南沙区热红外显微镜

在半导体失效分析实验室中，工程师们常常面临令人头疼的难题：一块价值百万的芯片突然“歇工”，却迟迟找不到故障根源。传统检测手段轮番上阵——电性测试无从下手，物理开盖又可能破坏关键痕迹，整个分析仿佛陷入迷雾之中。这时，Thermal EMMI（热红外显微镜）如同一位敏锐的“热力神探”登场。它能够捕捉芯片在微观层面发出的极其微弱的热辐射与光信号，毫不干扰样品本体，实现非接触式成像。借助其高灵敏度和高空间分辨率，隐藏在纳米尺度下的异常热点被一一揭示，让“沉默”的芯片重新开口说话，助力工程师快速锁定失效位置，为后续修复与优化提供明确方向。在众多复杂失效场景中，Thermal EMMI已成为不可或缺的利器。
热红外显微镜搭配分析软件，能对采集的热数据进行定量分析，生成详细的温度分布报告。南沙区热红外显微镜

对于3D封装产品，传统的失效点定位往往需要采用逐层去层的方法，一层一层地进行异常排查与确认，不仅耗时长、人工成本高，还存在对样品造成不可逆损伤的风险。借助Thermal EMMI设备，可通过检测失效点热辐射在传导过程中的相位差，推算出失效点在3D封装结构中的深度位置（Z轴方向）。这一方法能够在不破坏封装的前提下，快速判断失效点所在的芯片层级，实现高效、精细的失效定位。如图7所示，不同深度空间下失效点与相位的关系为该技术提供了直观的参考依据。厂家热红外显微镜厂家热红外显微镜仪器内置校准系统，定期校准可确保长期使用中微观温度测量结果的准确性。

热红外显微镜是半导体失效分析与缺陷定位的三大主流手段之一（EMMI、THERMAL、OBIRCH），通过捕捉故障点产生的异常热辐射，实现精细定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表现为局部功耗异常，导致微区温度升高。显微热分布测试系统结合热点锁定技术，能够高效识别这些区域。热点定位是一种动态红外热成像方法，通过调节电压提升分辨率与灵敏度，并借助算法优化信噪比。在集成电路（IC）分析中，该技术广泛应用于定位短路、ESD损伤、缺陷晶体管、二极管失效及闩锁问题等关键故障。

此外，致晟光电自主研发的热红外显微镜thermal emmi还能对芯片内部关键半导体结点的温度进行监测，即结温。结温水平直接影响器件的稳定运行和使用寿命，过高的结温会加速性能衰减。依托其高空间分辨率的热成像能力，热红外显微镜不仅能够实现结温的精确测量，还能为研发人员提供详尽的热学数据，辅助制定合理的散热方案。借助这一技术，工程师能够在芯片研发、测试和应用各环节中掌握其热特性，有效提升芯片的可靠性和整体性能表现。 热红外显微镜原理基于物体红外辐射定律，利用探测器接收微观区域热辐射并转化为电信号分析。

随着国内半导体产业的快速发展，Thermal EMMI 技术正逐步从依赖进口转向自主研发。国产 Thermal EMMI 设备不仅在探测灵敏度和分辨率上追平甚至超越部分国际产品，还在适配本土芯片工艺、降低采购和维护成本方面展现出独特优势。例如，一些国产厂商针对国内封测企业的需求，对探测器响应波段、样品台尺寸、自动化控制系统等进行定制化设计，更好地适应大批量失效分析任务。同时，本土研发团队能够快速迭代软件算法，如引入 AI 图像识别进行热点自动标注，减少人工判断误差。这不仅提升了检测效率，也让 Thermal EMMI 从传统的“精密实验室设备”走向生产线质量控制工具，为国产芯片在全球竞争中提供可靠的技术支撑。存在缺陷或性能不佳的半导体器件通常会表现出异常的局部功耗分布，终会导致局部温度增高。高分辨率热红外显微镜技术参数

热红外显微镜探测器：量子阱红外探测器（QWIP）响应速度快，适用于高速动态热过程（如激光加热瞬态分析）。南沙区热红外显微镜

在微电子、半导体以及材料研究等高精度领域，温度始终是影响器件性能与寿命的重要因素。随着芯片工艺向高密度和高功率方向发展，器件内部的热行为愈发复杂。传统的热测试方法由于依赖接触探测，往往在空间分辨率、灵敏度和操作便捷性方面存在局限，难以满足对新型芯片与功率器件的精细化热分析需求。相比之下，热红外显微镜凭借非接触测量、高分辨率成像和高灵敏度探测等优势，为研究人员提供了更加直观的解决方案。它不仅能够实时呈现器件在工作状态下的温度分布，还可识别局部热点，帮助分析电路设计缺陷、电流集中及材料老化等潜在问题。作为现代失效分析与微热检测的重要工具，热红外显微镜正逐渐成为科研与产业应用中不可或缺的手段，为提升器件可靠性和延长使用寿命提供了有力支持。南沙区热红外显微镜