国产热红外显微镜设备

非破坏性分析（NDA）以非侵入方式分析样品内部结构和性能，无需切割、拆解或化学处理，能保留样品完整性，为后续研究留有余地，在高精度、高成本的半导体领域作用突出。

无损分析，通过捕捉样品自身红外热辐射成像，全程无接触，无需对晶圆、芯片等进行破坏性处理。在半导体制造中，可识别晶圆晶体缺陷；封装阶段，能检测焊接点完整性或封装层粘结质量；失效分析时，可定位内部短路或断裂区域的隐性热信号，为根源分析提供依据，完美适配半导体行业对高价值样品的保护需求。 热红外显微镜的高精度热检测，为电子设备可靠性提供保障 。国产热红外显微镜设备

   在产品全寿命周期中，失效分析以解决失效问题、确定根本原因为目标。通过对失效模式开展综合性试验分析，它能定位失效部位，厘清失效机理 —— 无论是材料劣化、结构缺陷还是工艺瑕疵引发的问题，都能被系统拆解。在此基础上，进一步提出针对性纠正措施，从源头阻断失效的重复发生。

作为贯穿产品质量控制全流程的关键环节，失效分析的价值体现在对全链条潜在风险的追溯与排查：在设计（含选型）阶段，可通过模拟失效验证方案合理性；制造环节，能锁定工艺偏差导致的批量隐患；使用过程中，可解析环境因素对性能衰减的影响；质量管理层面，则为标准优化提供数据支撑。 工业检测热红外显微镜用户体验热红外显微镜在 SiC/GaN 功率器件检测中，量化评估衬底界面热阻分布。

热红外显微镜和红外显微镜并非同一事物，二者是包含与被包含的关系。红外显微镜是个广义概念，涵盖利用0.75-1000微米红外光进行分析的设备，依波长分近、中、远红外等，通过样品对红外光的吸收、反射等特性分析化学成分，比如识别材料中的官能团，应用于材料科学、生物学等领域。而热红外显微镜是其分支，专注7-14微米的热红外波段，无需外部光源，直接探测样品自身的热辐射，依据黑体辐射定律生成温度分布图像，主要用于研究温度分布与热特性，像定位电子芯片的热点、分析复合材料热传导均匀性等。前者侧重成分分析，后者聚焦热特性研究。

无损热红外显微镜的非破坏性分析（NDA）技术，为失效分析提供了 “保全样品” 的重要手段。它在不损伤高价值样品的前提下，捕捉隐性热信号以定位内部缺陷，既保障了分析的准确性，又为后续验证、复盘保留了完整样本，让失效分析从 “找到问题” 到 “解决问题” 的闭环更高效、更可靠。

相较于无损热红外显微镜的非侵入式检测，这些有损分析方法虽能获取内部结构信息，但会破坏样品完整性，更适合无需保留样品的分析场景，与无损分析形成互补。 监测微流控芯片、生物传感器的局部热反应，研究生物分子相互作用的热效应。

热红外显微镜是一种融合红外热成像与显微技术的精密检测工具，通过捕捉物体表面及内部的热辐射信号，实现微观尺度下的温度分布可视化分析。其**原理基于黑体辐射定律——任何温度高于***零度的物体都会发射红外电磁波，且温度与辐射强度呈正相关，而显微镜系统则赋予其微米级的空间分辨率，可精细定位电子器件、材料界面等微观结构中的异常热点。

在电子工业中，热红外显微镜常用于半导体芯片的失效定位 —— 例如透过封装材料检测内部金属层微短路、晶体管热斑；在功率器件领域，可分析 IGBT 模块的热阻分布、SiC 器件的高温可靠性；在 PCB 板级检测中，能识别高密度线路的功耗异常区，辅助散热设计优化。此外，材料科学领域也可用其研究纳米材料的热传导特性，生物医学中则可用于细胞层级的热响应分析。 热红外显微镜借助图像分析技术，直观展示电子设备热分布状况 。什么是热红外显微镜成像仪

热红外显微镜帮助工程师分析电子设备过热的根本原因 。国产热红外显微镜设备

致晟光电的热红外显微镜（Thermal EMMI）系列 ——RTTLIT P10 实时瞬态锁相热分析系统，搭载非制冷型热红外成像探测器，采用锁相热成像（Lock-In Thermography）技术，通过调制电信号大幅提升特征分辨率与检测灵敏度，具备高灵敏度、高性价比的突出优势。该系统锁相灵敏度可达 0.001℃，显微分辨率可达 5μm，分析速度快且检测精度高，重点应用于电路板失效分析领域，可多用于适配 PCB、PCBA、大尺寸主板、分立元器件、MLCC 等产品的维修检测场景。 国产热红外显微镜设备

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