所述装置主体的内部底部中间部位固定连接有常闭式密封电磁阀,所述连接构件的内侧固定连接有过滤部件,所述装置主体的内部底端另一侧固定连接有收集仓,所述收集仓的另一侧底部固定连接有密封阀门,所述过滤部件的顶...
腔室10及过滤器30可以采用与现有技术相同的设计。处于剥离制程中的玻璃基板,按照玻璃基板传送方向从当前腔室101开始逐级由各腔室10向玻璃基板供给剥离液以进行剥离制程。剥离液从当前腔室101进入相应的...
也不能在回收结束后对装置内部进行清理的问题。为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种废铜蚀刻液的回收处理装置,包括装置主体,所述装置主体内部中间位置固定安装有分隔板,所述分隔板左端表面靠近中间位置...
本实用涉及蚀刻设备技术领域,具体为一种ito蚀刻液制备装置。背景技术:蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的...
采用此方法可以制备出负性光刻胶所能制备的任意结构,同时相比于传统的加工,本方案加工效率可以提高上千倍,且图形的结构越大相对的加工效率越高。本发明为微纳制造领域,光学领域,电学领域,声学领域,生物领域,...
若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;取出被阻塞的所述过滤器。在一些实施例中,所述若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开...
光电行业的大力发展,致使剥离液被国内外研究人员所关注及研究,虽然在**网及技术网上对剥离液的阐述较少,但当前国内与国外均在剥离液废液如何利用及处置方面有了一定的成果,。美国专利US7273560公布了...
具体实施方式现有技术中剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,或者回收后需要通过大量的时间分析其含量以及花大量时间...
本技术通过以下技术方案来实现上述目的:一种印刷品胶面印刷剥离复合装置,包括主支撑架、横向支架、伺服变频电机、电机减速箱、印刷品放置箱、表面印刷结构、胶面剥离结构,所述主支撑架上方设置有所述横向支架,所...
剥离液是一种通用湿电子化学品,主要用于去除金属电镀或者蚀刻加工完成后的光刻胶和残留物质,同时防止对衬底层造成破坏。剥离液是集成电路、分立器件、显示面板、太阳能电池等生产湿法工艺制造的关键性电子化工材料...
腔室10及过滤器30可以采用与现有技术相同的设计。处于剥离制程中的玻璃基板,按照玻璃基板传送方向从当前腔室101开始逐级由各腔室10向玻璃基板供给剥离液以进行剥离制程。剥离液从当前腔室101进入相应的...
根据对华新光电、日东集团的剥离液成分进行分析得知,剥离液主要成分为单乙醇胺(MEA),二甲亚砜(DMS0)和二乙二醇单丁醚(BDG),其中市场上大部分以二乙二醇单丁醚居多。剥离液废液多呈深黑色且气味大...
本实用新型涉及光刻胶生产设备,具体是一种光刻胶废剥离液回收装置。背景技术:光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,其是由溶剂、感光树脂、光引发剂和添加剂四种成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外...
随着国内电子制造产业和光电产业的迅速发展,光刻胶剥离液等电子化学品的使用量也大为増加。特别是纵观近几年度的光电行业,风靡全球的智能手持设备、移动终端等简直成为了光电行业的风向标:与之相关的光电领域得到...
所述功能切换口外部并联有高纯水输入管线和沉淀剂输入管线,所述二级过滤罐的底部设有废液出口,所述一级过滤罐和二级过滤罐内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。上述的光刻胶废剥离液回收装置,所述一级过滤罐和二级...
提高反应体系的稳定性。当体系中加入过氧化氢后有助于提高过氧化氢的稳定性,避免由于过氧化氢分解而引发的,提高生产的安全性。具体实施方式下面结合实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例用于更...
随着电子元器件制作要求的提高,相关行业应用对湿电子化学品纯度的要求也不断提高。为了适应电子信息产业微处理工艺技术水平不断提高的趋势,并规范世界超净高纯试剂的标准,国际半导体设备与材料组织(SEMI)将...
所述功能切换口3外部并联有高纯水输入管线1和沉淀剂输入管线2。所述二级过滤罐13的底部设有废液出口20。所述一级过滤罐16和二级过滤罐13内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。本实施例中,所述一级过滤罐1...
本发明提供的光刻胶剥离去除方法第二实施例,用于半导体制造工艺中,可应用于包括但不限于mos、finfet等所有现有技术中涉及光刻胶剥离去除的生产步骤,主要包括以下步骤:s1,在半导体衬底上淀积一层二氧...
所述液位计连接有液相气相温度传感器和压力传感器。在其中一个实施例中,所述分离器的侧壁上设有多个视镜。在其中一个实施例中,所述液位计安装于所述分离器的外表面。在其中一个实施例中,所述液位开关为控制阀,设...
所述过滤器包括多个并列排布的子过滤器,所述道包括多个子管道,每一所述子管道与一子过滤器连通,且所述多个子管道与当前级腔室对应的存储箱连通。在一些实施例中,所述第二管道包括公共子管道及多个第二子管道,每...
其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。再者,本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法,其特征在于,在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板...
若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;取出被阻塞的所述过滤器。在一些实施例中,所述若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开...
高世代面板)表面上,或透入其表面,而把固体物料润湿,剥离液亲水性良好,能快速高效地剥离溶解光刻胶。因此,本申请中的高世代面板铜制程光刻胶剥离液由酰胺、醇醚、环胺与链胺、缓蚀剂、润湿剂组成。其中,酰胺可...
可选择的,旋涂光刻胶厚度范围为1000埃~10000埃。s3,执行离子注入:可选择的,离子注入剂量范围为1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮氢混合气体执行等离子刻蚀,对光刻胶进行干...
根据新思界产业研究中心发布的《2020-2024年中国剥离液行业市场供需现状及发展趋势预测报告》显示,剥离液属于湿电子化学品的重要品类,近几年受新能源、汽车电子等产业的快速发展,我国湿电子化学品市场规...
能够除去抗蚀剂。用本发明剥离液处理施加有抗蚀剂的基材的条件没有特别限定,例如,可以举出在设为10~80℃的本发明剥离液中浸渍基材1~60分钟左右的条件、将设为10~80℃的本发明剥离液向基材喷雾1~6...
按照玻璃基板传送方向从当前腔室101开始逐级由各腔室10向玻璃基板供给剥离液以进行剥离制程。剥离液从当前腔室101进入相应的存储箱20,在剥离液的水平面超过预设高度后流入过滤器30,再经过过滤器30的...
本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种光刻胶剥离液再生方法。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越***。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻出...
剥离液是用来干嘛的?简单了解了剥离液的朋友圈,接下来,我们就展开讲讲剥离液是做什么的吧。剥离液通常用在蚀刻工艺完成之后,用于去除光刻胶和残留物质,同时防止对下层的衬底层造成损坏。可以说我们现在正在看的...