检测用热红外显微镜设备

在半导体芯片的研发与生产全流程中，失效分析（FailureAnalysis,FA）是保障产品可靠性与性能的重要环节。芯片内部的微小缺陷，如漏电、短路、静电损伤等，通常难以通过常规检测手段识别，但这类缺陷可能导致整个芯片或下游系统失效。为实现对这类微小缺陷的精确定位，苏州致晟光电科技有限公司研发的ThermalEMMI热红外显微镜（业界也称之为热发射显微镜），凭借针对性的技术能力满足了这一需求，目前已成为半导体工程师开展失效分析工作时不可或缺的设备。
制冷型 vs 非制冷型可根据成本 /灵敏度 /散热条件选择。检测用热红外显微镜设备

在材料科学领域，研究人员通常需要了解不同材料在受热环境下的导热性能与热响应特性。传统的热分析方法多为宏观测量，难以揭示微观层面的温度变化。而热红外显微镜通过高分辨率的红外成像能力，能够将材料表面的温度分布清晰呈现出来，从而帮助研究人员深入理解材料的导热机制和失效模式。例如，在新型复合材料研究中，热红外显微镜能够直观显示各组分在受热条件下的热扩散差异，为材料结构优化提供实验依据。同时，该设备还能与其他光学显微技术联用，形成多维度的检测体系，使得实验数据更具完整性。热红外显微镜不仅在基础研究中发挥重要作用，也为新型材料的产业化应用提供了强有力的验证工具，推动了从实验室到工程应用的快速转化。工业检测热红外显微镜应用热红外显微镜支持多种样品载物台适配，能满足固体、薄膜等不同形态微观样品的热观测需求。

红外线介于可见光和微波之间，波长范围0.76~1000μm。凡是高于jd零度(0 K，即-273.15℃)的物质都可以产生红外线，也叫黑体辐射。

由于红外肉眼不可见，要察觉这种辐射的存在并测量其强弱离不开红外探测器。1800年英国天文学家威廉·赫胥尔发现了红外线，随着后续对红外技术的不断研究以及半导体技术的发展，红外探测器得到了迅猛的发展，先后出现了硫化铅(PbS)、碲化铅(PbTe)、锑化铟(InSb)、碲镉汞(HgCdTe，简称MCT)、铟镓砷(InGaAs)、量子阱(QWIP)、二类超晶格(type-II superlattice，简称T2SL)、量子级联(QCD)等不同材料红外探测器等

在半导体 IC 裸芯片研究与检测中，热红外显微镜是一项重要工具。裸芯片结构紧凑、集成度高，即便出现轻微热异常，也可能影响性能甚至导致失效，因此有效的热检测十分必要。热红外显微镜以非接触方式完成热分布成像，能够直观呈现芯片在运行中的温度变化。通过对局部热点的识别，可发现电路设计缺陷、电流集中或器件老化等问题，帮助工程师在早期阶段进行调整与优化。此外，该设备还能测量半导体结点的结温，结温水平直接关系到器件的稳定性与寿命。依托较高分辨率的成像能力，热红外显微镜既能提供结温的准确数据，也为散热方案的制定和芯片性能提升提供了可靠依据。致晟光电是一家国产失效分析设备制造商，其在、有两项技术：Thermal 热红外显微镜 和 EMMI 微光显微镜。

Thermal EMMI 在第三代半导体器件检测中发挥着关键作用。第三代半导体以氮化镓、碳化硅等材料，具有耐高温、耐高压、高频的特性，广泛应用于新能源汽车、5G 通信等领域。但这类器件在制造和工作过程中，容易因材料缺陷或工艺问题产生漏电和局部过热，影响器件可靠性。thermal emmi 凭借其高灵敏度的光信号和热信号检测能力，能定位这些缺陷。例如，在检测氮化镓功率器件时，可同时捕捉漏电产生的微光和局部过热信号，帮助工程师分析缺陷产生的原因，优化器件结构和制造工艺，提升第三代半导体器件的质量。存在缺陷或性能不佳的半导体器件通常会表现出异常的局部功耗分布，终会导致局部温度增高。工业检测热红外显微镜应用

半导体芯片失效分析（EFA）中的热点定位。检测用热红外显微镜设备

热红外显微镜在材料科学研究中有着广泛应用。对于新型复合材料，其内部不同组分的导热性能存在差异，在外界温度变化或通电工作时，表面温度分布会呈现不均匀性。热红外显微镜能以超高的空间分辨率捕捉这种温度差异，清晰展示材料内部的热传导路径和热点分布。研究人员通过分析这些图像，可深入了解材料的热物理特性，为优化材料配方、改进制备工艺提供依据。比如在研发高导热散热材料时，借助热红外显微镜能直观观察不同添加成分对材料散热性能的影响，加速高性能材料的研发进程。检测用热红外显微镜设备