真空度:真空度是真空镀膜机的关键指标,它直接影响镀膜质量。高真空度可减少杂质气体对膜层的污染,提高膜层纯度与致密性。如蒸发镀膜要求达到 10⁻³ - 10⁻⁵Pa,溅射镀膜通常需 10⁻⁴ - 10⁻...
装饰与消费品行业: 建筑与家居装饰 应用场景:不锈钢门窗的金色或黑色镀膜、玻璃的隔热膜。 技术需求:高装饰性、耐候性的薄膜,需磁控溅射或蒸发镀膜。 示例:金色不锈钢板通过P...
光学与光电子行业: 光学镜头与滤光片 应用场景:相机镜头增透膜、激光器高反射膜、分光镜滤光膜。 技术需求:精确控制膜层厚度和折射率,需光学镀膜设备(如离子辅助沉积)。 太阳...
设备结构特点复杂的系统集成:真空镀膜设备是一个复杂的系统集成,主要包括真空系统、镀膜系统、加热系统(对于需要加热的镀膜过程)、冷却系统、监测系统等。真空系统是设备的基础,保证工作环境的真空度;镀膜...
化学气相沉积(CVD)设备: 常压CVD(APCVD):在大气压下进行化学气相沉积,可以适用于大面积基材的镀膜,如太阳能电池的减反射膜。 低压CVD(LPCVD):在低压环境下进行沉积...
电子信息行业: 半导体与集成电路: 应用场景:芯片制造中的金属互连层(如铝、铜)、阻挡层(如氮化钛)及钝化保护层。 技术需求:高纯度、低缺陷的薄膜沉积,需采用PVD(如磁控溅射)...
光学行业相机镜头镀膜案例:尼康、佳能等相机镜头制造商使用真空镀膜设备为镜头镀增透膜和多层膜。例如,在高级单反相机镜头的制造中,通过气相沉积(PVD)的方法,利用电子束蒸发镀膜技术,将氟化镁(MgF₂)...
设备检查与维护定期对真空镀膜机进行检查和维护,及时发现并解决潜在的问题。检查设备的各个部件是否有损坏或松动,如有需要及时更换或紧固。对设备的电气系统进行检查,确保各电气元件的性能良好,连接可靠。同时,...
化学气相沉积(CVD)原理:利用气态的化学物质在高温、催化剂等条件下发生化学反应,生成固态的薄膜物质,并沉积在基底表面。反应过程中,气态反应物通过扩散或气流输送到基底表面,在表面发生吸附、反应和脱附等...
真空系统操作启动真空泵时,要按顺序操作,先启动前级泵,再启动主泵。抽气过程中,通过真空计监测真空度,若真空度上升缓慢或不达标,应立即停止抽气,检查设备是否泄漏或存在其他故障。镀膜时,要保持真空环境稳定...
其他特种镀膜设备: 电子束蒸发镀膜设备:利用电子束加热高熔点材料,适用于高纯度、高性能膜层的制备,如光学薄膜、半导体薄膜等。 多弧离子镀膜设备:利用电弧放电产生高能离子,适用于金属陶瓷...