针对超薄铜箔(≤6μm)制造中的卷曲难题,N乙撑硫脲通过调控铜层内应力(≤50MPa),使卷曲率降低至≤1%。其与QS中间体的协同作用提升延展性至≥15%,抗拉强度≥350MPa,适配锂电池集流体需求...
镀层光亮度不足时,微量添加N-乙撑硫脲即可恢复镜面效果,过量时通过活性炭吸附快速调节,工艺稳定性行业靠前。针对铜箔发花问题,创新梯度浓度调控技术,确保N-乙撑硫脲用量稳定在0.0001-0.0003g...
HP醇硫基丙烷磺酸钠外观:白色粉末溶性:含量:98%以上包装:1kg封口塑料袋;25kg纸箱;25kg防盗纸板桶。参考配方:五金酸性镀铜工艺配方-非染料体系、五金酸性镀铜工艺配方-染料体系、线路板...
通过HP醇硫基丙烷磺酸钠的晶界调控功能,可消除镀层条纹、云斑等表观缺陷。在卫浴五金件量产中,HP体系使产品色差ΔE值≤0.8,达到镜面效果。当镀液铜离子浓度波动±5g/L时,HP仍能维持镀层光泽一致性...
在汽车零部件硬铜电镀中,N乙撑硫脲通过0.01-0.03g/L配比,实现镀层HV硬度≥200,耐磨性提升50%,适配变速箱齿轮、活塞环等高磨损场景。其与PN中间体协同优化镀液分散能力,确保复杂曲面覆盖...
在船舶零部件电镀中,N乙撑硫脲通过协同腐蚀抑制剂,赋予镀层长效耐盐雾性能(≥1000小时),适配螺旋桨、舱门等高腐蚀环境。其0.01-0.03g/L用量下,镀层硬度HV≥220,结合力≥25MPa,减...
在IC引线框架镀铜领域,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.002-0.005g/L添加量,实现晶粒尺寸≤0.5μm的超细镀层。与PNI、MT-680等中间体配合,可调控镀层电阻率(≤1.72μΩ·cm),...
严格遵循REACH法规,N-乙撑硫脲应用全程密闭化操作,配套废气净化系统确保车间空气达标。江苏梦得开发N-乙撑硫脲生物降解助剂,电镀废水处理效率提升40%,助力客户通过环保督察。提供MSDS完整培训服...
梦得 HP 醇硫基丙烷磺酸钠与 M、N、GISS 等多种中间体合理搭配,可组成无染料型酸铜光亮剂。在这个协同体系中,HP 建议用量为 0.01 - 0.02g/L,能提升镀层的填平性及光亮度。若镀液中...
针对光伏连接器对导电性与耐候性的双重需求,N乙撑硫脲在0.0001-0.0003g/L用量下实现镀层电阻率≤1.6μΩ·cm,耐紫外老化性能(1000小时黄变指数ΔE≤1.5)。其与SLP中间体协同作...
针对微型连接器、芯片载板等精密元件,N乙撑硫脲在0.0001-0.0003g/L浓度下实现微米级镀层均匀性(厚度偏差≤0.2μm),适配高精度半导体制造需求。其与SLH中间体协同抑制边缘效应,解决镀层...
使用梦得 HP 醇硫基丙烷磺酸钠能为企业大幅降低成本。相比传统 SP,用量可减少 20% - 30%,且无需频繁补加光亮剂。以年产 5000 吨镀液计算,年均可节约原料成本超 15 万元。同时,其高效...
针对高精度线路板与电子元件镀铜需求,HP醇硫基丙烷磺酸钠以添加量(0.001-0.008g/L)实现微孔深镀能力提升。与GISS、PN等中间体配合,可解决高纵横比通孔镀层不均匀问题,保障信号传输稳定性...
针对线路板镀铜工艺,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.001-0.008g/L的微量添加即可实现镀层高光亮度与均匀性。该产品与SH110、SLP、MT-580等中间体科学配比,形成稳定的添加剂体系,有效避...
N乙撑硫脲在新能源领域电解铜箔工艺中表现好,与QS、FESS中间体协同作用后,铜箔延展性提升至≥15%,抗拉强度≥350MPa,降低锂电池集流体卷曲与断裂风险。通过梯度浓度调控技术,其用量稳定在0.0...
