captive bubble 法(悬泡法)是针对特殊样品(如多孔材料、粉末压片、高吸水材料)开发的接触角测量方法,解决了 sessile drop 法因样品吸水或液体渗透导致的测量失效问题。其原理与座...
水滴角测试仪的用途有很多,对各种材料均可进行水滴角测试,得到具体的亲水疏水数据,从而为表面性能研究提供可靠的保障。下面,晟鼎精密为您列举一些具体的应用行业,深度解析水滴角测试仪的应用和用途:1、触摸屏...
随着半导体封装向高密度、小型化、高频率发展,对封装工艺热加工精度与效率要求升高,晟鼎精密 RTP 快速退火炉凭借快速、精细的热加工能力,在倒装芯片封装、系统级封装(SiP)等先进封装中提升封装可靠性。...
蓝宝石衬底因耐高温、化学稳定性好、透光率高,广泛应用于 LED、功率器件制造,其制造中退火用于改善晶体质量、消除内应力,提升衬底性能,晟鼎精密 RTP 快速退火炉在蓝宝石衬底的制造中发挥重要作用。在蓝...
涂料行业是接触角测量仪的重要应用领域之一,晟鼎精密接触角测量仪通过测量涂料在基材表面的接触角,评估涂层的润湿性、附着力、耐水性等关键性能,指导涂料配方优化与施工工艺调整,提升涂料产品质量与市场竞争力。...
RPS远程等离子源在医疗器械制造中的洁净保障在手术机器人精密零件清洗中,RPS远程等离子源采用特殊气体配方,将生物相容性提升至ISO10993标准。通过O2/H2O远程等离子体处理,将不锈钢表面细菌附...
例如在高分子材料研发中,通过 sessile drop 法测量水在材料表面的静态接触角,可判断材料的疏水性能(接触角>90° 为疏水,>150° 为超疏水);在涂层工艺优化中,通过测量液滴铺展过程的动...
三维NAND闪存堆叠层数的不断增加,对刻蚀后高深宽比结构的清洗带来了巨大挑战。其深孔或深沟槽底部的刻蚀残留物(如聚合物)若不能彻底清理 ,将严重影响后续多晶硅或钨填充的质量,导致电荷陷阱和器件性能劣化...
RPS远程等离子源在医疗设备制造中的卫生标准:医疗设备(如植入物或手术工具)需要极高的清洁度和生物相容性。RPS远程等离子源能够彻底去除有机残留物和微生物污染物,满足严格的卫生标准。其非接触式过程避免...
在半导体器件制造中,欧姆接触的形成是关键环节,直接影响器件的导电性能与可靠性,晟鼎精密 RTP 快速退火炉凭借精细的控温与快速热循环能力,成为该环节的设备。欧姆接触形成过程中,需将金属电极与半导体衬底...
锂离子电池电极材料(正极 LiCoO₂、LiFePO₄,负极石墨、硅基材料)的结构与形貌影响电池容量、循环寿命、倍率性能,退火是优化电极材料结构与性能的关键工艺,晟鼎精密 RTP 快速退火炉在电极材料...
RPS远程等离子源与智能制造的集成:在工业4.0背景下,RPS远程等离子源可与传感器和控制系统集成,实现实时工艺监控和调整。通过收集数据 on 清洗效率或自由基浓度,系统能够自动优化参数,确保比较好性...
远程等离子源,是一种基于变压器电感耦合等离子体技术的duli式自由基发生器(RPS),可以有效的解离输入气体。产生清洗或蚀刻所需的自由基(氟、氧原子等),这些自由基通过腔室压差传输,远程等离子体内的电...
在钙钛矿的应用中,如太阳能电池,其表面性质对于光吸收和载流子传输具有重要影响。较大的接触角可能意味着液体在钙钛矿表面上的润湿性较差,这可能会影响到光吸收层的稳定性和效率。具体来说,如果钙钛矿的接触角较...
3C行业(计算机、通信、消费电子)对产品轻量化、小型化、集成化的追求,对表面处理技术提出了更高要求。大气等离子清洗机凭借其非接触式处理、在线式集成、环保无污染等优势,成为3C行业表面处理的...
