Thermal(热分析/热成像)指的是通过红外热成像(如ThermalEMMI或热红外显微镜)等方式,检测芯片发热异常的位置。通常利用的是芯片在工作时因电流泄漏或短路而产生的局部温升。常用于分析如:漏电、短路、功耗异常等问题。EMMI(光发射显微成像EmissionMicroscopy)是利用芯片在失效时(如PN结击穿、漏电)会产生微弱的光发射现象(多为近红外光),通过光电探测器捕捉这类自发光信号来确定失效点。更敏感于电性失效,如ESD击穿、闩锁等。高昂的海外价格,让国产替代更具竞争力。锁相微光显微镜性价比
芯片在工作过程中,漏电缺陷是一类常见但极具隐蔽性的失效现象。传统检测手段在面对复杂电路结构和高集成度芯片时,往往难以在短时间内实现精细定位。而微光显微镜凭借对极微弱光辐射的高灵敏捕捉能力,为工程师提供了一种高效的解决方案。当芯片局部出现漏电时,会产生非常微小的发光现象,常规设备无法辨识,但微光显微镜能够在非接触状态下快速捕获并呈现这些信号。通过成像结果,工程师可以直观判断缺陷位置和范围,进而缩短排查周期。相比以往依赖电性能测试或剖片分析的方式,微光显微镜实现了更高效、更经济的缺陷诊断,不仅提升了芯片可靠性分析的准确度,也加快了产品从研发到量产的闭环流程。由此可见,微光显微镜在电子工程领域的应用,正在为行业带来更快、更精细的检测能力。低温热微光显微镜批量定制使用微光显微镜,可大幅提升故障点确定精度。
基于这些信息,可以初步判断失效现象是否具有可重复性,并进一步区分是由设计问题、制程工艺偏差还是应用不当(如过压、静电冲击)所引发。其次,电性能验证能为失效定位提供更加直观的依据。通过自动测试设备(ATE)或探针台(ProbeStation)对失效芯片进行测试,复现实验环境下的故障表现,并记录关键参数,如电流-电压曲线、漏电流以及阈值电压的漂移。将这些数据与良品对照,可以缩小潜在失效区域的范围,例如锁定到某个功能模块或局部电路。经过这样的准备环节,整个失效分析过程能够更有针对性,也更容易追溯问题的本质原因。
致晟光电的EMMI微光显微镜已广泛应用于集成电路制造、封测、芯片设计验证等环节。在失效分析中,它可以快速锁定ESD损伤点、漏电通道、局部短路以及工艺缺陷,从而帮助客户在短时间内完成问题定位并制定改进方案。在先进封装领域,如3D-IC、Fan-out封装,EMMI的非破坏检测能力尤为重要,可在不影响器件结构的情况下进行检测。致晟光电凭借灵活的系统定制能力,可根据不同企业需求调整探测波段、成像速度与台面尺寸,为国内外客户提供定制化解决方案,助力提高产品可靠性与市场竞争力。晶体管短路时会产生异常光信号。
在半导体器件失效分析过程中,如何在极低光照条件下准确捕捉到缺陷信息,一直是工程师面临的难题。传统光学检测设备在低照度环境下往往会出现噪声高、成像模糊等问题,导致缺陷难以被有效识别。微光显微镜正是针对这一需求而研发的,它通过高灵敏度探测器与优化的光学系统设计,能够在极低照度下实现稳定而清晰的成像。对于芯片失效分析而言,电路内部的微小漏电点或材料缺陷往往会释放极为微弱的光信号,而微光显微镜可以将这些信号放大并呈现,从而帮助分析人员快速锁定潜在问题区域。借助该技术,不仅能够提高分析效率,还能减少重复检测和破坏性实验的需求,降低整体研发与维护成本。因此,微光显微镜在半导体失效分析中的应用价值,正在不断凸显,并逐渐成为实验室和生产线的必备检测工具。微光显微镜显微在检测栅极漏电、PN 结微短路等微弱发光失效时可以做到精细可靠。红外光谱微光显微镜选购指南
高灵敏度的微光显微镜,能够检测到极其微弱的光子信号以定位微小失效点。锁相微光显微镜性价比
与传统的半导体失效检测技术,如 X 射线成像和电子显微镜相比,EMMI 展现出独特优势。X 射线成像虽能洞察芯片内部结构,但对因电学异常引发的微小缺陷敏感度不足;电子显微镜虽可提供超高分辨率微观图像,却需在高真空环境下工作,且对样品制备要求苛刻。EMMI 则无需复杂样品处理,能在芯片正常工作状态下实时检测,凭借对微弱光信号的探测,有效弥补了传统技术在检测因电学性能变化导致缺陷时的短板,在半导体质量控制流程中占据重要地位。锁相微光显微镜性价比