在微流体领域,Polos系列光刻机通过无掩模技术实现了复杂3D流道结构的快速成型。例如,中科院理化所利用类似技术制备跨尺度微盘阵列,研究细胞球浸润行为,为组织工程提供了新型生物界面设计策略10。Polos设备的精度与灵活性可支持此类仿生结构的批量生产,推动医疗诊断芯片的研发。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。Polos-BESM 光刻机:无掩模激光技术,成本降低 50%,任意图案轻松输入,适配实验室微纳加工。重庆BEAM-XL光刻机不需要缓慢且昂贵的光掩模
某分析化学实验室采用 Polos 光刻机开发了集成电化学传感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技术在 PDMS 通道底部直接制备出 10μm 宽的金电极,传感器的检测限达 1nM,较传统电化学工作站提升 100 倍。通过软件输入不同图案,可在 24 小时内完成从葡萄糖检测到重金属离子分析的模块切换。该芯片被用于即时检测(POCT)设备,使现场水质监测时间从 2 小时缩短至 10 分钟,相关设备已通过欧盟 CE 认证。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。天津PSP光刻机可以自动聚焦波长多材料兼容:金属 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成传感器一步成型。
针对植入式医疗设备的长期安全性问题,某生物电子实验室利用 Polos 光刻机在聚乳酸()基底上制备可降解电极。其无掩模技术避免了传统掩模污染,使电极的金属残留量低于 0.01μg/mm²,生物相容性测试显示细胞存活率达 99%。通过自定义螺旋状天线图案,开发出的可降解心率监测器,在体内降解周期可控制在 3-12 个月,信号传输稳定性较同类产品提升 50%,相关技术已进入临床前生物相容性评价阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。
Polos光刻机在微机械加工中表现outstanding。其亚微米分辨率可制造80 µm直径的开环谐振器和2 µm叉指电极,适用于传感器与执行器开发。结合双光子聚合技术(如Nanoscribe系统),用户还能扩展至3D微纳结构打印,为微型机器人及光学元件提供多尺度制造方案。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。柔性电子制造:可制备叉指电容器与高频电路,推动5G通信与物联网硬件发展。
某生物物理实验室利用 Polos 光刻机开发了基于压阻效应的细胞力传感器。其激光直写技术在硅基底上制造出 5μm 厚的悬臂梁结构,传感器的力分辨率达 10pN,较传统 AFM 提升 10 倍。通过在悬臂梁表面刻制 100nm 的微柱阵列,实现了单个心肌细胞收缩力的实时监测,力信号信噪比提升 60%。该传感器被用于心脏纤维化机制研究,成功捕捉到心肌细胞在病理状态下的力学变化,相关数据为心肌修复药物开发提供了关键依据。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。未来技术储备:持续研发光束整形与多材料兼容工艺,lead微纳制造前沿。北京德国BEAM光刻机光源波长405微米
Polos-BESM:基础款高性价比,适合高校实验室基础微纳加工。重庆BEAM-XL光刻机不需要缓慢且昂贵的光掩模
上海有机化学研究所通过光刻技术制备多组分纳米纤维,实现了功能材料的精确组装。类似地,Polos系列设备可支持此类结构的可控加工,为新能源器件(如柔性电池)和智能材料提供技术基础3。设备的高重复性(0.1 µm)确保了科研成果的可转化性。掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。重庆BEAM-XL光刻机不需要缓慢且昂贵的光掩模