高精度热红外显微镜

thermal emmi（热红外显微镜）是结合了热成像与光电发射检测技术的先进设备，它不仅能捕捉半导体器件因缺陷产生的微弱光信号，还能同步记录缺陷区域的温度变化，实现光信号与热信号的协同分析。当半导体器件存在漏电等缺陷时，除了会产生载流子复合发光，往往还会伴随局部温度升高，thermal emmi 通过整合两种检测方式，可更好地反映缺陷的特性。例如，在检测功率半导体器件时，它能同时定位漏电产生的微光信号和因漏电导致的局部过热点，帮助工程师判断缺陷的类型和严重程度，为失效分析提供更丰富的信息。热红外显微镜原理基于物体红外辐射定律，利用探测器接收微观区域热辐射并转化为电信号分析。高精度热红外显微镜

红外线介于可见光和微波之间，波长范围0.76~1000μm。凡是高于jd零度(0 K，即-273.15℃)的物质都可以产生红外线，也叫黑体辐射。

由于红外肉眼不可见，要察觉这种辐射的存在并测量其强弱离不开红外探测器。1800年英国天文学家威廉·赫胥尔发现了红外线，随着后续对红外技术的不断研究以及半导体技术的发展，红外探测器得到了迅猛的发展，先后出现了硫化铅(PbS)、碲化铅(PbTe)、锑化铟(InSb)、碲镉汞(HgCdTe，简称MCT)、铟镓砷(InGaAs)、量子阱(QWIP)、二类超晶格(type-II superlattice，简称T2SL)、量子级联(QCD)等不同材料红外探测器等 国内热红外显微镜成像仪热红外显微镜应用：在材料科学中用于研究复合材料导热性能，分析不同组分的热传导差异及界面热行为。

无损热红外显微镜的非破坏性分析（NDA）技术，为失效分析提供了 “保全样品” 的重要手段。它在不损伤高价值样品的前提下，捕捉隐性热信号以定位内部缺陷，既保障了分析的准确性，又为后续验证、复盘保留了完整样本，让失效分析从 “找到问题” 到 “解决问题” 的闭环更高效、更可靠。相较于无损热红外显微镜的非侵入式检测，这些有损分析方法虽能获取内部结构信息，但会破坏样品完整性，更适合无需保留样品的分析场景，与无损分析形成互补！

随着半导体器件向先进封装（如 2.5D/3D IC、Chiplet 集成）方向发展，传统失效分析方法在穿透力和分辨率之间往往存在取舍。而 Thermal EMMI 在这一领域展现出独特优势，它能够透过硅层或封装材料观测内部热点分布，并在不破坏结构的情况下快速锁定缺陷位置。对于 TSV（硅通孔）结构中的漏电、短路或工艺缺陷，Thermal EMMI 结合多波段探测和长时间积分成像，可在微瓦级功耗下识别异常点，极大减少了高价值样品的损坏风险。这一能力让 Thermal EMMI 成为先进封装良率提升的重要保障，也为后续的物理剖片提供精确坐标，从而节省分析时间与成本。热红外显微镜成像：支持三维热成像重构，通过分层扫描样品不同深度，生成立体热分布模型。

从技术演进来看，热红外显微镜thermal emmi正加速向三大方向突破：一是灵敏度持续跃升，如量子点探测器的应用可大幅增强光子捕捉能力，让微弱热信号的识别更精确；二是多模态融合，通过集成 EMMI 光子探测、OBIRCH 电阻分析等功能，实现 “热 - 光 - 电” 多维度协同检测；三是智能化升级，部分设备已内置 AI 算法，能自动标记异常热点并生成分析报告。这些进步为半导体良率提升、新能源汽车电驱系统热管理等场景，提供了更高效、更好的解决方案。 热红外显微镜应用于生物医学领域，可观测细胞代谢产生的微弱热信号，为生命科学研究提供支持。工业检测热红外显微镜选购指南

Thermal 热红外显微镜属于光学失效定位中的一种，用于捕捉器件中因失效产生的微弱 / 隐性热信号。高精度热红外显微镜

热点区域对应高温部位，可能是发热源或故障点；等温线连接温度相同点，直观呈现温度梯度与热量传导规律。

当前市面上多数设备受限于红外波长及探测器性能，普遍存在热点分散、噪点繁多的问题，直接导致发热区域定位偏差、图像对比度与清晰度下降，严重影响温度分布判断的准确性。

而我方设备优势明显：抗干扰能力强，可有效削弱外界环境及内部器件噪声干扰，确保图像稳定可靠；等温线清晰锐利，能圈定温度相同区域，便于快速掌握温度梯度与热传导路径，大幅提升热特性分析精度；成像效果大幅升级，具备更高的空间分辨率、温度分辨率及对比度，细微细节清晰可辨，为深度分析提供高质量图像支撑。 高精度热红外显微镜