某生物物理实验室利用 Polos 光刻机开发了基于压阻效应的细胞力传感器。其激光直写技术在硅基底上制造出 5μm 厚的悬臂梁结构,传感器的力分辨率达 10pN,较传统 AFM 提升 10 倍。通过在悬臂梁表面刻制 100nm 的微柱阵列,实现了单个心肌细胞收缩力的实时监测,力信号信噪比提升 60%。该传感器被用于心脏纤维化机制研究,成功捕捉到心肌细胞在病理状态下的力学变化,相关数据为心肌修复药物开发提供了关键依据。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。Polos-µPrinter 入选《半导体技术》年度创新产品,推动无掩模光刻技术普及。BEAM-XL光刻机光源波长405微米
某基因treatment团队采用 Polos 光刻机开发了微米级 DNA 递送载体。通过 STL 模型直接导入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窝状微孔结构,载体的 DNA 负载量达 200μg/mg,较传统电穿孔法提升 5 倍。动物实验显示,该载体在肝脏靶向递送中,基因转染效率达 65%,且免疫原性降低 70%。其无掩模特性支持根据不同细胞表面受体定制载体形貌,在 CAR-T 细胞treatment中,CAR 基因导入效率从 30% 提升至 75%,相关技术已申请国际patent。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。天津POLOSBEAM光刻机分辨率1.5微米柔性电子制造:可制备叉指电容器与高频电路,推动5G通信与物联网硬件发展。
在微流体领域,Polos系列光刻机通过无掩模技术实现了复杂3D流道结构的快速成型。例如,中科院理化所利用类似技术制备跨尺度微盘阵列,研究细胞球浸润行为,为组织工程提供了新型生物界面设计策略10。Polos设备的精度与灵活性可支持此类仿生结构的批量生产,推动医疗诊断芯片的研发。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。
形状记忆合金、压电陶瓷等智能材料的微结构加工需要高精度图案定位。Polos 光刻机的亚微米级定位精度,帮助科研团队在镍钛合金薄膜上刻制出复杂驱动电路,成功制备出微型可编程抓手。该抓手在 40℃温场中可实现 0.1mm 行程的precise控制,抓取力达 50mN,较传统微加工方法性能提升 50%。该技术被应用于微纳操作机器人,在单细胞膜片钳实验中成功率从 40% 提升至 75%,为细胞级precise操作提供了关键工具。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。柔性电子:曲面 OLED 驱动电路漏电降 70%,弯曲半径达 1mm,适配可穿戴设备。
Polos光刻机在微机械加工中表现outstanding。其亚微米分辨率可制造80 µm直径的开环谐振器和2 µm叉指电极,适用于传感器与执行器开发。结合双光子聚合技术(如Nanoscribe系统),用户还能扩展至3D微纳结构打印,为微型机器人及光学元件提供多尺度制造方案。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。德国工艺:精密制造基因,10 年以上使用寿命,维护成本低,设备残值率达 60%。天津POLOSBEAM光刻机分辨率1.5微米
能源收集:微型压电收集器效率 35%,低频振动发电支持无源物联网。BEAM-XL光刻机光源波长405微米
某材料科学研究中心在探索新型纳米复合材料的性能时,需要在材料表面构建特殊的纳米图案。德国 Polos 光刻机成为实现这一目标的得力工具。研究人员利用其无掩模激光光刻技术,在不同的纳米材料表面制作出各种周期性和非周期性的图案结构。经过测试发现,带有特定图案的纳米复合材料,其电学、光学和力学性能发生了remarkable改变。例如,一种原本光学性能普通的纳米材料,在经过 Polos 光刻机处理后,对特定波长光的吸收率提高了 30%,为开发新型光电器件和光学传感器提供了新的材料选择和设计思路 。BEAM-XL光刻机光源波长405微米