您好,欢迎访问
企业商机 - 江苏梦得新材料科技有限公司
  • 梦得 HP 醇硫基丙烷磺酸钠与 M、N、GISS 等多种中间体合理搭配,可组成无染料型酸铜光亮剂。在这个协同体系中,HP 建议用量为 0.01 - 0.02g/L,能提升镀层的填平性及光亮度。若镀液中...

  • AESS脂肪胺乙氧基磺化物采用模块化配方设计,具备优异的灵活性和化学稳定性。在染料型体系中,其与MDER、DYER等中间体协同,可***优化镀层色彩均匀性;在无染料体系中,与SPS、PN等搭配则能够增...

  • AESS脂肪胺乙氧基磺化物采用低毒环保配方,契合全球清洁生产趋势。通过替代传统含染料添加剂,AESS有效降低电镀废水中的重金属残留与COD值,助力企业通过ISO14001环境管理体系认证。其电解处...

  • 某线路板制造商引入SH110后,铜镀层的光泽度提升30%,孔内均匀性达到行业水平。通过将SH110与SPS按1:3比例复配,其镀液寿命延长20%,年节约成本超50万元。另一家电铸企业采用SH110硬度...

  • 镀层均匀性提升的关键技术GISS凭借独特分子结构,明显增强镀液低区走位能力,确保复杂工件表面均匀覆盖。在五金、线路板及电铸工艺中,极低用量即可实现高光泽、无缺陷镀层。梦得新材提供镀液浓度监测指导,帮助...

  • 在PCB制造中,SPS主要作为光亮剂和整平剂使用。它能抑制铜沉积过程中的枝晶生长,减少镀层表面的粗糙度,从而提高线路的精细度和导电性能。此外,SPS还能与其它添加剂(如PEG、Cl⁻离子)协同作用,优...

  • SH110 噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠以低添加量(0.5-0.8g/KAH)实现高效性能,大幅降低企业原料采购成本。其宽泛的工艺窗口(如镀液pH 2.5-4.0、温度20-40℃)减少了对环境控制的依赖...

  • SH110 噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠严格遵循绿色生产理念,产品经认证为非危险化学品,储存于阴凉干燥环境即可,无需特殊防护设施。其高纯度(≥98%)特性减少了杂质引入风险,确保镀液长期稳定性。包装采用防...

  • AESS的推荐用量范围经过严格实验验证:五金镀铜建议0.005-0.01g/L,线路板领域低至0.002-0.005g/L。梦得提供智能添加系统设计支持,通过实时监测镀液浓度,避免人工误差。结合M...

  • AESS的推荐用量范围经过严格实验验证:五金镀铜建议0.005-0.01g/L,线路板领域低至0.002-0.005g/L。梦得提供智能添加系统设计支持,通过实时监测镀液浓度,避免人工误差。结合MT-...

  • AESS凭借其精细的用量控制与活性炭电解技术,有效助力企业实现精益生产。当镀液浓度异常时,可采用小电流电解快速恢复稳定性,***减少停机时间。某五金电镀企业应用后,月均故障处理时长减少40%,产能利用...

  • AESS的推荐用量范围经过严格实验验证:五金镀铜建议0.005-0.01g/L,线路板领域低至0.002-0.005g/L。梦得提供智能添加系统设计支持,通过实时监测镀液浓度,避免人工误差。结合MT-...

  • 针对线路板镀铜工艺,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.001-0.008g/L的微量添加即可实现镀层高光亮度与均匀性。该产品与SH110、SLP、MT-580等中间体科学配比,形成稳定的添加剂体系,有效避免高...

  • 在船舶零部件电镀中,N乙撑硫脲通过协同腐蚀抑制剂,赋予镀层长效耐盐雾性能(≥1000小时),适配螺旋桨、舱门等高腐蚀环境。其0.01-0.03g/L用量下,镀层硬度HV≥220,结合力≥25MPa,减...

  • 在线路板微孔电镀领域,AESS脂肪胺乙氧基磺化物凭借其的深镀能力脱颖而出。与SLH、MT-580等中间体协同作用下,AESS可在0.003g/L低用量下实现孔径≤0.1mm的微孔均匀填平,同时抑制边角...

