随着电子元器件制作要求的提高,相关行业应用对湿电子化学品纯度的要求也不断提高。为了适应电子信息产业微处理工艺技术水平不断提高的趋势,并规范世界超净高纯试剂的标准,国际半导体设备与材料组织(SEMI)将...
将装置主体1内部的蚀刻液进行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:对于这类的回收处理装置,首先将蚀刻液倒入进液漏斗6并由过滤网7过滤到进液管8中,之后蚀刻液流入到承载板3上的电解池4中时,启动液压缸11...
湿电子化学品位于电子信息产业偏中上游的材料领域。湿电子化学品上游是基础化工产品,下游是电子信息产业(信息通讯、消费电子、家用电器、汽车电子、LED、平板显示、太阳能电池、**等领域)。湿电子化学品的生...
形成带有沉淀物的固液混合物,打开一级过滤罐进料管路上的电磁阀18,固液混合物进入一级过滤罐16的过滤筒中,先由一级过滤罐16的过滤筒过滤得到一级线性酚醛树脂,滤液由提升泵6送往搅拌釜的循环料口7,往复...
从而可以在阀门开关60关闭后取下被阻塞的过滤器30进行清理并不会导致之后的下一级腔室102的剥离进程无法继续。其中,腔室10用于按照处于剥离制程的玻璃基板的传送方向逐级向玻璃基板分别提供剥离液;与多个...
技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生...
本实用涉及蚀刻设备技术领域,具体为一种ito蚀刻液制备装置。背景技术:蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的...
具体实施方式现有技术中剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,或者回收后需要通过大量的时间分析其含量以及花大量时间...
技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生...
本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻...
例如即使为50/50μm以下的线/间距、推荐10/10~40/40μm的线/间距也能除去抗蚀剂。实施例以下,举出实施例对本发明进行详细说明,但本发明不受这些实施例任何限定。实施例1抗蚀剂的剥离液的制备...
具体实施方式现有技术中剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,或者回收后需要通过大量的时间分析其含量以及花大量时间...
避免接触皮肤、眼睛和衣服;存储:密闭存放在阴凉干燥的地方8.防燥和人员保护极限N-Methyl-2-pyrrolidone80mg/m3(19ml/m3)DFGMAK(peaklimitationca...
随着电子元器件制作要求的提高,相关行业应用对湿电子化学品纯度的要求也不断提高。为了适应电子信息产业微处理工艺技术水平不断提高的趋势,并规范世界超净高纯试剂的标准,国际半导体设备与材料组织(SEMI)将...
1.显影液:显影液是一种溶液,用于在PCB板上显示铜线轨道的比例和位置,使其成为可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剥离液:剥离液是一种特殊的溶剂,用于将PCB板上的铜线轨道剥离开,以便重新焊接元件...
IC去除剥离液MSDS1.产品属性产品形式:混合溶液产品名称:ANS-908产品功能描述:用于COG重工,使IC与玻璃无损伤分离2.组成成份化学名称CASNo含量%(v)1-METHYL-2-PYRR...
以及一设置于基板下方的第二风刀,其中***风刀与第二风刀分别吹出一气体至基板。如上所述的蚀刻设备,其中蚀刻设备可进一步设置有一喷洒装置,喷洒装置相对于风刀装置一端而设置于挡液板结构的另一端部。如上所述...
剥离液是用来干嘛的?简单了解了剥离液的朋友圈,接下来,我们就展开讲讲剥离液是做什么的吧。剥离液通常用在蚀刻工艺完成之后,用于去除光刻胶和残留物质,同时防止对下层的衬底层造成损坏。可以说我们现在正在看的...
技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生...
上述组分中,酰胺是用于溶解光刻胶;醇醚是用于润湿、膨润、溶解光刻胶的;环胺与链胺,用于渗透、断开光刻胶分子间弱结合力;缓蚀剂,用于降低对金属的腐蚀速度;润湿剂,能够增强亲水性,使得剥离液亲水性良好,能...
使用当前级腔室相应的过滤器过滤来自当前级腔室的剥离液并将过滤后的剥离液传输至下一级腔室;若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;取出被阻塞的所述过滤器。在一些实...
光刻胶残留大,残留分布不均匀,并且产生边缘聚集残留。为了能够进一步地表示配方一和配方二之间的光刻胶残留量对比,图2中将多张单张检测图进行叠加,可以更加清楚地看出两者之间的区别,能够明显地看出使用配方一...
所述功能切换口外部并联有高纯水输入管线和沉淀剂输入管线,所述二级过滤罐的底部设有废液出口,所述一级过滤罐和二级过滤罐内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。上述的光刻胶废剥离液回收装置,所述一级过滤罐和二级...
本发明涉及半导体制造领域,特别是涉及一种用于包括但不限于半导体生产工艺中光刻胶去除步骤的光刻胶剥离去除方法。背景技术:光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝...
腔室10及过滤器30可以采用与现有技术相同的设计。处于剥离制程中的玻璃基板,按照玻璃基板传送方向从当前腔室101开始逐级由各腔室10向玻璃基板供给剥离液以进行剥离制程。剥离液从当前腔室101进入相应的...
本发明下述示例性实施例可以多种不同的形式来实施,并且不应当被解释为只限于这里所阐述的具体实施例。应当理解的是,提供这些实施例是为了使得本发明的公开彻底且完整,并且将这些示例性具体实施例的技术方案充分传...
光刻胶残留大,残留分布不均匀,并且产生边缘聚集残留。为了能够进一步地表示配方一和配方二之间的光刻胶残留量对比,图2中将多张单张检测图进行叠加,可以更加清楚地看出两者之间的区别,能够明显地看出使用配方一...
所述硫脲类缓蚀剂包括硫脲、苯基硫脲或月桂酰基硫脲中的一种。具体的,所述聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂为聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基聚氧乙烯醚、二壬基酚聚氧乙烯...
缩短了某些领域与发达国家技术上的差距.腾田化学技术团队具有丰富分析及研发经验,彻底解决了化工领域如金属表面处理剂、清洗剂、金属加工液、橡胶、塑料、胶黏剂、涂料、水处理药剂、纺织印染助剂等企业配方改进、...
其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。再者,本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法,其特征在于,在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板...