普陀区半导体晶圆加热盘非标定制

针对晶圆清洗后的烘干环节，国瑞热控**加热盘以洁净高效的特性适配严苛需求。产品采用高纯不锈钢基材，表面经电解抛光与钝化处理，粗糙度 Ra 小于 0.2μm，减少水分子附着与杂质残留。加热面采用蜂窝状导热结构，使热量均匀分布，晶圆表面温度差控制在 ±2℃以内，避免因局部过热导致的晶圆翘曲。温度调节范围覆盖 50℃至 150℃，支持阶梯式升温程序，适配不同清洗液的烘干需求。设备整体采用无死角结构设计，清洁时*需用高纯酒精擦拭即可，符合半导体制造的高洁净标准，为清洗后晶圆的干燥质量与后续工艺衔接提供保障。节能环保设计理念，热损失小效率高，助力绿色生产制造。普陀区半导体晶圆加热盘非标定制

面向柔性半导体基板（如聚酰亚胺基板）加工需求，国瑞热控**加热盘以柔性贴合设计适配弯曲基板。采用薄型不锈钢加热片（厚度 0.2mm）与硅胶导热层复合结构，可随柔性基板弯曲（弯曲半径**小 5mm）而无结构损坏，加热面温度均匀性达 ±1.5℃，温度调节范围 50℃-250℃，适配柔性基板镀膜、光刻胶烘烤等工艺。配备真空吸附槽道，可牢固固定柔性基板，避免加热过程中褶皱导致的工艺缺陷。与维信诺、柔宇科技等柔性显示厂商合作，支持柔性 OLED 驱动芯片的制程加工，为柔性电子设备的轻量化、可弯曲特性提供制程保障。甘肃涂胶显影加热盘多种规格尺寸可选，支持个性化定制，满足不同行业的特殊应用需求。

国瑞热控半导体封装加热盘，聚焦芯片封装环节的加热需求，为键合、塑封等工艺提供稳定热源。采用铝合金与云母复合结构，兼具轻质特性与优良绝缘性能，加热面功率密度可根据封装规格调整，比较高达 2W/CM²。通过优化加热元件排布，使封装区域温度均匀性达 95% 以上，确保焊料均匀熔融与键合强度稳定。设备配备快速响应温控系统，从室温升至 250℃*需 8 分钟，且温度波动小于 ±2℃，适配不同封装材料的固化需求。表面采用防氧化处理，使用寿命超 30000 小时，搭配模块化设计，可根据封装生产线布局灵活组合，为半导体封装的高效量产提供支持。

国瑞热控刻蚀工艺加热盘，专为半导体刻蚀环节的精细温控设计，有效解决刻蚀速率不均与图形失真问题。产品采用蓝宝石覆层与铝合金基体复合结构，表面经抛光处理至镜面效果，减少刻蚀副产物粘附，且耐受等离子体轰击无损伤。加热盘与静电卡盘协同适配，通过底部导热纹路优化，使热量快速传导至晶圆背面，温度响应时间缩短至 10 秒以内。支持温度阶梯式调节功能，可根据刻蚀深度需求设定多段温度曲线，适配硅刻蚀、金属刻蚀等不同工艺场景。设备整体符合半导体洁净车间 Class 1 标准，拆卸维护无需特殊工具，大幅降低生产线停机时间。工业级耐用加热盘，耐腐蚀抗冲击，适应严苛工况环境。

针对 12 英寸及以上大尺寸晶圆的制造需求，国瑞热控大尺寸半导体加热盘以创新结构设计实现高效温控。产品采用多模块拼接式结构，单模块加热面积可达 1500cm²，通过标准化接口可灵活组合成更大尺寸加热系统，适配不同产能的生产线需求。每个模块配备**温控单元，通过**控制系统协同工作，确保整个加热面温度均匀性控制在 ±1.5℃以内。采用轻量化**度基材，在保证结构稳定性的同时降低设备重量，便于安装与维护。表面经精密加工确保平整度，与大尺寸晶圆完美贴合，减少热传导损耗，为先进制程中大规模晶圆的均匀加热提供可靠解决方案。紧凑设计节省空间，输出热量强大均匀，受限环境理想选择。山东陶瓷加热盘

热响应速度快，快速达温稳定，减少等待提升效率。普陀区半导体晶圆加热盘非标定制

针对车载半导体高可靠性需求，国瑞热控测试加热盘适配 AEC-Q100 标准。采用**级铝合金基材，通过 - 55℃至 150℃高低温循环测试 5000 次无变形，加热面平整度误差小于 0.03mm。温度调节范围覆盖 - 40℃至 200℃，升降温速率达 30℃/ 分钟，可模拟车载芯片在极端环境下的工作状态。配备 100 组可编程温度曲线，支持持续 1000 小时老化测试，与比亚迪半导体、英飞凌等企业适配，通过温度冲击、湿热循环等可靠性验证，为新能源汽车电控系统提供质量保障。普陀区半导体晶圆加热盘非标定制

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