PVD镀膜机的原理 真空环境：在真空腔体内（气压通常低于10⁻³Pa），气体分子极少，避免与沉积材料发生碰撞或化学反应，...

真空腔室材质：不锈钢（耐腐蚀、易清洁），内壁抛光以减少薄膜沉积死角。配置： 靶材组件：多个电弧靶（可旋转或固定），靶材材...

迁移阶段：气态原子/分子在真空中的运动 直线运动 在真空环境下（气压低于10⁻² Pa），气体分子密度极低，气态原...

工艺环保，符合绿色生产标准 无有害污染物排放 磁控溅射在真空环境中进行，无需使用电镀中的强酸、强碱电解液，也不会产...

装饰领域：珠宝首饰镀膜：在珠宝、首饰表面镀上一层金属或合金薄膜，如镀银、镀金、镀铑等，可以增加其光泽度和美观度，同时提高耐磨性和耐...

工艺灵活性与定制化能力强 多材料兼容性：支持金属（铝、铜）、陶瓷（氮化硅、氧化铝）、化合物（ITO、ZnO）等多种材料镀...

薄膜纯度高、均匀性好真空环境有效避免了杂质混入，薄膜纯度高；同时，通过优化靶材布局、磁场分布等参数，可实现大面积均匀镀膜，尤其...

典型应用案例 半导体行业：在晶圆表面沉积铝或铜互连层，通过磁控溅射实现高纯度、低电阻薄膜。 光学领域：在镜头表面镀...

高沉积效率，适合规模化生产 溅射速率快，产能高 磁场约束电子延长了其在靶材附近的运动路径，显著提高气体电离效率和离...