清洗后的功率模块因清洗剂残留导致氧化的存放时间,取决于残留量、环境湿度及清洗剂成分。若清洗剂残留量极低(离子残留 <0.1μg/cm²,溶剂残留 < 1mg/cm²)且环境干燥(湿度 < 30%),可存放 1-3 个月无明显氧化;若残留超标(如离子> 0.5μg/cm²)或环境潮湿(湿度 > 60%),则可能在 1-2 周内出现氧化:水基清洗剂残留(含少量电解质)会形成微电池效应,加速铜 / 银镀层氧化(出现红斑或发黑);含硫 / 氯的残留离子会与金属反应,3-5 天即可生成硫化物 / 氯化物腐蚀产物。此外,清洗剂中未挥发的极性溶剂(如醇类)若残留,会吸附空气中水分,使金属表面形成水膜,缩短氧化周期至 1 周内。测试可通过加速试验(40℃、90% 湿度环境放置 72 小时)模拟,若出现氧化痕迹,说明实际存放需控制在 3 天内,建议清洗后 48 小时内完成后续封装,或经真空干燥(80℃,2 小时)减少残留以延长存放期。可搭配超声波辅助清洁,加速污垢分解,提升清洗效率。北京功率模块功率电子清洗剂供应
清洗剂中的缓蚀剂是否与功率模块的银烧结层发生化学反应,主要取决于缓蚀剂的化学类型。银烧结层由金属银(Ag)构成,银在常温下化学稳定性较高,但与含硫、含氯的缓蚀剂可能发生反应:含硫缓蚀剂(如硫脲、巯基苯并噻唑)中的硫离子(S²⁻)或巯基(-SH)会与银反应生成硫化银(Ag₂S),这是一种黑色脆性物质,会降低烧结层的导电性(电阻升高 30%-50%)并破坏结构完整性;含氯缓蚀剂(如有机氯代物)则可能生成氯化银(AgCl),虽溶解度低,但长期积累会导致接触电阻增大。而多数常用缓蚀剂(如苯并三氮唑 BTA、硅酸盐、有机胺类)与银的反应性极低:BTA 主要与铜、铝结合,对银无明显作用;硅酸盐通过形成保护膜起效,不与银反应;有机胺类为碱性,银在碱性环境中稳定,无化学反应。实际应用中,电子清洗剂多选用无硫、无氯缓蚀剂,因此对银烧结层的化学反应风险极低,只需避免含硫 / 氯成分的缓蚀剂即可。编辑分享江门环保功率电子清洗剂销售厂创新温和配方,对 LED 芯片无损伤,安全可靠,质量有保障。
水基功率电子清洗剂清洗 IGBT 模块时,优势在于环保性强(VOCs 含量低,≤100g/L),对操作人员刺激性小,且不易燃,适合批量清洗场景,其含有的表面活性剂和碱性助剂能有效去除极性污染物(如助焊剂残留、金属氧化物),对铝基散热片等材质腐蚀性低(pH 值 6-8)。但局限性明显,清洗后需额外干燥工序(如热风烘干),否则残留水分可能影响模块绝缘性能,且对非极性油污(如硅脂、矿物油)溶解力弱,需延长浸泡时间(10-15 分钟)。溶剂型清洗剂则凭借强溶剂(如醇醚类、烃类)快速溶解油污和焊锡膏残留,渗透力强,能深入 IGBT 模块的引脚缝隙,清洗后挥发快(2-5 分钟自然干燥),无需复杂干燥设备。但存在闪点低(部分<40℃)、需防爆措施的安全隐患,且长期使用可能对模块的塑料封装件(如 PBT 外壳)有溶胀风险,高 VOCs 排放也不符合环保趋势,需根据污染物类型和生产安全要求选择。
溶剂型清洗剂清洗功率模块后,若为高纯度非极性溶剂(如异构烷烃、氢氟醚),其挥发残留极少(通常 <0.1mg/cm²),且残留成分为惰性有机物,对金丝键合处电迁移的诱发风险极低;但若为劣质溶剂(含氯代烃、硫杂质),挥发后残留的离子性杂质(如 Cl⁻、SO₄²⁻)可能增加电迁移风险。金丝键合处电迁移的重要诱因是电流密度(IGBT 工作时可达 10⁴-10⁵A/cm²)与杂质离子的协同作用:惰性残留(如烷烃)不导电,不会形成离子迁移通道,且化学稳定性高(沸点> 150℃),在模块工作温度(-40~175℃)下不分解,对金丝(Au)的扩散系数无影响;而含活性杂质的残留会降低键合处界面电阻(从 10⁻⁶Ω・cm² 升至 10⁻⁵Ω・cm²),加速 Au 离子在电场下的定向迁移,导致键合线颈缩或空洞(1000 小时老化后失效概率增加 3-5 倍)。因此,选用高纯度(杂质 < 10ppm)、低残留溶剂型清洗剂(如电子级异构十二烷),挥发后对金丝键合线电迁移的风险可控制在 0.1% 以下,明显低于残留离子超标的清洗剂。纳米级 Micro LED 清洗剂,精确去除微小杂质,清洁精度超越竞品。
功率电子清洗剂的离子残留量超过 1μg/cm² 会明显影响模块的绝缘耐压性能。残留离子(如 Na⁺、Cl⁻、SO₄²⁻等)具有导电性,在模块工作时会形成离子迁移通道,尤其在高湿度环境(相对湿度 > 60%)或温度波动(-40~125℃)下,离子会随水汽扩散,降低绝缘层表面电阻(从 10¹²Ω 降至 10⁸Ω 以下)。当残留量达 1μg/cm² 时,模块爬电距离间的泄漏电流增加 5-10 倍,在 1kV 耐压测试中易出现局部放电(放电量 > 10pC);若超过 3μg/cm²,长期工作后可能引发沿面闪络,绝缘耐压值下降 20%-30%(如从 4kV 降至 2.8kV 以下)。此外,离子残留会加速电化学反应,导致金属化层腐蚀(如铜迁移),进一步破坏绝缘结构。对于高频功率模块(如 IGBT、SiC 模块),离子残留还会增加介损(tanδ 从 0.001 升至 0.01 以上),引发局部过热。因此,行业通常要求清洗剂离子残留量≤0.1μg/cm²,超过 1μg/cm² 时必须返工清洗,否则将明显降低模块绝缘可靠性和使用寿命。优化配方,减少清洗剂挥发损耗,降低使用成本。分立器件功率电子清洗剂厂家电话
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清洗IGBT模块的高铅锡膏残留,溶剂型清洗剂更适合。高铅锡膏含铅锡合金粉末(熔点约183℃)和助焊剂(以松香、有机酸为主),其残留具有脂溶性强、易附着于陶瓷基板与金属引脚缝隙的特点。溶剂型清洗剂(如改性醇醚或碳氢溶剂)对松香类有机物溶解力强,能快速渗透至IGBT模块的栅极、源极引脚间隙,瓦解锡膏残留的黏性结构。且溶剂表面张力低(通常<25mN/m),可深入0.1mm以下的细微缝隙,配合超声波清洗(30-40kHz)能彻底剥离残留,避免因清洗不净导致的电路短路风险。水基清洗剂虽环保,但对脂溶性助焊剂的溶解力较弱,且高铅锡膏中的铅氧化物遇水可能形成氢氧化物沉淀,反而造成二次污染。此外,IGBT模块的PCB板若防水性不足,水基清洗后易残留水分,影响电气性能。因此,针对高铅锡膏残留,溶剂型清洗剂更能满足IGBT模块的精密清洗需求。编辑分享北京功率模块功率电子清洗剂供应