广东德国POLOS光刻机

针对碳化硅（SiC）功率模块的栅极刻蚀难题，Polos 光刻机的激光直写技术实现了 20nm 的边缘粗糙度控制，较传统光刻胶工艺提升 5 倍。某新能源汽车芯片厂商利用该设备，将 SiC MOSFET 的导通电阻降低 15%，开关损耗减少 20%，推动车载逆变器效率突破 99%。其灵活的图案编辑功能支持快速验证新型栅极结构，使器件研发周期从 12 周压缩至 4 周，助力我国在第三代半导体领域实现弯道超车。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。Polos-BESM XL：130mm×130mm 曝光幅面，STL 模型直接导入，微流控芯片制备周期缩短 40%。广东德国POLOS光刻机

电子学：芯片研发的快速原型工具，Polos设备成为芯片研发的“快速试错”利器，凭借纳米级电路图案刻制能力，助力科研团队优化集成电路设计。上海某研究所利用NWA-100加工的新型电路结构，使芯片能耗降低25%，运算速度提升15%。设备支持任意图案输入的灵活性，可适配传感器、微型处理器等多样化电子元件需求，无需更换掩模即可完成多版本测试，大幅降低研发成本。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​安徽PSP光刻机不需要缓慢且昂贵的光掩模光学超材料突破：光子晶体结构precise制造，赋能超透镜与隐身技术研究。

2D材料加工：二维异质结的precise构筑，在石墨烯等2D材料研究中，Polos光刻机实现了异质结的高精度图案化。利用NWA-100的0.3μm分辨率，科研人员可在石墨烯表面刻制精密电极，构建二维晶体管。其非接触式曝光方式避免了对超薄材料的损伤，配合多种基材兼容特性，还可实现石墨烯与其他二维材料的precise叠层，为下一代柔性电子器件研发提供关键工具。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​

品牌定位：桌面级微纳加工的革新者，德国Polos以“高精度、低成本、易操作”为core定位，专注于紫外激光直写光刻机研发，打破了传统光刻设备对大型实验室的依赖。其产品主打无掩模技术与紧凑设计，将亚微米级加工能力融入桌面级设备，覆盖微电子、材料科学、生物医学等多领域。从科研机构的快速原型制作到中小企业的小批量生产，Polos通过技术普惠，成为全球微纳加工领域的亲民型benchmark品牌。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。Polos-BESM 光刻机：无掩模激光技术，成本降低 50%，任意图案轻松输入，适配实验室微纳加工。

上海有机化学研究所通过光刻技术制备多组分纳米纤维，实现了功能材料的精确组装。类似地，Polos系列设备可支持此类结构的可控加工，为新能源器件（如柔性电池）和智能材料提供技术基础3。设备的高重复性（0.1 µm）确保了科研成果的可转化性。掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化，无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下，将该技术带到了桌面上，进一步提升了其优势。科研成果转化：中科院利用同类技术制备跨尺度微盘阵列，研究细胞浸润机制。浙江光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸

柔性电子：曲面 OLED 驱动电路漏电降 70%，弯曲半径达 1mm，适配可穿戴设备。广东德国POLOS光刻机

性价比优势：中小企业的研发助推器，相较于传统光刻设备动辄数百万的价格，Polos设备以高性价比著称，配合无掩模技术带来的耗材成本降低，大幅降低了微纳加工的准入门槛。某初创电子企业借助Beam-6设备，only用传统设备1/3的投入就建立了研发级加工能力，成功开发出新型微型传感器并实现小批量生产。这种“低成本+高精度”的组合，成为中小企业技术创新的重要助推器。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​广东德国POLOS光刻机