根据特殊样品特性调整设置，获得较为准确的检测结果。国产微光显微镜成像

芯片制造工艺复杂精密，从设计到量产的每一个环节都可能潜藏缺陷，而失效分析作为测试流程的重要一环，是拦截不合格产品、追溯问题根源的 “守门人”。微光显微镜凭借其高灵敏度的光子探测技术，能够捕捉到芯片内部因漏电、热失控等故障产生的微弱发光信号，定位微米级甚至纳米级的缺陷。这种检测能力，能帮助企业快速锁定问题所在 —— 无论是设计环节的逻辑漏洞，还是制造过程中的材料杂质、工艺偏差，都能被及时发现。这意味着企业可以针对性地优化生产工艺、改进设计方案，从而提升芯片良率。在当前芯片制造成本居高不下的背景下，良率的提升直接转化为生产成本的降低，让企业在价格竞争中占据更有利的位置。国产微光显微镜成像

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