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企业商机 - 岱美仪器技术服务(上海)有限公司
  • 中国台湾免税价格键合机 发布时间:2024.06.25

    EVG®810LT LowTemp™等离子基活系统 适用于SOI,MEMS,化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统 特色 技术数据 EVG810LTLowTemp™等离子活化系统是具有手动操...

  • 中科院光刻机特点 发布时间:2024.06.24

    HERCULES光刻轨道系统技术数据:对准方式:上侧对准:≤±0.5µm;底侧对准:≤±1,0µm;红外校准:≤±2,0µm/具体取决于基材先进的对准功能:手动对准;自动对准;动态对准。对准偏移校正:...

  • 衬底纳米压印报价 发布时间:2024.06.23

    UV纳米压印光刻EVGroup提供完整的UV纳米压印光刻(UV-NIL)产品线,包括不同的权面积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG...

  • 通过中心提供的试验生产线基础设施,WaveOptics将超越其客户对下个季度的预期需求,并有一条可靠的途径将大批量生产工艺和设备转移至能够大规模生产波导的指定设施适用于全球顶jiOEM品牌。WaveO...

  • 干涉仪轮廓仪报价 发布时间:2024.06.21

    轮廓仪的和新团队夏勇博士,江苏省双创人才15年ADE,KAL-Tencor半导体检测设备公司研发、项目管理经验SuperSightInc.CEO/共同创始人,太阳能在线检测设备唐寿鸿博士,国家千人**...

  • 三维芯片键合机质保期多久 发布时间:2024.06.21

    半导体器件的垂直堆叠已经成为使器件密度和性能不断提高的日益可行的方法。晶圆间键合是实现3D堆叠设备的重要工艺步骤。然而,需要晶片之间的紧密对准和覆盖精度以在键合晶片上的互连器件之间实现良好的电接触,并...

  • 吉林键合机有哪些品牌 发布时间:2024.06.20

    EVG®301技术数据晶圆直径(基板尺寸):200和100-300毫米清洁系统开室,旋转器和清洁臂腔室:由PP或PFA制成(可选)清洁介质:去离子水(标准),其他清洁介质(可选)旋转卡盘:真空卡盘(标...

  • 碳化硅光刻机实际价格 发布时间:2024.06.19

    HERCULES®■全自动光刻根踪系统,模块化设计,用于掩模和曝光,集成了预处理和后处理能力■高产量的晶圆加工■蕞多8个湿法处理模块以及多达24个额外烘烤,冷却和蒸汽填料板■基于EVG的IQAlign...

  • 安徽键合机可以免税吗 发布时间:2024.06.18

    对准晶圆键合是晶圆级涂层,晶圆级封装,工程衬底zhizao,晶圆级3D集成和晶圆减薄方面很有用的技术。反过来,这些工艺也让MEMS器件,RF滤波器和BSI(背面照明)CIS(CMOS图像传感器)的生产...

  • SOI键合机原理 发布时间:2024.06.17

    ZiptronixInc.与EVGroup(简称“EVG”)近日宣布已成功地在客户提供的300毫米DRAM晶圆实现亚微米键合后对准精度。方法是在EVGGeminiFB产品融合键合机和SmartView...

  • EVG®850LTSOI和直接晶圆键合的自动化生产键合系统 用途:自动化生产键合系统,适用于多种熔融/分子晶圆键合应用 特色 技术数据 晶圆键合是SOI晶圆制造工艺以及晶圆级3D集成的一项关键技术。借...

  • 重庆掩模对准纳米压印 发布时间:2024.06.15

    UV纳米压印光刻EVGroup提供完整的UV纳米压印光刻(UV-NIL)产品线,包括不同的权面积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG...

  • 晶片纳米压印代理商 发布时间:2024.06.15

    EVG610特征:顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形误差补偿机制电动和程序控制的曝光间隙支持蕞新的UV-LED技术蕞小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念(无限数量的用户帐户...

  • 江苏光刻机推荐产品 发布时间:2024.06.15

    EVG620NT特征2:自动原点功能,用于对准键的精确居中具有实时偏移校正功能的动态对准功能支持蕞新的UV-LED技术返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统自动化系统上的手动基板装载功能可以从半自动版本升级...

  • 高精度电容位移传感器是一种非接触电容式原理的精密测量仪器,具有一般非接触式仪器所共有的无磨擦、无损磨和无惰性特点外,还具有信噪比大,灵敏度高,零漂小,频响宽,非线性小,精度稳定性好,抗电磁干扰能力强和...

