四川BEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米

生物医学：神经工程的微观助力，在神经工程研究中，Polos光刻机实现了电极结构的精密加工突破。某团队通过其在铂铱合金电极表面刻制10μm间距的蜂窝状微孔，使神经元突触密度提升20%，信号采集噪声降低35%。其兼容生物相容性材料的特性，还可用于微流控芯片的细胞培养腔道制作，为脑机接口、神经信号监测等前沿领域提供微观结构支撑。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​Polos-BESM XL：加大加工幅面，满足中尺寸器件一次性成型需求。四川BEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米

微纳卫星对部件重量与精度要求苛刻，传统加工难以兼顾。Polos 光刻机在硅基材料上实现了 50nm 深度的微沟槽加工，为某航天团队制造出轻量化星载惯性导航陀螺结构。通过自定义螺旋型振动梁图案，陀螺的零偏稳定性提升至 0.01°/h，较商用产品性能翻倍。该技术还被用于微推进器喷嘴阵列加工，使卫星姿态调整精度达到亚毫牛级，助力我国低轨卫星星座建设取得关键突破。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。天津德国PSP-POLOS光刻机可以自动聚焦波长图案灵活性：支持 STL 模型直接导入，30 分钟完成从设计到曝光全流程。

电子学：芯片研发的快速原型工具，Polos设备成为芯片研发的“快速试错”利器，凭借纳米级电路图案刻制能力，助力科研团队优化集成电路设计。上海某研究所利用NWA-100加工的新型电路结构，使芯片能耗降低25%，运算速度提升15%。设备支持任意图案输入的灵活性，可适配传感器、微型处理器等多样化电子元件需求，无需更换掩模即可完成多版本测试，大幅降低研发成本。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​

某基因treatment团队采用 Polos 光刻机开发了微米级 DNA 递送载体。通过 STL 模型直接导入，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窝状微孔结构，载体的 DNA 负载量达 200μg/mg，较传统电穿孔法提升 5 倍。动物实验显示，该载体在肝脏靶向递送中，基因转染效率达 65%，且免疫原性降低 70%。其无掩模特性支持根据不同细胞表面受体定制载体形貌，在 CAR-T 细胞treatment中，CAR 基因导入效率从 30% 提升至 75%，相关技术已申请国际patent。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。光束引擎高速扫描：SPS POLOS µ单次写入400 µm区域，压电驱动提升扫描速度。

某能源研究团队采用 Polos 光刻机制造了压电式微型能量收集器。其激光直写技术在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指电极，器件的能量转换效率达 35%，在 10Hz 振动下可输出 50μW/cm² 的功率。通过自定义电极间距和厚度，该收集器可适配不同频率的环境振动，在智能穿戴设备中实现了运动能量的实时采集与存储。其轻量化设计（体积 < 1mm³）还被用于物联网传感器节点，使传感器续航时间从 3 个月延长至 2 年。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。紧凑桌面设计：Polos-BESM系统only占桌面空间，适合实验室高效原型开发。黑龙江POLOSBEAM-XL光刻机让你随意进行纳米图案化

POLOS µ：超紧凑设计，纳米级精度专攻微流控与细胞芯片。四川BEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米

在航空航天科研中，某科研团队致力于研发用于环境监测和侦察的微型飞行器。其中，制造轻量化且高性能的微机械部件是关键。德国 Polos 光刻机凭借无掩模激光光刻技术，助力团队制造出尺寸precise、质量轻盈的微型齿轮、机翼骨架等微机械结构。例如，利用该光刻机制造的微型齿轮，齿距精度达到纳米级别，极大提高了飞行器动力传输系统的效率和稳定性。基于此，科研团队成功试飞了一款新型微型飞行器，其续航时间和飞行灵活性远超同类产品，为未来微型飞行器在复杂环境下的应用奠定了坚实基础。四川BEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米