致晟光电的EMMI微光显微镜已广泛应用于集成电路制造、封测、芯片设计验证等环节。在失效分析中,它可以快速锁定ESD损伤点、漏电通道、局部短路以及工艺缺陷,从而帮助客户在短时间内完成问题定位并制定改进方案。在先进封装领域,如3D-IC、Fan-out封装,EMMI的非破坏检测能力尤为重要,可在不影响器件结构的情况下进行检测。致晟光电凭借灵活的系统定制能力,可根据不同企业需求调整探测波段、成像速度与台面尺寸,为国内外客户提供定制化解决方案,助力提高产品可靠性与市场竞争力。它不依赖外部激发(如激光或电流注入),而是利用芯片本身在运行或偏压状态下产生的“自发光”;工业检测微光显微镜24小时服务
致晟光电微光显微镜emmi应用领域对于失效分析而言,微光显微镜是一种相当有用,且效率极高的分析工具,主要侦测IC内部所放出光子。在IC原件中,EHP Recombination会放出光子,例如:在PN Junction加偏压,此时N的电子很容易扩散到P, 而P的空穴也容易扩散至N,然后与P端的空穴做EHP Recombination。 侦测到亮点之情况 会产生亮点的缺陷:1.漏电结;2.解除毛刺;3.热电子效应;4闩锁效应;5氧化层漏电;6多晶硅须;7衬底损失;8.物理损伤等。制冷微光显微镜牌子致晟光电持续精进微光显微技术,通过算法优化提升微光显微的信号处理效率。
借助EMMI对芯片进行全区域扫描,技术人员在短时间内便在特定功能模块检测到光发射信号。结合电路设计图和芯片版图信息,进一步分析显示,该故障点位于两条相邻铝金属布线之间,由于绝缘层局部损伤而形成短路。这一精细定位为后续的故障修复及工艺改进提供了可靠依据,同时也为研发团队优化设计、提升芯片可靠性提供了重要参考。通过这种方法,微光显微镜在芯片失效分析中展现出高效、可控且直观的应用价值,为半导体器件的质量保障提供了有力支持。
Thermal(热分析/热成像)指的是通过红外热成像(如ThermalEMMI或热红外显微镜)等方式,检测芯片发热异常的位置。通常利用的是芯片在工作时因电流泄漏或短路而产生的局部温升。常用于分析如:漏电、短路、功耗异常等问题。EMMI(光发射显微成像EmissionMicroscopy)是利用芯片在失效时(如PN结击穿、漏电)会产生微弱的光发射现象(多为近红外光),通过光电探测器捕捉这类自发光信号来确定失效点。更敏感于电性失效,如ESD击穿、闩锁等。对高密度集成电路,微光显微镜能有效突破可视化瓶颈。
致晟光电热红外显微镜采用高性能 InSb(铟锑)探测器,用于中波红外波段(3–5 μm)热辐射信号的高精度捕捉。InSb 材料具备优异的光电转换效率和极低本征噪声,在制冷条件下可实现 nW 级热灵敏度与优于 20 mK 的温度分辨率,支持高精度、非接触式热成像分析。该探测器在热红外显微系统中的应用,不仅提升了空间分辨率(可达微米量级)与温度响应线性度,还能对半导体器件和微电子系统中的局部发热缺陷、热点迁移及瞬态热行为进行精细刻画。结合致晟光电自主研发的高数值孔径光学系统与稳态热控平台,InSb 探测器可在多物理场耦合环境下实现高时空分辨的热场成像,是先进电子器件失效分析、电热耦合机理研究以及材料热特性评估中的前沿技术。技术员依靠图像快速判断。制造微光显微镜用户体验
Thermal EMMI 无需破坏封装,对芯片进行无损检测,有效定位 PN 结热漏电故障。工业检测微光显微镜24小时服务
例如,当某批芯片在测试中出现漏电失效时,微光显微镜能够准确定位具体的失效位置,为后续分析提供坚实基础。通过该定位信息,工程师可结合聚焦离子束(FIB)切割技术,对芯片截面进行精细观察,从而追溯至栅氧层缺陷或氧化工艺异常等具体问题环节。这一能力使得微光显微镜在半导体失效分析中成为定位故障点的重要工具,其高灵敏度的探测性能和高效的分析流程,为问题排查与解决提供了不可或缺的支撑。
在芯片研发阶段,该设备可以帮助研发团队快速锁定设计或工艺中的潜在隐患,避免资源浪费和试错成本的增加;在量产环节,微光显微镜能够及时发现批量性失效的源头,为生产线的调整和优化争取宝贵时间,降低经济损失;在产品应用阶段,它还能够为可靠性问题的排查提供参考,辅助企业提升产品质量和市场信誉。无论是面向先进制程的芯片研发,还是成熟工艺的量产检测,这套设备凭借其独特技术优势,在失效分析流程中发挥着不可替代的作用,为半导体企业实现高效运转和技术升级提供了有力支持。 工业检测微光显微镜24小时服务