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光刻胶的玻璃化转变温度如何影响烘烤后的形貌？

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江苏优众微纳半导体科技有限公司2026-08-18

光刻胶Tg从50°C升至120°C，烘烤后形貌热流变程度降低，侧壁角从85°提升至89°。

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联系人： 刘娟

手   机： 19827086768

网   址： http://www.yz-micronano.com/about.html

地   址：
江苏省南通市通州区南通高新技术产业开发区双福路126号
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