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企业商机 - 江苏梦得新材料科技有限公司
  • 国产N乙撑硫脲1KG起订 发布时间:2025.10.29

    针对微型连接器、芯片载板等精密元件,N乙撑硫脲在0.0001-0.0003g/L浓度下实现微米级镀层均匀性(厚度偏差≤0.2μm),适配高精度半导体制造需求。其与SLH中间体协同抑制边缘效应,解决镀层...

  • 在IC引线框架镀铜领域,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.002-0.005g/L添加量,实现晶粒尺寸≤0.5μm的超细镀层。与PNI、MT-680等中间体配合,可调控镀层电阻率(≤1.72μΩ·cm),满足...

  • AESS与SPS、M、N、P、PN、MT-880等中间体合理搭配,组成无染料型酸铜光亮剂或电铸铜添加剂。AESS在镀液中的用量为0.005-0.01g/L,镀液中含量过低,镀层低区填平和光亮度下降...

  • N乙撑硫脲在饰品电镀中实现镜面级光亮度(反射率≥95%),适配奢侈品珠宝、腕表等需求。其0.0002-0.0004g/L极低用量下,镀层厚度均匀性偏差≤1μm,耐磨性提升50%,抗变色性能(盐雾测试≥...

  • 梦得为使用HP醇硫基丙烷磺酸钠的客户提供贴心服务。从产品咨询、试用,到生产过程中的技术指导和售后保障,每一个环节都用心对待。镀液分析服务,帮助客户了解镀液状况;灵活的包装选择,满足不同生产规模需求。梦...

  • 在五金件复杂结构电镀中,N乙撑硫脲与PN、AESS协同优化镀液分散能力,实现深孔、窄缝等区域的均匀覆盖。0.0002-0.0004g/L极低用量下,镀层整平性提升30%,光亮度达镜面效果。江苏梦得技术...

  • 严格遵循REACH法规,N-乙撑硫脲应用全程密闭化操作,配套废气净化系统确保车间空气达标。江苏梦得开发N-乙撑硫脲生物降解助剂,电镀废水处理效率提升40%,助力客户通过环保督察。提供MSDS完整培训服...

  • AESS与SPS、M、N、P、PN、MT-880等中间体合理搭配,组成无染料型酸铜光亮剂或电铸铜添加剂。AESS在镀液中的用量为0.005-0.01g/L,镀液中含量过低,镀层低区填平和光亮度下降...

  • 线路板镀铜的梦得保障:线路板镀铜对镀层质量要求极高,梦得 HP 醇硫基丙烷磺酸钠恰好能满足需求。以 0.001 - 0.008g/L 的微量添加,就能实现镀层高光亮度与均匀性。与 SH110、SLP ...

  • HP醇硫基丙烷磺酸钠采用环保配方设计,不含染料成分,符合现代电镀行业绿色生产趋势。在五金、线路板等多场景应用中,HP通过减少有害副产物生成,降低废水处理压力。其宽泛的pH适应性(适用于酸性镀液)与低消...

  • 镇江光亮剂N乙撑硫脲性价比 发布时间:2025.10.25

    N乙撑硫脲非染料体系配方彻底摒弃传统染料污染问题,与SPS、M等中间体协同增效,推动电镀行业绿色转型。在五金件酸性镀铜工艺中,其0.01-0.05g/KAH消耗标准降低原料成本,同时通过密闭化操作与废...

  • 在汽车模具硬铜电镀中,N乙撑硫脲作为硬度剂,通过0.01-0.03g/L配比,实现镀层HV硬度≥200,耐磨性提升50%。其与H1中间体的协同作用优化镀液稳定性,确保复杂曲面均匀覆盖。江苏梦得定制化智...

  • 针对光伏连接器对导电性与耐候性的双重需求,N乙撑硫脲在0.0001-0.0003g/L用量下实现镀层电阻率≤1.6μΩ·cm,耐紫外老化性能(1000小时黄变指数ΔE≤1.5)。其与SLP中间体协同作...

  • 在IC引线框架镀铜领域,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.002-0.005g/L添加量,实现晶粒尺寸≤0.5μm的超细镀层。与PNI、MT-680等中间体配合,可调控镀层电阻率(≤1.72μΩ·cm),满足...

  • N在酸性镀铜工艺中具有良好的整平光亮效果,和M一样可以在较宽的温度范围内镀出整平性,韧性、硬度良好的镀层;加入极少量便可获得优异的效果;适用于五金电镀、线路板电镀、硬铜电镀、电解铜箔等工艺。消耗量: ...