  • 低温光刻机美元价 发布时间:2024.06.14

    EVG®150光刻胶处理系统分配选项:各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000cP的粘度液体底漆/预湿/洗盘去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR)恒压分配系统/注射器分配系统电阻分配泵具有流量监控功能...

  • 西藏原装进口光刻机 发布时间:2024.06.14

    EVG120光刻胶自动处理系统:智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)用于过程和机器控制的集成分析功能并行任务/排队任务处理功能设备和过程性能根踪功能智能处理功能:事/故和警报分析/智能维护管理和...

  • 位移传感器是一种测量物体或构件位置和方向的传感器,用于测量在直线和/或角位移方向上的物理运动,可用于各种应用,包括:1. 机械加工行业:用于测量机器的精度和位置,以确保产品的精度和质量。同时,还可用于...

  • 光干涉膜厚仪生产国 发布时间:2024.06.13

    集成电路故障分析故障分析(FA)技术用来寻找并确定集成电路内的故障原因。故障分析中需要进行薄膜厚度测量的两种主要类型是正面去层(用于传统的面朝上的电路封装)和背面薄化(用于较新的覆晶技术正面朝下的电路...

  • 光学镀膜膜厚仪国内用户 发布时间:2024.06.13

    技术介绍:红外干涉测量技术,非接触式测量。采用Michaelson干涉方法,红外波段的激光能更好的穿透被测物体,准确的得到测试结果。产品简介:FSM413EC红外干涉测量设备适用于所有可让红外线通过的...

  • 宁夏键合机竞争力怎么样 发布时间:2024.06.13

    Plessey工程副总裁JohnWhiteman解释说:“GEMINI系统的模块化设计非常适合我们的需求。在一个系统中启用预处理,清洁,对齐(对准)和键合,这意味着拥有更高的产量和生产量。EVG提供的...

  • 二维轮廓仪原理 发布时间:2024.06.13

    系统培训的注意事项如何使用电子书阅读软件和软、硬件的操作手册;数据采集功能的讲解:通讯端口、连接计算器、等待时间等参数的解释和参数设置;实际演示一一讲解;如何做好备份和恢复备份资料;当场演示各种报表的...

  • 轮廓测量轮廓仪用途是什么 发布时间:2024.06.13

    轮廓仪在集成电路的应用封装Bump测量视场:72*96(um)物镜:干涉50X检测位置:样品局部面减薄表面粗糙度分析封装:300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析面粗糙度分析:2D,3D显示;线粗糙度分析...

  • 3D轮廓仪推荐产品 发布时间:2024.06.13

    1)白光轮廓仪的典型应用:对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。2)共聚焦...

  • 安徽隔振台联系电话 发布时间:2024.06.12

    AVI200-MAVI200-M的隔离始于1,2Hz,超过10HZ以上迅速增加至35db减少低频谐振可得到比普通的被动空气阻尼系统更好的性能AVI200-M系统固有的刚性赋予其出色的方向性和位置稳定性...

  • 广东隔振台美元价 发布时间:2024.06.12

    AVI400-XLAVI400-XL的基本配置包括两个紧凑型隔振模块和一个控制单元,最大负载为800公斤。通过增加紧凑型单元的数量,可以轻松实现对更高负载的支持。为了使AVI400-M适应用户特...

  • 上海隔振台厂家 发布时间:2024.06.12

    LFS-3传感器在三个轴上测量水平和垂直加速度,频率约为0.2Hz。该传感器直接放置在地板上,与标准AVI/LP系统结合使用在前馈回路中,以提高极低频时的隔振性能。LFS-3可以被复装到现有的AVI/...

  • FSM360拉曼光谱系统FSM紫外光和可见光拉曼系统,型号360FSM拉曼的应用l局部应力;l局部化学成分l局部损伤紫外光可测试的深度优袖的薄膜(SOI或Si-SiGe)或者厚样的近表面局部应力可见光...

  • 奥地利光刻机售后服务 发布时间:2024.06.11

    光刻机处理结果:EVG在光刻技术方面的合心竞争力在于其掩模对准系统(EVG6xx和IQAligner系列)以及高度集成的涂层平台(EVG1xx系列)的高吞吐量的接近和接触曝光能力。EVG的所有光刻设备...

  • 四川隔振台有哪些品牌 发布时间:2024.06.11

    TS-140+40TS-140+40结合了久经考验的技术特点与优雅且用户友好的设计这种中型动态隔振系统非常适合所有需要顶板上空间比TS-150更大的应用。在公制(M6x25mm)或非公制网格上钻孔的顶...

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