低温热热红外显微镜功能

热红外显微镜是半导体失效分析与缺陷定位的三大主流手段之一（EMMI、THERMAL、OBIRCH），通过捕捉故障点产生的异常热辐射，实现精细定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表现为局部功耗异常，导致微区温度升高。显微热分布测试系统结合热点锁定技术，能够高效识别这些区域。热点定位是一种动态红外热成像方法，通过调节电压提升分辨率与灵敏度，并借助算法优化信噪比。在集成电路（IC）分析中，该技术广泛应用于定位短路、ESD损伤、缺陷晶体管、二极管失效及闩锁问题等关键故障。热红外显微镜应用：在电子行业用于芯片热失效分析，准确定位芯片局部过热区域，排查电路故障。低温热热红外显微镜功能

在失效分析中，Thermal EMMI 并不是孤立使用的工具，而是与电性测试、扫描声学显微镜（CSAM）、X-ray、FIB 等技术形成互补。通常，工程师会先通过电性测试确认失效模式，再用 Thermal EMMI 在通电条件下定位热点区域。锁定区域后，可使用 FIB 进行局部开窗或切片，进一步验证缺陷形貌。这种“先定位、再剖片”的策略，不仅提高了分析效率，也降低了因盲剖带来的风险。Thermal EMMI 在这一配合体系中的价值，正是用**快速、比较低损的方法缩小分析范围，让后续的精细分析事半功倍。非制冷热红外显微镜半导体芯片失效分析（EFA）中的热点定位。

ThermalEMMI（热红外显微镜）是一种先进的非破坏性检测技术，广泛应用于电子设备和半导体器件的精细故障定位。它能够在不干扰或破坏被测对象的前提下，捕捉电子元件在工作状态下释放的微弱热辐射和光信号，为工程师提供可靠的故障诊断和性能分析依据。尤其在复杂集成电路、高性能半导体器件以及精密印制电路板（PCB）的检测中，ThermalEMMI能够迅速识别异常发热或发光区域，这些区域通常与潜在缺陷、设计不足或性能问题密切相关。通过对这些热点的精确定位，研发和测试人员可以深入分析失效原因，指导工艺改进或芯片优化，从而提升产品可靠性和稳定性。此外，ThermalEMMI的非接触式测量特点使其能够在芯片研发、量产检测和终端应用过程中实现连续监测，为工程师提供高效、精细的分析工具，加速问题排查和产品优化流程，成为现代电子检测与失效分析的重要技术支撑。

红外线介于可见光和微波之间，波长范围0.76~1000μm。凡是高于jd零度(0 K，即-273.15℃)的物质都可以产生红外线，也叫黑体辐射。

由于红外肉眼不可见，要察觉这种辐射的存在并测量其强弱离不开红外探测器。1800年英国天文学家威廉·赫胥尔发现了红外线，随着后续对红外技术的不断研究以及半导体技术的发展，红外探测器得到了迅猛的发展，先后出现了硫化铅(PbS)、碲化铅(PbTe)、锑化铟(InSb)、碲镉汞(HgCdTe，简称MCT)、铟镓砷(InGaAs)、量子阱(QWIP)、二类超晶格(type-II superlattice，简称T2SL)、量子级联(QCD)等不同材料红外探测器等 工程师们常常面对这样的困境：一块价值百万的芯片突然“停工”，传统检测手段轮番上阵却找不到故障点。

微光红外显微仪是一种高灵敏度的失效分析设备，可在非破坏性条件下，对封装器件及芯片的多种失效模式进行精细检测与定位。其应用范围涵盖：芯片封装打线缺陷及内部线路短路、介电层（Oxide）漏电、晶体管和二极管漏电、TFT LCD面板及PCB/PCBA金属线路缺陷与短路、ESD闭锁效应、3D封装（Stacked Die）失效点深度（Z轴）预估、低阻抗短路（＜10 Ω）问题分析，以及芯片键合对准精度检测。相比传统方法，微光红外显微仪无需繁琐的去层处理，能够通过检测器捕捉异常辐射信号，快速锁定缺陷位置，大幅缩短分析时间，降低样品损伤风险，为半导体封装测试、产品质量控制及研发优化提供高效可靠的技术手段。热红外显微镜成像：支持实时动态成像，每秒可采集数十帧热像图，记录样品热分布随时间的变化过程。实时成像热红外显微镜货源充足

热红外显微镜应用于材料科学，可研究新型材料在不同温度下的微观热稳定性，指导材料研发。低温热热红外显微镜功能

热点区域对应高温部位，可能是发热源或故障点；等温线连接温度相同点，直观呈现温度梯度与热量传导规律。

当前市面上多数设备受限于红外波长及探测器性能，普遍存在热点分散、噪点繁多的问题，直接导致发热区域定位偏差、图像对比度与清晰度下降，严重影响温度分布判断的准确性。

而我方设备优势明显：抗干扰能力强，可有效削弱外界环境及内部器件噪声干扰，确保图像稳定可靠；等温线清晰锐利，能圈定温度相同区域，便于快速掌握温度梯度与热传导路径，大幅提升热特性分析精度；成像效果大幅升级，具备更高的空间分辨率、温度分辨率及对比度，细微细节清晰可辨，为深度分析提供高质量图像支撑。 低温热热红外显微镜功能