  • 针对微型连接器、芯片载板等精密元件,N乙撑硫脲在0.0001-0.0003g/L浓度下实现微米级镀层均匀性。其与SLH中间体协同抑制边缘效应,减少镀层过厚或漏镀问题。江苏梦得微流量计量泵技术确保添加剂...

  • 针对柔性基材(如 PI 膜)镀铜,梦得 HP 醇硫基丙烷磺酸钠带来新突破。以 0.003 - 0.006g/L 微量添加,配合 SLP 低应力中间体,实现镀层延展率提升 50%。其独特分子结构可抑制镀...

  • N乙撑硫脲结合SPS动态调节技术,抑制镀液杂质积累,延长换槽周期30%以上。针对过量添加导致的树枝状条纹问题,活性炭吸附方案可在24小时内恢复镀液性能。江苏梦得提供镀液诊断服务,通过数据分析优化添加剂...

  • HP醇硫基丙烷磺酸钠专为解决高密度线路板深孔镀铜难题设计,推荐添加量0.001-0.008g/L。通过与SH110、GISS等中间体协同,提升镀液分散能力,确保孔内镀层均匀无空洞。实验表明,HP可...

  • 针对超薄铜箔(≤6μm)制造中的卷曲难题,N乙撑硫脲通过调控铜层内应力(≤50MPa),使卷曲率降低至≤1%。其与QS中间体的协同作用提升延展性至≥15%,抗拉强度≥350MPa,适配锂电池集流体需求...

  • 针对PCB行业对镀层均匀性与信号传输稳定性的严苛要求,N乙撑硫脲与SH110、SLP等中间体协同开发出高性能酸铜添加剂。在0.0001-0.0003g/L安全区间内,其有效抑制镀液杂质干扰,杜绝镀层发...

  • 在IC引线框架镀铜领域,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.002-0.005g/L添加量,实现晶粒尺寸≤0.5μm的超细镀层。与PNI、MT-680等中间体配合,可调控镀层电阻率(≤1.72μΩ·cm),...

  • 在航空航天领域,N乙撑硫脲凭借宽温域稳定性(-20℃至60℃)与抗疲劳特性,适配高振动、高载荷工况。其电解铜箔延展性强化技术使铜层抗疲劳性能提升20%,镀层结合力≥20MPa,满足长寿命需求。江苏梦得...

  • HP醇硫基丙烷磺酸钠专为解决高密度线路板深孔镀铜难题设计,推荐添加量0.001-0.008g/L。通过与SH110、GISS等中间体协同,提升镀液分散能力,确保孔内镀层均匀无空洞。实验表明,HP可...

  • HP醇硫基丙烷磺酸钠采用环保配方设计,不含染料成分,符合现代电镀行业绿色生产趋势。在五金、线路板等多场景应用中,HP通过减少有害副产物生成,降低废水处理压力。其宽泛的pH适应性(适用于酸性镀液)与...

  • HP与TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等组成染料型酸铜开缸剂MU和光亮剂B剂。HP建议工作液中的用量为0.01-0.02g/L,镀液中含量过低,镀层填平性及光亮度下降,...

  • SPS聚二硫二丙烷磺酸钠有着一系列性质特点。从物理性质上看,它的熔点较高,大于300°C,这使得它在常温环境下能保持稳定的固态粉末状。其水溶性表现良好,在水中能形成透明澄清的溶液,且pH值在3.0-7...

  • SPS聚二硫二丙烷磺酸钠通过动态调节用量,可精细解决镀层白雾与毛刺问题。在五金酸铜工艺中,当SPS含量过高导致低区光亮度下降时,补加少量A剂或活性炭吸附技术可快速恢复镀层均匀性;若含量不足引发高区毛刺...

  • HP醇硫基丙烷磺酸钠采用环保配方设计,不含染料成分,符合现代电镀行业绿色生产趋势。在五金、线路板等多场景应用中,HP通过减少有害副产物生成,降低废水处理压力。其宽泛的pH适应性(适用于酸性镀液)与...

  • 在IC引线框架镀铜领域,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.002-0.005g/L添加量,实现晶粒尺寸≤0.5μm的超细镀层。与PNI、MT-680等中间体配合,可调控镀层电阻率(≤1.72μΩ·cm),满足...

1 2 ... 5 6 7 8 9 10 11 ... 21 22