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解决真空镀膜设备膜层不均匀的问题可以采取以下措施：调整镀液配方：确保镀液中各种成分的浓度均匀，并根据需要调整适当的参数，如温度、PH值等，以提高沉积速率的均匀性。优化电解槽结构：通过合理设计电解槽结构，改善电场分布的均匀性，避免在基材上出现局部沉积速率过快或过慢的情况。提前处理基材表面：在镀膜之前对基材进行表面清洁、抛丸处理、磨削等，确保基材表面平整、清洁，以减少不均匀因素的影响。定期维护设备：定期清洗、更换镀液，保持电解槽、电极等设备的清洁和良好状态，以确保电解液浓度的稳定和均匀。通过以上措施能够有效地解决真空镀膜设备在操作过程中出现的膜层不均匀问题，提高镀膜的质量和效率。宝来利真空镀膜机性能稳定，膜层均匀耐磨，有需要可以咨询！反光碗真空镀膜机供应商

进一步地，所述第二底板内和所述第二侧壁内均设有用于穿设温控管的通道，所述温控管埋设于所述通道内。一种真空镀膜设备，包括机械模块部件、工艺模块部件和本实用新型所述的真空反应腔室，所述工艺模块部件位于所述内反应腔内，部分所述机械模块部件位于所述外腔体内。本实用新型实施例提供的上述技术方案与现有技术相比具有如下***：本实用新型提供的真空反应腔室，包括用于提供真空环境的外腔体，以及位于所述外腔体内的用于进行工艺反应的内反应腔；并且，内反应腔的侧壁上设有自动门，工件自外腔体经自动门进入内反应腔中。其中，外腔室和内反应腔为嵌套结构，其内反应腔位于外腔室内。该结构中，相当于设置了两个腔室，其中外腔体用于提供真空环境，而工艺反应则在内反应腔中进行。由于采用双腔室结构，可以将工艺模块部件设置于内反应腔中，而与工艺反应无直接关系的机械模块部件则被设置于外腔室中。经抽真空处理后，位于外腔体中的工件再经自动门进入内反应腔中进行工艺反应，可以有效避免设备杂质和工件杂质进入内反应腔中。该结构可以避免工艺环境外的污染源进入工艺反应区域，避免工艺污染，提供工艺质量。由于设置双腔室，作为工艺反应区的内反应腔相对较小。半透真空镀膜机宝来利PVD真空镀膜机性能稳定，膜层均匀耐磨，细腻有光泽，有需要可以来咨询！

本实用新型涉及真空设备领域，尤其涉及一种真空反应腔室和真空镀膜设备。背景技术：目前，真空设备，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等离子体增强化学气相沉积）和pvd（physicalvaporde****ition，物宝来利相沉积）设备已被广泛应用于各种产品的生产过程中，如光伏电池、半导体器件等等。真空设备中(如pecvd设备、pvd设备)的宝来利真空反应室通常为单个反应腔室，传动部件和升降部件等机械模块部件以及溅射靶材等工艺模块部件均设置于该单个反应腔室内，这就造成反应腔室内的工艺环境不够封闭，容易造成工艺环境污染。另外，设置单个反应腔室时，由于工艺反应区域较大，容易造成工艺所需原料的浪费，同时，还会造成工艺反应过程中温度波动大，不可控因素较多，从而影响工艺过程。技术实现要素：本实用新型的宝来利真空目的在于提供一种真空反应腔室，以解决现有真空设备中由于只设置一个反应腔室造成的工艺环境易被污染、工艺原料易被浪费、环境温度可控性低等问题。本实用新型的第二目的在于提供一种包含本实用新型真空反应腔室的真空镀膜设备。为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：一种真空反应腔室，包括：用于提供真空环境的外腔体。

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这样就可以及时打开密封门，将基板取出准备下一次镀膜，能够有效防止镀膜材料喷溅，且省去坩埚降温的时间，提高了工作效率。(2)、该高分子等离子表面真空镀膜设备，通过腔体左侧的顶部固定连接有电机，并且电机输出轴的一端固定连接有双向螺纹杆，双向螺纹杆表面的两侧且位于腔体的内部均螺纹连接有活动块，两个活动块的底部均固定连接有限位板，电机工作能够调整两个限位板之间的距离，使限位板能够固定不同大小的基板，扩大了适用范围，适用性更强，提高了实用性。附图说明图1为本实用新型结构的立体图；图2为本实用新型结构的剖视图；图3为本实用新型图2中a处的局部放大图；图4为本实用新型宝来利真空密封盖结构的立体图；图5为本实用新型第二密封盖结构的立体图。图中：1腔体、2基板、3坩埚、4支撑腿、5密封门、6支撑板、7防护框、8宝来利真空滑轨、9活动板、10宝来利真空伸缩杆、11第二伸缩杆、12宝来利真空密封盖、13第二密封盖、14加热板、15降温板、16电机、17双向螺纹杆、18活动块、19限位板、20第二滑轨、21抽风机、22风管。具体实施方式下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然。宝来利真空镀膜机性能稳定，膜层均匀耐磨，工艺品质好，有需要可以咨询！蒸发镀膜机真空镀膜机工厂直销

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