半导体制造对工艺洁净度和精度要求极高,任何微小的污染或损伤都可能导致器件失效。RPS远程等离子源通过其低损伤特性,在清洗和刻蚀步骤中发挥重要作用。例如,在先进节点芯片的制造中,RPS远程等离子源可用于...
接触角一般用θ表示测量结果:θ可以测量静态和动态接触角、静态和半动态表面/界面张力、表面自由能和液滴。可用的液滴形状有:固定液滴、悬浮液滴、后退接触角、倾斜液滴、前进接触角、捕获气泡。达因技术提供了一...
在PERC、TOPCon等高效晶硅太阳能电池的制造工艺中,表面钝化质量是决定电池转换效率的主要 因素之一。RPS远程等离子源应用领域深入到这一绿色能源产业的关键环节。在沉积氧化铝(Al2O3)或氮化硅...
快速退火炉要达到均温效果,需要经过以下几个步骤:1. 预热阶段:在开始退火之前,快速退火炉需要先进行预热,以确保腔室内温度均匀从而实现控温精细。轮预热需要用Dummy wafer(虚拟晶圆),来确保加...
高性能光学透镜、激光器和光通信器件对薄膜(如增透膜、高反膜)的附着力和长期稳定性要求极为苛刻。任何微弱的表面污染或附着力不足都可能导致薄膜在温度循环或高能激光照射下脱落。RPS远程等离子源应用领域在此...
柔性电子器件(柔性显示屏、传感器、光伏电池)制造中,柔性基板(PI、PET)对高温敏感,传统退火炉长时间高温易导致基板收缩、变形或分解,影响器件性能与寿命,晟鼎精密 RTP 快速退火炉凭借低温快速热加...
新能源行业(如光伏、锂电池)对材料表面性能的要求日益严苛,真空等离子清洗机凭借其低温、均匀、无损伤的处理特性,成为新能源材料改性的关键设备。在光伏领域,真空等离子清洗机可用于硅片表面清洗与...
气体纯度是影响晟鼎精密 RTP 快速退火炉工艺效果的关键因素,杂质气体(如氧气、水分、碳氢化合物)可能导致样品氧化、污染或化学反应异常,因此设备在气体纯度控制方面具备完善的保障措施。设备对输入气体的纯...
RPS远程等离子源在热电材料制备中的创新应用在碲化铋热电材料图案化中,RPS远程等离子源通过Cl2/Ar远程等离子体实现各向异性刻蚀,将侧壁角度控制在88±1°。通过优化工艺参数,将材料ZT值提升至1...
RPS远程等离子源在功率器件制造中的可靠性提升:功率器件(如GaN或SiC半导体)对界面质量极为敏感。污染会导致漏电流或击穿电压下降。RPS远程等离子源提供了一种温和的清洁方法,去除表面氧化物和金属杂...
对于GaN、SiC等化合物半导体和MEMS传感器等精密器件,传统的等离子体工艺因其高能离子轰击和热效应容易造成器件性能的不可逆损伤。RPS远程等离子源应用领域在此提供了低损伤、高精度的解决方案。在Ga...
RPS远程等离子源应用领域在半导体前道制程中尤为关键,特别是在高级 逻辑芯片和存储芯片的晶圆清洗环节。随着技术节点向5纳米乃至更小尺寸迈进,任何微小的污染和物理损伤都可能导致器件失效。传统的湿法清洗或...
RPS远程等离子源在量子计算器件中的前沿应用在超导量子比特制造中,RPS远程等离子源通过O2/Ar远程等离子体去除表面磁噪声源,将量子比特退相干时间延长至100μs以上。在约瑟夫森结制备中,采用H2/...
RPS远程等离子源在功率器件制造中的关键技术在IGBT模块制造中,RPS远程等离子源通过优化清洗工艺,将芯片贴装空洞率从5%降至0.5%以下。采用H2/Ar远程等离子体在380℃条件下活化DBC基板表...
等离子清洗机在新材料研发中发挥关键作用,通过表面改性和清洗,助力开发高性能聚合物、纳米材料和生物相容性涂层。例如,在石墨烯或碳纳米管研究中,等离子清洗机可去除制备过程中的杂质,并引入官能团...