技术实现要素:本实用新型的目的在于提供高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,以解决上述背景技术中提出密封性差,连接安装步骤繁琐的问题。为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:高蚀刻速率无残留酸性铝...
使硝酸钾储罐21和其它储罐的内部形成一个密闭的空间,避免环境外部的杂质进入储罐内,有效的提高了装置使用的密封性;紧接着,将磷酸与醋酸在个搅拌仓23中充分搅拌混合均匀,然后在第二个搅拌仓23中与硝酸充分...
本实用涉及电子化学品生产设备技术领域,具体为高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置。背景技术:近年来,人们对半导体装置、液晶显示器的需求量不断增加的同时,对于这些装置所具有的配线、电极等的微小化、高性能...
注入量精确调配装置通过嵌入引流口2接入盐酸装罐7进行原料注入,工作人员通过负压引流器21将盐酸硝酸引向注入量控制容器18内,通过观察注入量控制容器18内的注入量观察刻度线19对注入量进行精确控制,当到...
能够除去抗蚀剂。用本发明剥离液处理施加有抗蚀剂的基材的条件没有特别限定,例如,可以举出在设为10~80℃的本发明剥离液中浸渍基材1~60分钟左右的条件、将设为10~80℃的本发明剥离液向基材喷雾1~6...
以及一设置于基板下方的第二风刀,其中***风刀与第二风刀分别吹出一气体至基板。如上所述的蚀刻设备,其中蚀刻设备可进一步设置有一喷洒装置,喷洒装置相对于风刀装置一端而设置于挡液板结构的另一端部。如上所述...
所述装置主体前端表面靠近左上边角位置设置有活动板,所述分隔板右端放置有蓄水箱,所述蓄水箱上端靠近右侧连接有进水管,所述回流管下端连接有抽水管,所述抽水管内部上端设置有三号电磁阀,所述装置主体前端表面靠...
技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生...
所述过滤器包括多个并列排布的子过滤器,所述道包括多个子管道,每一所述子管道与一子过滤器连通,且所述多个子管道与当前级腔室对应的存储箱连通。在一些实施例中,所述第二管道包括公共子管道及多个第二子管道,每...
将蚀刻液通过回流管抽入到一号排液管中,并由进液管导入到伸缩管中,直至蚀刻液由喷头重新喷到电解池中,可以充分的将蚀刻液中的亚铜离子电解转化为金属铜,起到循环电解蚀刻液的作用;该回收处理装置通过设置有伸缩...
本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种光刻胶剥离液再生方法。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越***。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻出...
技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生...
光电行业的大力发展,致使剥离液被国内外研究人员所关注及研究,虽然在**网及技术网上对剥离液的阐述较少,但当前国内与国外均在剥离液废液如何利用及处置方面有了一定的成果,。美国专利US7273560公布了...
使用当前级腔室相应的过滤器过滤来自当前级腔室的剥离液并将过滤后的剥离液传输至下一级腔室;若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;取出被阻塞的所述过滤器。在一些实...
阀门开关60设置在每一子管道301上。在一些实施例中,阀门开关60设置在每一子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些实施例中,阀门开关60设置在每一第二子管道502上。具体的,阀门开关60的设...
具体实施方式现有技术中剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,或者回收后需要通过大量的时间分析其含量以及花大量时间...
所述功能切换口外部并联有高纯水输入管线和沉淀剂输入管线,所述二级过滤罐的底部设有废液出口,所述一级过滤罐和二级过滤罐内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。上述的光刻胶废剥离液回收装置,所述一级过滤罐和二级...
若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;取出被阻塞的所述过滤器。在一些实施例中,所述若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开...
本技术通过以下技术方案来实现上述目的:一种印刷品胶面印刷剥离复合装置,包括主支撑架、横向支架、伺服变频电机、电机减速箱、印刷品放置箱、表面印刷结构、胶面剥离结构,所述主支撑架上方设置有所述横向支架,所...
避免接触皮肤、眼睛和衣服;存储:密闭存放在阴凉干燥的地方8.防燥和人员保护极限N-Methyl-2-pyrrolidone80mg/m3(19ml/m3)DFGMAK(peaklimitationca...
本申请涉及半导体工艺技术领域,具体涉及一种剥离液机台及其工作方法。背景技术:剥离(lift-off)工艺通常用于薄膜晶体管(thinfilmtransistor)制程中的光罩缩减,lift-off先形...
剥离液是一种通用湿电子化学品,主要用于去除金属电镀或者蚀刻加工完成后的光刻胶和残留物质,同时防止对衬底层造成破坏。剥离液是集成电路、分立器件、显示面板、太阳能电池等生产湿法工艺制造的关键性电子化工材料...
光电行业的大力发展,致使剥离液被国内外研究人员所关注及研究,虽然在**网及技术网上对剥离液的阐述较少,但当前国内与国外均在剥离液废液如何利用及处置方面有了一定的成果,。美国专利US7273560公布了...
故仍旧会有少量的药液51喷洒在挡液板结构10上而留下该药液51的水滴,而该药液51的水滴亦不能落入该基板20上,以避免基板20的蚀刻不均的现象产生;此外,该输送装置30用以承载并运送至少一该基板20于...
腔室10及过滤器30可以采用与现有技术相同的设计。处于剥离制程中的玻璃基板,按照玻璃基板传送方向从当前腔室101开始逐级由各腔室10向玻璃基板供给剥离液以进行剥离制程。剥离液从当前腔室101进入相应的...
缩短了某些领域与发达国家技术上的差距.腾田化学技术团队具有丰富分析及研发经验,彻底解决了化工领域如金属表面处理剂、清洗剂、金属加工液、橡胶、塑料、胶黏剂、涂料、水处理药剂、纺织印染助剂等企业配方改进、...
避免接触皮肤、眼睛和衣服;存储:密闭存放在阴凉干燥的地方8.防燥和人员保护极限N-Methyl-2-pyrrolidone80mg/m3(19ml/m3)DFGMAK(peaklimitationca...
根据对华新光电、日东集团的剥离液成分进行分析得知,剥离液主要成分为单乙醇胺(MEA),二甲亚砜(DMS0)和二乙二醇单丁醚(BDG),其中市场上大部分以二乙二醇单丁醚居多。剥离液废液多呈深黑色且气味大...
本实用新型涉及光刻胶生产设备,具体是一种光刻胶废剥离液回收装置。背景技术:光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,其是由溶剂、感光树脂、光引发剂和添加剂四种成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外...
随着国内电子制造产业和光电产业的迅速发展,光刻胶剥离液等电子化学品的使用量也大为増加。特别是纵观近几年度的光电行业,风靡全球的智能手持设备、移动终端等简直成为了光电行业的风向标:与之相关的光电领域得到...