TrenchMOSFET的功率损耗主要包括导通损耗、开关损耗和栅极驱动损耗。导通损耗与器件的导通电阻和流过的电流有关，降低导通电阻...

TrenchMOSFET制造：沟槽刻蚀流程沟槽刻蚀是塑造TrenchMOSFET独特结构的关键步骤。光刻工序中，利用光刻版将精确设...

TrenchMOSFET制造：沟槽刻蚀流程沟槽刻蚀是塑造TrenchMOSFET独特结构的关键步骤。光刻工序中，利用光刻版将精确设...

深入研究TrenchMOSFET的电场分布，有助于理解其工作特性和优化设计。在导通状态下，电场主要集中在沟槽底部和栅极附近。合理设...

TrenchMOSFET的频率特性决定了其在高频电路中的应用能力。随着工作频率的升高，器件的寄生参数（如寄生电容、寄生电感）对其性...