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四川LCD光刻胶国产厂家
来源：
发布时间：2025年06月01日
松山湖光刻胶厂家吉田，23 年经验 + 全自动化产线，支持纳米压印光刻胶定制！四川LCD光刻胶国产厂家
定义与特性
正性光刻胶是一种在曝光后，曝光区域会溶解于显影液的光敏材料，形成与掩膜版（Mask）图案一致的图形。与负性光刻胶（未曝光区域溶解）相比，其优势是分辨率高、图案边缘清晰，是半导体制造（尤其是制程）的主流选择。
化学组成与工作原理
主要成分
• 树脂（成膜剂）：
◦ 传统正性胶：采用**酚醛树脂（Novolak）与重氮萘醌（DNQ，光敏剂）**的复合体系（PAC体系），占比约80%-90%。
◦ 化学增幅型（用于DUV/EUV）：含环化烯烃树脂或含氟聚合物，搭配光酸发生器（PAG），通过酸催化反应提高感光度和分辨率。
• 溶剂：溶解树脂和感光剂，常用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）或乳酸乙酯。
• 添加剂：表面活性剂（改善涂布均匀性）、稳定剂（防止暗反应）、碱溶解度调节剂等。
工作原理
• 曝光前：光敏剂（如DNQ）与树脂结合，形成不溶于碱性显影液的复合物。
• 曝光时：
◦ 传统PAC体系：DNQ在紫外光（G线436nm、I线365nm）照射下发生光分解，生成羧酸，使曝光区域树脂在碱性显影液中溶解性增强。
◦ 化学增幅型：PAG在DUV/EUV光下产生活性酸，催化树脂发生脱保护反应，大幅提高显影速率（灵敏度提升10倍以上）。
• 显影后：曝光区域溶解去除，未曝光区域保留，形成正性图案。
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LCD显示
• 彩色滤光片（CF）：
◦ 黑色矩阵（BM）光刻胶：隔离像素，线宽精度±2μm，透光率<0.1%。
◦ RGB色阻光刻胶：形成红/绿/蓝像素，需高色纯度（NTSC≥95%）和耐光性。
• 阵列基板（Array）：
◦ 栅极绝缘层光刻胶：用于TFT-LCD的栅极图案化，分辨率≤3μm。
OLED显示（柔性/刚性）
• 像素定义层（PDL）光刻胶：在基板上形成有机发光材料的 confinement 结构，线宽精度±1μm，需耐溶剂侵蚀（适应蒸镀工艺）。
• 触控电极（如ITO/PET）：通过光刻胶图形化实现透明导电线路，线宽≤5μm。
Mini/Micro LED
• 巨量转移前的芯片制备：使用高分辨率光刻胶（分辨率≤5μm）定义微米级LED阵列，良率要求>99.99%。
吉田半导体材料的绿色环保与可持续发展。
感光机制
◦ 重氮型（双液型）：需混合光敏剂（如二叠氮二苯乙烯二磺酸钠），曝光后通过交联反应固化，适用于精细图案（如PCB电路线宽≤0.15mm）。
◦ SBQ型（单液型）：预混光敏剂，无需调配，感光度高（曝光时间缩短30%），适合快速制版（如服装印花）。
◦ 环保型：采用无铬配方（如CN10243143A），通过多元固化体系（热固化+光固化）实现12-15mJ/cm²快速曝光，分辨率达2μm，符合欧盟REACH标准。
功能细分
◦ 耐溶剂型：如日本村上AD20，耐酒精、甲苯等溶剂，适用于电子油墨印刷。
◦ 耐水型：如瑞士科特1711，抗水性强，适合纺织品水性浆料。
◦ 厚版型：如德国Köppen厚版胶，单次涂布可达50μm，用于立体印刷。
典型应用场景：
• PCB制造：使用360目尼龙网+重氮感光胶，配合LED曝光（405nm波长），实现0.15mm线宽，耐酸性蚀刻液。
• 纺织印花：圆网制版采用9806A型感光胶，涂布厚度20μm，耐碱性染料色浆，耐印率超10万次。
• 包装印刷：柔版制版选用杜邦赛丽® Lightning LFH版材，UV-LED曝光+无溶剂工艺，碳排放降低40%。
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制版光刻胶应用场景：印刷电路板（FPC）、触摸屏（TP）的掩膜版制作，以及光学元件（如衍射光栅）的微纳加工。特点：高分辨率与耐化学性，确保模板的长期使用寿命。水性光刻胶（JT-1200）应用场景：环保要求高的电子元件（如医疗设备、汽车电子）的制造，以及柔性电路的生产。特点：以水为溶剂，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 环保标准。
水油两用光刻胶（JT-2001/SR-3308）适用于混合工艺场景（如部分环节需水性显影，部分需溶剂显影），提升生产灵活性。 四川LCD光刻胶国产厂家
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