金属表面处理真空镀膜工艺重复性差的原因呢？

广东华升纳米科技股份有限公司2025-11-23

金属表面处理真空镀膜工艺重复性差，根源在于五动：①真空本底逐日差异，腔壁放气或泵油回流导致H₂O分压起伏，影响膜层纯度；②MFC零点漂移±3%，使反应气体实际流量偏离配方，n、k值随之偏移；③射频匹配网络老化，反射功率由2 W增至15 W，沉积速率下降10%；④基底温度因冷却水道结垢，批次间偏差±15 ℃，热应力无法复现；⑤靶材刻蚀环深度增加，溅射区磁场强度降低，粒子产额递减。对策：每日执行标准漏率检测，烘烤+Ar等离子体洗腔30 min；每周用标准流量槽重校MFC，锁死校准系数；实时记录反射功率并更换老化电容；清洗冷却回路，将温控PID带宽缩至±1 ℃；建立靶材寿命档案，功率密度随刻蚀深度自动补偿。经此闭环管理，金属表面处理膜厚、折射率批次CV由6%降至1%，一次良品率＞98%，保障大批量金属表面处理真空镀膜交付一致性，降低金属表面处理成本。