siendoobligatorioelusodeacoplamientoscompatiblesconlamangueradelcamióncisternaylabocadecargadelo
queseencuentrenentrámitedeautorizaciónenlafechadeentradaenvigordelpresenteRealDecreto,seguiránri...
íatendráunapendientehaciaeldepósitotalquepermitalaevacuacióndeposiblescondensadosycomomínimoésta...
该实施例中所含成分及各成分称取的质量显示于表1。添加剂为丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分别为总质量的%、%。实施例2本发明的实施例按蚀刻液总质量为400g进行配制,先称...
在上述硅烷系偶联剂的含量处于上述含量范围内的情况下,能够调节添加剂本身凝胶化,且获得合适的sio2防蚀和sin蚀刻性能。(c)水本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述水可以为用于半导体工序的去离子...
也不能在回收结束后对装置内部进行清理的问题。为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种废铜蚀刻液的回收处理装置,包括装置主体,所述装置主体内部中间位置固定安装有分隔板,所述分隔板左端表面靠近...
如上所述的挡液板结构,其中宣泄孔的孔径小于3毫米(millimeter,mm)。如上所述的挡液板结构,其中宣泄孔为千鸟排列或矩阵排列等其中的一种排列方式。如上所述的挡液板结构,其中宣泄孔为直通...
近年来,oled显示器广泛应用于手机和平板显示。金属银以优异的电导率和载流子迁移率被广泛应用于oled显示器的阳极布线(ito/ag/ito)结构中。为了对此进行蚀刻,目前主要使用基于磷酸...
本申请实施例还提供一种剥离液机台的工作方法,请参阅图5,图5为本申请实施例提供的剥离液机台的工作方法的流程示意图,该方法包括:步骤110、将多级腔室顺序排列,按照处于剥离制程的剥离基板的传...
本发明涉及半导体制造领域,特别是涉及一种用于包括但不限于半导体生产工艺中光刻胶去除步骤的光刻胶剥离去除方法。背景技术:光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转...
光刻胶残留大,残留分布不均匀,并且产生边缘聚集残留。为了能够进一步地表示配方一和配方二之间的光刻胶残留量对比,图2中将多张单张检测图进行叠加,可以更加清楚地看出两者之间的区别,能够明显地看出使...
每一所述第二子管道502与所述公共子管道501连通,所述公共子管道501与所述下一级腔室102连通。其中,阀门开关60设置在每一子管道301上。在一些实施例中,阀门开关60设置在每一***...
若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;取出被阻塞的所述过滤器。在一些实施例中,所述若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上...
本实用新型涉及资源回收再利用领域,特别是涉及含铜蚀刻液气液分离装置。背景技术:线路板生产工业中,会对已经使用于蚀刻线路板的含铜蚀刻废液进行回收利用,在回收过程中,废液在加热器中通过蒸汽进行换热...
本发明提供的光刻胶剥离去除方法第二实施例,用于半导体制造工艺中,可应用于包括但不限于mos、finfet等所有现有技术中涉及光刻胶剥离去除的生产步骤,主要包括以下步骤:s1,在半导体衬底上淀积...
能够除去抗蚀剂。用本发明剥离液处理施加有抗蚀剂的基材的条件没有特别限定,例如,可以举出在设为10~80℃的本发明剥离液中浸渍基材1~60分钟左右的条件、将设为10~80℃的本发明剥离液向基材喷雾1~6...
图2为本申请实施例提供的剥离液机台的第二种结构示意图。图3为本申请实施例提供的剥离液机台的第三种结构示意图。图4为本申请实施例提供的剥离液机台的第四种结构示意图。图5为本申请实施例提供的剥离液...
形成带有沉淀物的固液混合物,打开一级过滤罐进料管路上的电磁阀18,固液混合物进入一级过滤罐16的过滤筒中,先由一级过滤罐16的过滤筒过滤得到一级线性酚醛树脂,滤液由提升泵6送往搅拌釜的循环料口...
12、伸缩杆;13、圆环块;14、连接杆;15、回流管;16、增压泵;17、一号排液管;18、一号电磁阀;19、抽气泵;20、排气管;21、集气箱;22、二号排液管;23、二号电磁阀;24、倾...
根据对华新光电、日东集团的剥离液成分进行分析得知,剥离液主要成分为单乙醇胺(MEA),二甲亚砜(DMS0)和二乙二醇单丁醚(BDG),其中市场上大部分以二乙二醇单丁醚居多。剥离液废液多呈深...
但现有的回收装置普遍存在如下问题:剥离废液利用水洗装置水洗过滤出光刻胶树脂成分,回收率低。为了解决这一问题,现有技术通常再向剥离废液中加入沉淀剂继续反应,而后沉淀过滤出光刻胶树脂成分,但所得到...
如遇水,图案则随着背胶的脱落而脱落。这种印刷方法是通过滚筒式胶质印模把沾在胶面上的油墨转印到纸面上。由于胶面是平的,没有凹下的花纹,所以印出的纸面上的图案和花纹也是平的,没有立体感,防伪性较差。胶版...
从而可以在阀门开关60关闭后取下被阻塞的过滤器30进行清理并不会导致之后的下一级腔室102的剥离进程无法继续。其中,腔室10用于按照处于剥离制程的玻璃基板的传送方向逐级向玻璃基板分别提供剥离液...
根据对华新光电、日东集团的剥离液成分进行分析得知,剥离液主要成分为单乙醇胺(MEA),二甲亚砜(DMS0)和二乙二醇单丁醚(BDG),其中市场上大部分以二乙二醇单丁醚居多。剥离液废液多呈深...
本申请实施例还提供一种剥离液机台的工作方法,请参阅图5,图5为本申请实施例提供的剥离液机台的工作方法的流程示意图,该方法包括:步骤110、将多级腔室顺序排列,按照处于剥离制程的剥离基板的传...
每一所述第二子管道502与所述公共子管道501连通,所述公共子管道501与所述下一级腔室102连通。其中,阀门开关60设置在每一子管道301上。在一些实施例中,阀门开关60设置在每一***...
IC去除剥离液MSDS1.产品属性产品形式:混合溶液产品名称:ANS-908产品功能描述:用于COG重工,使IC与玻璃无损伤分离2.组成成份化学名称CASNo含量%(v)1-METHYL-2-...
高世代面板)表面上,或透入其表面,而把固体物料润湿,剥离液亲水性良好,能快速高效地剥离溶解光刻胶。因此,本申请中的高世代面板铜制程光刻胶剥离液由酰胺、醇醚、环胺与链胺、缓蚀剂、润湿剂组成。其中...
图3是一现有技术光刻胶剥离去除示意图二,其离子注入步骤。图4是一现有技术光刻胶剥离去除示意图三,其显示离子注入后光刻胶形成了主要光刻胶层和第二光刻胶层。图5是一现有技术光刻胶剥离去除示意图四,...
形成带有沉淀物的固液混合物,打开一级过滤罐进料管路上的电磁阀18,固液混合物进入一级过滤罐16的过滤筒中,先由一级过滤罐16的过滤筒过滤得到一级线性酚醛树脂,滤液由提升泵6送往搅拌釜的循环料口...