金属表面处理真空镀膜沉积速率过慢怎么提升？

广东华升纳米科技股份有限公司2025-11-23

金属表面处理真空镀膜沉积速率过慢，常因靶功率不足、靶面污染、气压过高或基片距离偏大。①按比例提升射频/直流功率，但保持密度≤2 W cm⁻²，避免基底过热；②每10 μm膜厚后停炉，用1000目砂纸轻磨靶面黑化层，恢复溅射产额；③将总气压由1.0 Pa降至0.3 Pa，减少散射，提高原子到达率30%；④把靶基距缩至50 mm并加-100 V偏压，增强离子牵引；⑤改用高溅射产额合金靶或旋转圆柱靶，有效面积↑1.8倍。经此金属表面处理优化，沉积速率可由5 nm min⁻¹提至15 nm min⁻¹，膜层性能不变，缩短金属表面处理真空镀膜节拍，降低金属表面处理运营成本。

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