远程等离子体源(Remote Plasma Source,RPS)是一种用于产生等离子体的装置,它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。RPS 通过将气体输送到装置中,利用电场...
RPS远程等离子源在热电材料制备中的创新应用在碲化铋热电材料图案化中,RPS远程等离子源通过Cl2/Ar远程等离子体实现各向异性刻蚀,将侧壁角度控制在88±1°。通过优化工艺参数,将材料ZT值提升至1...
在薄膜沉积工艺(如PVD、CVD)中,腔室内壁会逐渐积累残留膜层,这些沉积物可能由聚合物、金属或氧化物组成。随着工艺次数的增加,膜层厚度不断增长,容易剥落形成颗粒污染物,导致器件缺陷和良品率下降。RP...
RPS远程等离子源如何应对高深宽比结构的清洗挑战:在半导体制造中,高深宽比结构(如深孔或沟槽)的清洗极为困难,传统方法难以渗透。RPS远程等离子源通过其高扩散性的自由基,能够深入微观结构,均匀去除残留...
RPS远程等离子源应用领域在生物医疗器件,特别是微流控芯片、体外诊断(IVD)设备和植入式器械的制造中,扮演着表面功能化改性的重要角色。许多高分子聚合物(如PDMS、PC、COC)因其优异的生物相容性...
视频光学接触角测量仪,是通过光学外观投影的原理,对液体与固体样品的轮廓进行分析的过程,这也是视频光学测量仪的测试原理。通过记录液滴图像并且自动分析液滴的形状,用液滴轮廓拟合方法对获得的图像进行分析,测...
什么是接触角?液滴在固体的表面达到平衡时,在气、液、固三相交界处,气、液界面 和液固界面之间的夹角称为接触角。接触角是表征材料表面润湿性能的主要手段。晟鼎接触角测量仪采用双边测量,接触角取平均值,确保...
传统等离子清洗技术(如直接等离子体)常因高能粒子轰击导致工件损伤,尤其不适用于精密器件。相比之下,RPS远程等离子源通过分离生成区与反应区,只 输送长寿命的自由基到处理区域,从而实现了真正的“软”清洗...
半导体制造对工艺洁净度和精度要求极高,任何微小的污染或损伤都可能导致器件失效。RPS远程等离子源通过其低损伤特性,在清洗和刻蚀步骤中发挥重要作用。例如,在先进节点芯片的制造中,RPS远程等离子源可用于...
表面自由能计算功能作为接触角测量仪的重要扩展功能,在材料研发、工艺优化、质量控制等环节具有重要应用价值。在材料成分分析中,通过表面自由能各分量的占比,可判断材料表面的化学组成与基团分布:若极性分量占比...
RPS远程等离子源在先进封装工艺中的重要性: 先进封装技术(如晶圆级封装或3D集成)对清洁度要求极高,残留污染物可能导致互联失效。RPS远程等离子源提供了一种温和而彻底的清洗方案,去除键合界...
接触角一般用θ表示测量结果:θ可以测量静态和动态接触角、静态和半动态表面/界面张力、表面自由能和液滴。可用的液滴形状有:固定液滴、悬浮液滴、后退接触角、倾斜液滴、前进接触角、捕获气泡。达因技术提供了一...
RPS远程等离子源在量子计算器件中的前沿应用在超导量子比特制造中,RPS远程等离子源通过O2/Ar远程等离子体去除表面磁噪声源,将量子比特退相干时间延长至100μs以上。在约瑟夫森结制备中,采用H2/...
RPS远程等离子源在高效清洗的同时,还具有明显 的节能和环保特性。其设计优化了气体利用率和功率消耗,通常比传统等离子体系统能耗降低20%以上。此外,通过使用环保气体(如氧气或合成空气),RPS远程等离...
在实际测量中,液体样品在测试过程中,经过的时间不同拟合的变化。理想情况下,通过自动生成的基线绘制处观图,来获得线性关系。根据该线坡度计算接触角和入渗速率。此外,为了计算接触角,除了液体表面张力和粘度值...