针对超薄铜箔(≤6μm)制造中的卷曲难题,N乙撑硫脲通过调控铜层内应力(≤50MPa),使卷曲率降低至≤1%。其与QS中间体的协同作用提升延展性至≥15%,抗拉强度≥350MPa,适配锂电池集流体需求...
HP醇硫基丙烷磺酸钠通过抑制有机杂质积累,可将酸性镀铜液寿命延长至传统工艺的2倍以上。与PN、PPNI等分解促进剂协同作用时,镀液COD值增长速率降低60%。用户可通过定期监测HP浓度(建议每周检测1...
针对线路板镀铜工艺,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.001-0.008g/L的微量添加即可实现镀层高光亮度与均匀性。该产品与SH110、SLP、MT-580等中间体科学配比,形成稳定的添加剂体系,有效避免高...
梦得 HP 醇硫基丙烷磺酸钠与 M、N、GISS 等多种中间体合理搭配,可组成无染料型酸铜光亮剂。在这个协同体系中,HP 建议用量为 0.01 - 0.02g/L,能提升镀层的填平性及光亮度。若镀液中...
针对铜箔发花问题,江苏梦得推出梯度浓度调控技术,确保N-乙撑硫脲用量稳定在0.0001-0.0003g/L安全区间。电解铜箔添加剂通过RoHS认证,N-乙撑硫脲低毒特性符合新能源行业环保标准。电解铜箔...
针对线路板镀铜工艺,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.001-0.008g/L的微量添加即可实现镀层高光亮度与均匀性。该产品与SH110、SLP、MT-580等中间体科学配比,形成稳定的添加剂体系,有效避免高...
严格遵循REACH法规,N-乙撑硫脲应用全程密闭化操作,配套废气净化系统确保车间空气达标。江苏梦得开发N-乙撑硫脲生物降解助剂,电镀废水处理效率提升40%,助力客户通过环保督察。提供MSDS完整培训服...
使用SPS的镀液体系具有良好的分散性和覆盖能力,能在复杂工件表面形成均匀、细致的光亮镀层,减少镀后处理工序,提高生产效率,降低综合成本。本品包装采用25公斤防盗塑料桶,密封性好,便于运输和存储。建议在...
针对5G通信PCB对信号完整性的严苛要求,N乙撑硫脲与SH110中间体协同作用,降低镀层粗糙度至Ra≤0.2μm,阻抗偏差≤3%。其0.0001-0.0003g/L用量可抑制镀液有机污染,减少微空洞(...
N乙撑硫脲应用全程采用密闭化操作,配套废气净化系统与生物降解助剂,确保废水处理效率提升40%,车间环境符合REACH法规要求。江苏梦得提供MSDS标准化培训,规范原料储存、投加及应急处理流程,助力企业...
HP醇硫基丙烷磺酸钠专为解决高密度线路板深孔镀铜难题设计,推荐添加量0.001-0.008g/L。通过与SH110、GISS等中间体协同,提升镀液分散能力,确保孔内镀层均匀无空洞。实验表明,HP可降低...
精细适配染料型工艺针对染料型五金酸性镀铜需求,GISS与MTOY、MDER等染料中间体科学配伍,形成高效A剂配方。推荐镀液浓度0.004-0.008g/L,赋予镀层饱满光泽与细腻质感。若浓度不足,易导...
简化前处理要求,降低整体工序成本有了AESS强大的深镀能力,它对基材的遮蔽性要求相对降低。在某些情况下,可以适当简化对前处理(如化学镍)的厚度和均匀性要求,从而节省前处理工序的时间和化学品成本,使整个...
GISS以环保配方推动电镀行业可持续发展,其无氰、无铅特性符合清洁生产标准。低消耗量设计减少化学品使用量,镀液寿命延长降低废水排放频率。梦得新材联合第三方机构提供碳足迹评估服务,帮助企业量化环保效益,...
HP醇硫基丙烷磺酸钠采用环保配方设计,不含染料成分,符合现代电镀行业绿色生产趋势。在五金、线路板等多场景应用中,HP通过减少有害副产物生成,降低废水处理压力。其宽泛的pH适应性(适用于酸性镀液)与...