非制冷微光显微镜工作原理

微光显微镜技术特性差异

探测灵敏度方向：EMMI 追求对微弱光子的高灵敏度（可检测单光子级别信号），需配合暗场环境减少干扰；热红外显微镜则强调温度分辨率（部分设备可达 0.01℃），需抑制环境热噪声。

空间分辨率：EMMI 的分辨率受光学系统和光子波长限制，通常在微米级；热红外显微镜的分辨率与红外波长、镜头数值孔径相关，一般略低于 EMMI，但更注重大面积热分布的快速成像。

样品处理要求：EMMI 对部分遮蔽性失效（如金属下方漏电）需采用背面观测模式，可能需要减薄、抛光样品；

处理要求：热红外显微镜可透过封装材料（如陶瓷、塑料）探测，对样品破坏性较小，更适合非侵入式初步筛查。 微光显微镜的自动瑕疵分类系统，可依据发光的强度、形状等特征进行归类，提高检测报告的生成效率。非制冷微光显微镜工作原理

为了让客户对设备品质有更直观的了解，我们大力支持现场验货。您可以亲临我们的实验室，近距离观察设备的外观细节，亲身操作查验设备的运行性能、精度等关键指标。每一台设备都经过严格的出厂检测，我们敢于将品质摆在您眼前，让您在采购前就能对设备的实际状况了然于胸，消除后顾之忧。一位来自汽车零部件厂商的客户分享道：“之前采购设备总担心实际性能和描述有差距，在致晟光电现场验货时，工作人员耐心陪同我们测试，设备的精度和稳定性都超出预期，这下采购心里踏实多了。”直销微光显微镜售价我司微光显微镜可检测 TFT LCD 面板及 PCB/PCBA 金属线路缺陷和短路点，为质量控制与维修提供高效准确方法。

微光显微镜（EMMI）无法探测到亮点的情况:

一、不会产生亮点的故障有欧姆接触（OhmicContact）金属互联短路（MetalInterconnectShort）表面反型层（SurfaceInversionLayer）硅导电通路（SiliconConductingPath）等。

二、亮点被遮蔽的情况有掩埋结（BuriedJunctions）及金属下方的漏电点（LeakageSitesunderMetal）。此类情况可采用背面观测模式（backsidemode），但该模式*能探测近红外波段的发光，且需对样品进行减薄及抛光处理等。

相较于传统微光显微镜，InGaAs（铟镓砷）微光显微镜在检测先进制程组件微小尺寸组件的缺陷方面具有更高的适用性。其原因在于，较小尺寸的组件通常需要较低的操作电压，这导致热载子激发的光波长增长。InGaAs微光显微镜特别适合于检测先进制程产品中的亮点和热点（HotSpot）定位。InGaAs微光显微镜与传统EMMI在应用上具有相似性，但InGaAs微光显微镜在以下方面展现出优势：

1.侦测到缺陷所需时间为传统EMMI的1/5~1/10；

2.能够侦测到微弱电流及先进制程中的缺陷；

3.能够侦测到较轻微的MetalBridge缺陷；

4.针对芯片背面（Back-Side）的定位分析中，红外光对硅基板具有较高的穿透率。 分析低阻抗短路时，微光显微镜可用于未开盖样品测试，还能定位大型 PCB 上金属线路及元器件失效点。

此外，可靠的产品质量是企业赢得客户信任、巩固市场份额的基础。通过微光显微镜(EMMI)的严格检测，企业能确保交付给客户的芯片具备稳定的性能和较高的可靠性，减少因产品故障导致的客户投诉和返工或者退货风险。这种对质量的坚守，会逐渐积累成企业的品牌口碑，使客户在选择供应商时更倾向于信赖具备完善检测能力的企业，从而增强企业的市场竞争力。

微光显微镜不仅是一种检测工具，更是半导体企业提升产品质量、加快研发进度、筑牢品牌根基的战略资产。在全球半导体产业竞争日趋白热化的当今，配备先进的微光显微镜设备，将帮助企业在技术创新与市场争夺中持续领跑，构筑起难以复制的核心竞争力。 其搭载的图像增强算法，能强化微弱光子信号，减少噪声干扰，使故障点成像更鲜明，便于识别。低温热微光显微镜

半导体失效分析中，微光显微镜可侦测失效器件光子，定位如 P-N 接面漏电等故障点，助力改进工艺、提升质量。非制冷微光显微镜工作原理

微光显微镜无法检测不产生光子的失效（如欧姆接触、金属短路），且易受强光环境干扰；热红外显微镜则难以识别无明显温度变化的失效（如轻微漏电但功耗极低的缺陷），且温度信号可能受环境热传导影响。

实际分析中，二者常结合使用，通过 “光 - 热” 信号交叉验证，提升失效定位的准确性。致晟光电在技术创新的征程中，实现了一项突破性成果 —— 将热红外显微镜与微光显微镜集可以集成于一台设备，只需一次采购，便可以节省了重复的硬件投入。 非制冷微光显微镜工作原理