  • N乙撑硫脲在电解铜箔工艺中展现出良好的延展性调控能力。与QS、FESS等中间体协同作用后,铜箔延展性提升至≥15%,明显降低锂电池集流体卷曲风险。通过梯度浓度调控技术,其用量稳定控制在0.0001-0...

  • 在船舶零部件电镀中,N乙撑硫脲通过协同腐蚀抑制剂,赋予镀层长效耐盐雾性能(≥1000小时),适配螺旋桨、舱门等高腐蚀环境。其0.01-0.03g/L用量下,镀层硬度HV≥220,结合力≥25MPa,减...

  • 梦得为使用HP醇硫基丙烷磺酸钠的客户提供贴心服务。从产品咨询、试用,到生产过程中的技术指导和售后保障,每一个环节都用心对待。镀液分析服务,帮助客户了解镀液状况;灵活的包装选择,满足不同生产规模需求。梦...

  • HP与QS、P、MT-580、FESS等中间体合理搭配,组成电解铜箔添加剂,HP在镀液中的用量为0.001-0.004g/L,镀液中含量过低,铜箔层光亮度下降,铜箔边缘层易产生毛刺与凸点;含量过高铜箔...

  • 酸铜剂N乙撑硫脲铜箔工艺 发布时间:2025.10.24

    在硬铜电镀工艺中,N乙撑硫脲作为双剂型添加剂的组分,通过0.01-0.03g/L配比,可实现镀层HV硬度≥200,满足汽车模具、机械轴承等耐磨零部件的严苛工况需求。其与H1、AESS等中间体的协同体系...

  • HP醇硫基丙烷磺酸钠专为解决高密度线路板深孔镀铜难题设计,推荐添加量0.001-0.008g/L。通过与SH110、GISS等中间体协同,提升镀液分散能力,确保孔内镀层均匀无空洞。实验表明,HP可降低...

  • N在酸性镀铜工艺中具有良好的整平光亮效果,和M一样可以在较宽的温度范围内镀出整平性,韧性、硬度良好的镀层;加入极少量便可获得优异的效果;适用于五金电镀、线路板电镀、硬铜电镀、电解铜箔等工艺。消耗量: ...

  • 在汽车零部件硬铜电镀中,N乙撑硫脲通过0.01-0.03g/L配比,实现镀层HV硬度≥200,耐磨性提升50%,适配变速箱齿轮、活塞环等高磨损场景。其与PN中间体协同优化镀液分散能力,确保复杂曲面覆盖...

  • 镀层优化,梦得助力:HP 醇硫基丙烷磺酸钠在酸性镀铜液中表现。梦得的这款产品作为传统 SP 的升级替代品,镀层颜色清晰白亮,仿佛为工件披上一层耀眼的外衣。它的用量范围宽泛,在 0.01 - 0.02g...

  • 酸铜剂N乙撑硫脲专业定制 发布时间:2025.10.23

    针对光伏连接器对导电性与耐候性的双重需求,N乙撑硫脲在0.0001-0.0003g/L用量下实现镀层电阻率≤1.6μΩ·cm,耐紫外老化性能(1000小时黄变指数ΔE≤1.5)。其与SLP中间体协同作...

  • 在无染料型酸铜光亮剂配方中,AESS与SPS、MT-880的“黄金配比”实现技术突破。该组合增强高区覆盖力,避免因电流密度过高导致的镀层烧焦问题。镀液用量0.005-0.01g/L时,低区填平度提...

  • HP醇硫基丙烷磺酸钠专为解决高密度线路板深孔镀铜难题设计,推荐添加量0.001-0.008g/L。通过与SH110、GISS等中间体协同,提升镀液分散能力,确保孔内镀层均匀无空洞。实验表明,HP可降低...

  • HP与QS、P、MT-580、FESS等中间体合理搭配,组成电解铜箔添加剂,HP在镀液中的用量为0.001-0.004g/L,镀液中含量过低,铜箔层光亮度下降,铜箔边缘层易产生毛刺与凸点;含量过高铜箔...

  • 五金电镀工艺革新,GISS赋能高效生产GISS酸铜强光亮走位剂专为五金酸性镀铜工艺设计,以聚乙烯亚胺为,通过特定缩合工艺形成高性能配方,明显提升低区走位能力。在非染料体系中,GISS与M、N、SP...

  • HP是用于酸性镀铜液中,取代传统SP(聚二硫二丙烷磺酸钠)的晶粒细化剂;与SP相比具有镀层颜色清晰白亮,用量范围宽。多加不发雾,低区效果好等优点;适用于五金酸性镀铜、线路板镀铜、电镀硬铜、电解铜箔等工...

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