国产微光显微镜与光学显微镜对比

通过对这些微光信号的成像与定位，它能直接“锁定”电性能缺陷的物理位置，如同在黑夜中捕捉萤火虫的微光，实现微米级的定位。而热红外显微镜则是“温度的解读师”，依托红外热成像技术，它检测的是芯片工作时因能量损耗产生的温度差异。电流通过芯片时的电阻损耗、电路短路时的异常功耗，都会转化为局部温度的细微升高，这些热量以红外辐射的形式散发，被热红外显微镜捕捉并转化为热分布图。通过分析温度异常区域，它能间接推断电路中的故障点，尤其擅长发现与能量损耗相关的问题。通过与光谱仪联用，可分析光子的光谱信息，为判断缺陷类型提供更多依据，增强分析的全面性。国产微光显微镜与光学显微镜对比

微光显微镜技术特性差异

探测灵敏度方向：EMMI 追求对微弱光子的高灵敏度（可检测单光子级别信号），需配合暗场环境减少干扰；热红外显微镜则强调温度分辨率（部分设备可达 0.01℃），需抑制环境热噪声。

空间分辨率：EMMI 的分辨率受光学系统和光子波长限制，通常在微米级；热红外显微镜的分辨率与红外波长、镜头数值孔径相关，一般略低于 EMMI，但更注重大面积热分布的快速成像。

样品处理要求：EMMI 对部分遮蔽性失效（如金属下方漏电）需采用背面观测模式，可能需要减薄、抛光样品；

处理要求：热红外显微镜可透过封装材料（如陶瓷、塑料）探测，对样品破坏性较小，更适合非侵入式初步筛查。 半导体微光显微镜内容其低噪声电缆连接设计，减少信号传输过程中的损耗，确保微弱光子信号完整传递至探测器。

同时，微光显微镜（EMMI）带来的高效失效分析能力，能大幅缩短研发周期。在新产品研发阶段，快速发现并解决失效问题，可避免研发过程中的反复试错，加快产品从实验室走向市场的速度。当市场需求瞬息万变时，更快的研发响应速度意味着企业能抢先推出符合市场需求的产品，抢占市场先机。例如，在当下市场 5G 芯片、AI 芯片等领域，技术迭代速度极快，谁能更早解决研发中的失效难题，谁就能在技术竞争中争先一步，建立起差异化的竞争优势。

在半导体 MEMS 器件检测领域，微光显微镜凭借其超灵敏的感知能力，展现出不可替代的技术价值。MEMS 器件的结构往往以微米级尺度存在，这些微小部件在运行过程中会产生极其微弱的红外辐射变化 —— 这种信号强度常低于常规检测设备的感知阈值，却能被微光显微镜及时捕捉。通过先进的光电转换与信号放大技术，微光设备将捕捉到的红外辐射信号转化为直观的动态图像。通过图像分析工具，可量化提取结构的位移幅度、振动频率等关键参数。这种检测方式突破了传统接触式测量对微结构的干扰问题。介电层漏电时，微光显微镜可检测其光子定位位置，保障电子器件绝缘结构可靠，防止电路故障。

需要失效分析检测样品，我们一般会在提前做好前期的失效背景调查和电性能验证工作，能够为整个失效分析过程找准方向、提供依据，从而更高效、准确地找出芯片失效的原因。

1.失效背景调查收集芯片型号、应用场景、失效模式（如短路、漏电、功能异常等）、失效比例、使用环境（温度、湿度、电压）等。确认失效是否可复现，区分设计缺陷、制程问题或应用不当（如过压、ESD）。

2.电性能验证使用自动测试设备（ATE）或探针台（ProbeStation）复现失效，记录关键参数（如I-V曲线、漏电流、阈值电压偏移）。对比良品与失效芯片的电特性差异，缩小失效区域（如特定功能模块）。 微光显微镜的快速预热功能，可缩短设备启动至正常工作的时间，提高检测效率。高分辨率微光显微镜性价比

我司微光显微镜探测芯片封装打线及内部线路短路产生的光子，快速定位短路位置，优势独特。国产微光显微镜与光学显微镜对比

考虑到部分客户的特殊应用场景，我们还提供Thermal&EMMI的个性化定制服务。无论是设备的功能模块调整、性能参数优化，还是外观结构适配，我们都能根据您的具体需求进行专属设计与研发。凭借高效的研发团队和成熟的生产体系，定制项目通常在 2-3 个月内即可完成交付，在保证定制灵活性的同时，充分兼顾了交付效率，让您的特殊需求得到及时且满意的答案。致晟光电始终致力于为客户提供更可靠、更贴心的服务，期待与您携手共进，共创佳绩。国产微光显微镜与光学显微镜对比