等离子去胶机去除二氧化钒薄膜上的光刻胶时如何避免相变？

深圳市方瑞科技有限公司2026-07-23

VO₂在68℃附近发生绝缘体金属相变，影响性能。方瑞科技采用载台温度控制在30℃以下，处理时间<2分钟，使用低功率氧等离子体。去胶后VO₂的相变温度和电阻变化率保持处理前水平。方瑞科技提供四探针变温电阻测试。

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简介：专注于等离子设备的研发、生产和销售，服务于半导体、汽车、电子等多个行业，产品远销全球。

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