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Trench技术趋势与挑战

工艺创新：

深沟槽（Deep Trench）：刻蚀深度>10μm，用于高压IGBT或SiC MOSFET，优化电场分布。

双沟槽（Double Trench）：分离栅极和源极沟槽，进一步降低Cgd和Rds(on)。

材料演进：

SiC Trench MOSFET：利用SiC的高临界电场（2.8MV/cm）实现低Rd和高温稳定性，但沟槽刻蚀难度大（需激光或ICP高能等离子体）。

GaN垂直结构：研发中的GaN沟槽器件（如TOB-TOB结构），目标突破平面GaN的耐压限制。

可靠性挑战：栅氧寿命：薄栅氧（<20nm）在高电场下易发生TDDB（时变介质击穿），需引入氮化氧化硅（SiON）增强可靠性。

短路耐受能力：Trench结构因高单元密度导致局部热集中，需优化金属布局和散热路径。

Trench MOSFET通过三维沟槽结构实现了导通电阻、开关速度和功率密度的明显提升，成为中低压应用的技术。然而，其高压性能受限、工艺复杂度和可靠性问题仍需持续突破。 采用Fabless轻资产模式，技术团队拥有15年以上功率芯片行业经验。截至2024年，公司营收突破1.4亿元。新能源MOSFET选型参数销售价格

下游的应用领域中，消费电子、通信、工业控制、汽车电子占据了主要的市场份额，其中消费电子与汽车电子占比比较高。

在消费电子领域，主板、显卡的升级换代、快充、Type-C接口的持续渗透持续带动MOSFET器件的市场需求。

在汽车电子领域，MOSFET器件在电动马达辅助驱动、电动助力转向及电机驱动等动力控制系统，以及电池管理系统等功率变换模块领域均发挥重要作用，有着广阔的应用市场及发展前景。

新思界行业分析人士表示，MOSFET是重要的功率分立器件之一，具有稳定性好、易于驱动、导通内阻小等特点，在汽车、电子、通讯及工业控制等领域应用。

我国是MOSFET消费大国，MOSFET市场增速高于全球平均水平，采购MOSFET就选商甲半导体。 12V至200V P MOSFETMOSFET选型参数技术指导商甲半导体Fabless 模式解特殊匹配难题，多平台量产，产品导通特性强，应用场景多元。

平面工艺MOS

定义和原理

平面工艺MOS是一种传统的MOSFET加工技术，其结构较为简单。在平面工艺中，源极、漏极和栅极均位于同一平面上，形成一个二维结构。

制造过程

沉积层：先在硅衬底上生长氧化层。

掺杂：使用掺杂技术在特定区域引入杂质，形成源、漏区。

蚀刻：利用光刻技术和蚀刻工艺形成沟道区域。

金属沉积：在栅极位置沉积金属，形成栅极电极。

特点

制作工艺相对简单和成本较低。

结构平面化，适用于小功率、低频应用。

但存在栅极控制能力差、漏电流大等缺点。

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什么是MOSFET?它有什么作用?

MOSFET是一种可以使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管。同时也是利用率**频率比较高的器件之一，那么了解MOSFET的关键指标是非常有必要的。

第一步：选用N沟道还是P沟道为设计选择正确器件的第一步是决定采用N沟道还是P沟道MOSFET。

第二步：确定额定电流第二步是选择MOSFET的额定电流。

第三步：确定热要求选择MOSFET的下一步是计算系统的散热要求。

第四步：决影响开关性能的参数有很多，但**重要的是栅极/漏极、栅极/源极及漏极/源极电容。这些电容会在器件中产生开关损耗，因为在每次开关时都要对它们充电。MOSFET的开关速度因此被降低，器件效率也下降。 无锡商甲半导体：产品矩阵完整，可为客户提供功率芯片全套解决方案及为前沿领域提供定制化服务.

区别与应用

区别

结构：平面工艺MOS为二维结构，Trench工艺为三维结构。

性能：Trench工艺提供更好的性能和效率。

成本：平面工艺成本较低，Trench工艺成本较高。

应用

平面工艺MOS适合低功耗、低频应用，如手机、智能设备。

Trench工艺适合高功率、高频应用，如高性能计算机、通信设备等。

Trench工艺和平面工艺MOS在集成电路制造中各有优势和应用领域。选择何种工艺取决于需求和应用场景，平面工艺适用于简单低功耗应用，而Trench工艺则适用于高性能高功率领域。 MOSFET、IGBT 选商甲半导体，专业供应商，研发、生产与销售实力强。12V至200V P MOSFETMOSFET选型参数技术指导

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MOSFET应用场景电池管理

锂离子电池包的内部，电芯和输出负载之间要串联功率MOSFET，使用**的IC控制MOSFET的开关，从而对电芯的充、放电进行管理，在消费电子系统中，如手机电池包，笔记本电脑电池包等，带有控制IC、功率MOSFETFE管以及其他电子元件的电路系统称为电池充放电保护板Protection Circuit Module （PCM），而对于动力电池的电池管理系统，则称为Battery Management System （BMS）。

在电池充放电保护板PCM中，充、放电分别使用一颗功率MOSFET，背靠背的串联起来。功率MOSFET管背靠背的串联的方式有二种：一种是二颗功率MOSFET的漏极连接在一起；另一种是二颗功率MOSFET的源极连接在一起。功率MOSFET管放置的位置也有二种方式：一种是二颗功率MOSFET放在电池的负端，也就是所谓的“地端”、低端（Low Side）；另一种是二颗功率MOSFET放在电池的正端，**（High Side）。功率MOSFET背靠背连接的不同方式、以及放在不同的位置，都有各自的优缺点，对应着系统的不同要求.

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