等离子清洗机如何处理碳化硅晶圆以降低表面粗糙度？

深圳市方瑞科技有限公司2026-04-30

等离子清洗机不能直接降低碳化硅晶圆的表面粗糙度，但可以去除抛光后残留的有机物和金属杂质，为后续外延或器件制备提供洁净表面。方瑞科技的真空等离子清洗机使用Ar/O₂混合气体，物理溅射与化学清洁结合，处理后晶圆表面XPS检测无碳污染。如需降低粗糙度，需结合CMP工艺。

本回答由 深圳市方瑞科技有限公司 提供

深圳市方瑞科技有限公司

简介：专注于等离子设备的研发、生产和销售，服务于半导体、汽车、电子等多个行业，产品远销全球。

简介：专注于等离子设备的研发、生产和销售，服务于半导体、汽车、电子等多个行业，产品远销全球。

类似问题

企业信息

深圳市方瑞科技有限公司

联系人：焦金萍

手机： 15219492755

地址：

广东省深圳市宝安区马田街道合水口社区第七工业区第三栋厂房A401