随着3D NAND堆叠层数突破500层,深孔刻蚀后的残留物清洗成为技术瓶颈。RPS远程等离子源利用其优异的自由基扩散能力,可有效清理 深宽比超过60:1结构底部的聚合物残留。通过优化远程等离子体参数,...
卫生领域的陶瓷通常有疏水涂层,使得水滚落表面,并带走水垢或污垢。表面疏水性与较大的水接触角相关。我们的光学接触角测量仪可在实验室或现场使用无损技术测量这个变量。同时,疏水涂层的稳定性也可在长期检查中测...
在钙钛矿的应用中,如太阳能电池,其表面性质对于光吸收和载流子传输具有重要影响。较大的接触角可能意味着液体在钙钛矿表面上的润湿性较差,这可能会影响到光吸收层的稳定性和效率。具体来说,如果钙钛矿的接触角较...
显示面板制造(如OLED或LCD)涉及多层薄膜沉积,腔室污染会直接影响像素均匀性和亮度。RPS远程等离子源通过非接触式清洗,有效去除有机和无机残留物,确保沉积工艺的重复性。其高均匀性特性特别适用于大尺...
什么是接触角?液滴在固体的表面达到平衡时,在气、液、固三相交界处,气、液界面 和液固界面之间的夹角称为接触角。接触角是表征材料表面润湿性能的主要手段。晟鼎接触角测量仪采用双边测量,接触角取平均值,确保...
接触角测量仪的表面自由能计算功能,基于表面物理化学中的界面张力理论,通过测量多种已知表面张力的液体在固体表面的接触角,结合数学模型计算固体表面的表面自由能及各分量(色散分量、极性分量、Lewis 酸碱...
RPS远程等离子源在热电材料制备中的创新应用在碲化铋热电材料图案化中,RPS远程等离子源通过Cl2/Ar远程等离子体实现各向异性刻蚀,将侧壁角度控制在88±1°。通过优化工艺参数,将材料ZT值提升至1...
RPS远程等离子源应用领域已深度扩展至2.5D/3D先进封装技术中。在硅通孔(TSV)工艺中,深硅刻蚀后会在孔内留下氟碳聚合物侧壁钝化层,必须在导电材料填充前将其完全去除,否则会导致电阻升高或互联开路...
随着3D NAND堆叠层数突破500层,深孔刻蚀后的残留物清洗成为技术瓶颈。RPS远程等离子源利用其优异的自由基扩散能力,可有效清理 深宽比超过60:1结构底部的聚合物残留。通过优化远程等离子体参数,...
接触角是液体/固体/空气界面与固体表面的接触角。当液滴被放置在光滑均匀的水平表面上时,它可能扩散到基底上,如果发生完全润湿,接触角将接近零。相反,如果润湿是部分的,则所得接触角在材料表面能的范围内达到...
接触角测量仪在多个领域都有广泛的应用,特别是在材料科学、生物医学和表面工程等领域。在材料科学领域,接触角测量仪被用于评估涂层、薄膜、纤维等材料的表面能和润湿性。通过测量不同液体在材料表面的接触角,可以...
在半导体晶圆制造流程中,表面清洁度直接影响后续光刻、镀膜、离子注入等工艺的质量,晟鼎精密接触角测量仪是晶圆清洗工艺质量控制的关键设备,通过测量水在晶圆表面的接触角判断清洁效果。晶圆在切割、研磨、光刻等...
RPS远程等离子源在先进封装中的解决方案针对2.5D/3D封装中的硅通孔(TSV)工艺,RPS远程等离子源提供了完整的清洗方案。在深硅刻蚀后,采用SF6/O2远程等离子体去除侧壁钝化层,同时保持铜导线...
RPS远程等离子源在功率器件制造中的关键技术在IGBT模块制造中,RPS远程等离子源通过优化清洗工艺,将芯片贴装空洞率从5%降至0.5%以下。采用H2/Ar远程等离子体在380℃条件下活化DBC基板表...
水滴角是指在气、液、固三相交点处所做的气-液界面的切线,切线在液体一方的与固-液交接线之间的夹角,是润湿程度的主要量化方式.水滴角测试现如今已经广泛应用于石油工业、浮选工业、医药材料、芯片产业、低表面...