漏电是芯片另一种常见的失效模式,其诱因复杂多样,既可能源于晶体管长期工作后的老化衰减,也可能由氧化层存在裂纹等缺陷引发。
与短路类似,芯片内部发生漏电时,漏电路径中会伴随微弱的光发射现象——这种光信号的强度往往远低于短路产生的光辐射,对检测设备的灵敏度提出了极高要求。EMMI凭借其的微光探测能力,能够捕捉到漏电产生的极微弱光信号。通过对芯片进行全域扫描,可将漏电区域以可视化图像的形式清晰呈现,使工程师能直观识别漏电位置与分布特征。
介电层漏电时,微光显微镜可检测其光子定位位置,保障电子器件绝缘结构可靠,防止电路故障。科研用微光显微镜内容

致晟光电在推动产学研一体化进程中,积极开展校企合作。公司依托南京理工大学光电技术学院,专注开发基于微弱光电信号分析的产品及应用。双方联合攻克技术难题,不断优化实时瞬态锁相红外热分析系统(RTTLIT),使该系统温度灵敏度可达0.0001℃,功率检测限低至1uW,部分功能及参数优于进口设备。此外,致晟光电还与其他高校建立合作关系,搭建起学业-就业贯通式人才孵化平台。为学生提供涵盖研发设计、生产实践、项目管理全链条的育人平台,输送了大量实践能力强的专业人才,为企业持续创新注入活力。通过建立科研成果产业孵化绿色通道,高校的前沿科研成果得以快速转化为实际生产力,实现了高校科研资源与企业市场转化能力的优势互补。非制冷微光显微镜运动电路验证中出现闩锁效应及漏电,微光显微镜可定位位置,为电路设计优化提供依据,保障系统稳定运行。

在半导体芯片漏电检测中,微光显微镜为工程师快速锁定问题位置提供了关键支撑。当芯片施加工作偏压时,设备即刻启动检测模式 —— 此时漏电区域因焦耳热效应会释放微弱的红外辐射,即便辐射功率为 1 微瓦,高灵敏度探测器也能捕捉到这一极微弱信号。这种检测方式的在于,通过热成像技术将漏电点的红外辐射转化为可视化热图,再与电路版图进行叠加分析,可实现漏电点的微米级精确定位。相较于传统检测手段,微光设备无需拆解芯片即可完成非接触式检测,既避免了对芯片的二次损伤,又能在不干扰正常电路工作的前提下,捕捉到漏电区域的细微热信号。
致晟光电作为专注于微光显微镜与热红外显微镜应用的技术团队,设备在微小目标定位、热分布成像等场景中具备高分辨率优势,可广泛应用于芯片、PCB板、显示屏等消费电子元器件的检测环节,为您提供客观的物理位置或热分布定位数据。
为让您更直观了解设备的定位精度与适用性,我们诚挚邀请贵单位参与样品测试合作:若您有需要进行微光定位(如细微结构位置标记、表面瑕疵定位)或热红外定位(如元器件发热点分布、温度梯度成像)的样品,可邮寄至我方实验室。我们将提供专业检测服务,输出包含图像、坐标、数值等在内的定位数据报告(注:报告呈现客观检测结果,不做定性或定量结论判断)。测试过程中,我们会根据您的需求调整检测参数,确保定位数据贴合实际应用场景。若您对设备的定位效果认可,可进一步洽谈设备采购或长期检测服务合作。 通过调节探测灵敏度,它能适配不同漏电流大小的检测需求,灵活应对多样的检测场景。

微光显微镜(EMMI)无法探测到亮点的情况:
一、不会产生亮点的故障有欧姆接触(OhmicContact)金属互联短路(MetalInterconnectShort)表面反型层(SurfaceInversionLayer)硅导电通路(SiliconConductingPath)等。
二、亮点被遮蔽的情况有掩埋结(BuriedJunctions)及金属下方的漏电点(LeakageSitesunderMetal)。此类情况可采用背面观测模式(backsidemode),但该模式*能探测近红外波段的发光,且需对样品进行减薄及抛光处理等。 我司自研含微光显微镜等设备,获多所高校、科研院所及企业认可使用,性能佳,广受赞誉。显微微光显微镜货源充足
为提升微光显微镜探测力,我司多种光学物镜可选,用户可依样品工艺与结构选装,满足不同微光探测需求。科研用微光显微镜内容
随着器件尺寸的逐渐变小,MOS器件的沟道长度也逐渐变短。短沟道效应也愈发严重。短沟道效应会使得MOS管的漏结存在一个强电场,该电场会对载流子进行加速,同时赋予载流子一个动能,该载流子会造成中性的Si原子被极化,产生同样带有能量的电子与空穴对,这种电子与空穴被称为热载流子,反映在能带图中就是电位更高的电子和电位更低的空穴。一部分热载流子会在生成后立马复合,产生波长更短的荧光,另一部分在电场的作用下分离。电子进入栅氧层,影响阈值电压,空穴进入衬底,产生衬底电流。归因于短沟道效应能在MOS管的漏端能看到亮点,同样在反偏PN结处也能产生强场,也能观察到亮点。科研用微光显微镜内容